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- [发明专利]低吸水率二氧化硅-CN02827628.0有效
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R·瓦莱罗;Y·舍瓦利耶
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罗狄亚化学公司
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2002-12-24
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2005-05-18
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C01B33/193
- 本发明涉及制备低吸水率沉淀二氧化硅的方法,包括以下连续步骤:(a)生产包括硅酸盐的初始原料,在所述原料中的硅酸盐浓度(以SiO2当量表示)低于15g/l;(b)通过添加酸化剂,使介质的pH达到7-8的值;(c)在所得介质中,同时添加硅酸盐和酸化剂,特定地选择硅酸盐和酸化剂的随时间变化的各自添加量,使得在整个添加过程中(i)反应介质的pH保持在7-8,(ii)在介质中的硅浓度(按SO2当量表示)保持低于或等于35g/l;(d)将酸化剂加入到由步骤(c)获得的介质中,以便使介质处于3-6.5的pH;和(e)过滤所得二氧化硅水分散体,然后干燥在过滤步骤最后获得的滤饼。本发明还涉及通过所述方法获得的低吸水率二氧化硅和它们的用途,尤其用于增强硅酮或聚合物或弹性体基质的用途。
- 吸水率二氧化硅
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