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[发明专利]一种红外、激光和微波低可探测性兼容的亚波长结构材料-CN201711327722.8有效
发明人： 罗先刚;蒲明博;李雄;马晓亮;申国庆 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-13 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种对红外、激光和微波低可探测性兼容的亚波长结构材料，其从上到下依次包括金属型频率选择表面层I、介质层I、金属型频率选择表面层II、介质层II、电阻膜、介质层III。金属型频率选择表面层均为亚波长贴片型阵列，所用金属具有低红外发射率的特性。本发明利用金属型频率选择表面层I上的两种不同尺寸的贴片产生的相位差来调控相位，进而控制入射电磁波的后向散射来实现对激光与红外兼容的低可探测性，而底部三层实现对微波的吸收。本发明克服了传统吸波覆层材料仅工作在单一波段的局限，实现了对红外、激光和微波的兼容，并且材料结构简单、轻便。
一种红外激光微波探测兼容波长结构材料

[发明专利]一种基于介质柱结构的多波长消色差超表面偏振测量器件-CN202010205845.X在审
发明人： 罗先刚;马晓亮;蒲明博;李雄;申宜佳 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G01J4/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基于介质结构的多波长消色差超表面偏振测量器件，包括至下而上的一层介质衬底和介质柱结构，其中上层介质柱结构由变宽度和变旋转角度的纳米柱结构构成。本发明设计巧妙，结构简单，通过变宽度介质柱结构，可实现对电磁波高效率调控。本发明可用于设计消色差透镜、偏振测量、成像等超表面功能器件，对推进超表面的实用化具有重要意义。
一种基于介质结构波长色差表面偏振测量器件

[发明专利]一种可见光透明的辐射致冷多层膜-CN201711361964.9有效
发明人： 罗先刚;马晓亮;蒲明博;李雄;郭迎辉 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本发明提出了一种可见光透明的辐射致冷多层膜，包括交替排布的厚度不同的N层多层膜；该可见光透明的辐射致冷多层膜采用了一种新的膜层排布方式，使得该多层膜在实现辐射致冷的同时具有极高的可见光透过率。其中，所述多层膜由氧化铟锡(ITO)和光刻胶两种材料组成。利用这两种材料介电常数的差异，在材料层之间形成谐振腔，这种谐振腔增强了所在区域内的电场强度，从而可以使得整个结构的辐射率相比于原体材料得到大幅度的提升。本发明具有结构简单，加工方便，制冷效果好，可见光透过率高，成本低等有益效果。
一种可见光透明辐射致冷多层

[发明专利]一种基于棱台分光的超分辨光刻装置-CN201811509709.9有效
发明人： 罗先刚;王彦钦;赵承伟;王长涛;蒲明博 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于棱台分光的超分辨光刻装置，属于超分辨光刻装置的技术领域。该装置包括用于产生i线紫外曝光光束的光源、用于激发照明的棱台分光超分辨光刻镜头和用于承载基片的工作台。该装置通过棱台分光超分辨光刻镜头，方便地实现了四极表面等离子体激发离轴照明，同时可以实现零极、两极、四极照明的切换，扩展了焦深，光场均匀性更好，集成度高，提高了近场工作距和成像对比度，实现了超分辨光刻。
一种基于分光分辨光刻装置

[发明专利]一种基于相变材料的具有动态色彩显示的光调制器件及其制备方法-CN201711337708.6有效
发明人： 罗先刚;李雄;蒲明博;马晓亮;宋世超;高平 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：本发明提供一种基于相变材料的具有动态色彩显示的光调制器件及其制备方法，包括衬底、金属层、相变材料层、介质层、金属纳米结构层、保护层。本发明通过金属‑相变材料‑介质‑金属结构之间电磁波的相互耦合作用和电磁波在两层金属结构上产生的电磁响应，在相变材料发生相态变化时可实现色彩的动态变化以及器件工作波段的调控，且色彩可实时反映出工作波段的变化以及灰度调制的程度。本发明结构简单，易于加工和使用，可实现单一结构器件多功能化。
一种基于相变材料具有动态色彩显示调制器件及其制备方法

[发明专利]一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台-CN201711316128.9有效
发明人： 罗先刚;蒲明博;高平;马晓亮;薛磊 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台，该承片台核心部件为阳极氧化铝孔基板，表面均布纳米级气孔，与气流盘连通，气流盘接通气源后，整个阳极氧化铝孔基板均匀气流，在曝光与掩模板贴合的过程中，增大气源气压，使得基片脱离阳极氧化铝孔基板挤压掩模板，实现气浮曝光，能够有效的提高曝光精度。曝光过程中，工作区域温度升高，该承片台在温度升高一定范围内平整精度升高，避免基片扭曲变形，图形失真等现象,同时也避免了基片受力不均、内部应力大的问题。
一种适用于柔性衬底纳米阵列承片台

[发明专利]真空表面等离子体光刻装置-CN201711316358.5有效
发明人： 罗先刚;马晓亮;高平;赵泽宇;蒲明博;薛磊 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空表面等离子体光刻装置，包括真空发生机组、真空腔体、真空机械手臂组成三大系统，真空腔体内为光刻区域，真空气缸限制掩模架Z向位移；承片台上真空槽负压吸附，提高基片与掩模版结合度；对准光路配合掩模版、承片台完成基片对准；然后通过物镜将标记成像于高清CCD图像探测器上。光纤探头检测掩模版与基片之间的三点间隙值，反馈信号；三点压电直线电机配置光栅尺闭环实现调平回路；三点微型直线电机上下运动应用于基片取放；旋转铜台材质为黄铜，在小角度旋转弹性变形完成自动复原。三点自由球支撑，防止铜台承载变形。该装置能大幅度降低由于环境中颗粒及空气的存在造成的光刻图形缺陷、提高光刻分辨力及曝光重复性。
真空表面等离子体光刻装置

[发明专利]一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构-CN201711317532.8有效
发明人： 罗先刚;高平;蒲明博;薛磊;马晓亮;赵泽宇 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构，该装置用于光刻机中实现对掩模版与基片之间的被动调平。该装置以承片台为基准，承片台推动掩模版向上移动，一定位移距离后掩模版上的光栅尺清零，然后掩模版在重力的作用下回到初始位置，通过光栅尺计数控制三点步进电机步数，通过齿轮啮合带动掩模版Z向上升，掩模版调平后，步进电机自锁，执行电动缸执行下压控制，完成对掩模版调平后的固定，本发明通过减少调平基准的方式，有效改善曝光后图形扭曲变形、分辨率低等现象，本发明采用了以基片上升推动掩模版完成调平锁紧的机构，故该装置需受承片台推动力后完成启动，故称之为被动式调平锁紧机构。
一种应用于光刻装置被动式调平锁紧机构

[发明专利]一种基于悬链线的宽带可调三维电磁吸收材料-CN201810780905.3有效
发明人： 罗先刚;蒲明博;马晓亮;黄奕嘉;李雄 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2018-07-17 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基于悬链线的宽带可调三维电磁吸收材料，包括一层柔性电阻膜和位于电阻膜下方的金属反射板；其中，电阻膜的周期可以任意调节并且在重力的作用下形成对应的三维悬链线结构。利用不同周期下三维悬链线结构对入射电磁波的不同响应可以实现对正向反射电磁波的高效调控，从而实现宽带可调的正向反射缩减。本发明采用了新的三维超材料排布方式，所述宽带可调三维电磁吸收材料具有结构简单，工作带宽大，成本低，重量轻等优势，而且对不同线偏振电磁波可以有不同的调制响应，适应不同的应用环境。本发明的工作波段和调制效果可以根据需要进行相应的调整。可广泛应用于微波暗室、以及手机、微波炉等电磁辐射防护领域。
三维悬链线宽带电磁吸收材料可调电磁波电阻膜调制电磁辐射防护反射电磁波金属反射板工作波段排布方式任意调节柔性电阻微波暗室应用环境响应超材料工作带可调的线偏振重量轻微波炉对正入射手机正向反射调控应用

[发明专利]一种基于相变材料的可调宽带偏振转换和动态几何相位调制器件-CN201711346476.0有效
发明人： 罗先刚;蒲明博;张作军;张明;马晓亮 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：本发明提供一种基于相变材料的可调宽带偏振转换和动态几何相位调制器件，该器件自下而上依次包括：金属反射层，相变材料层，介质隔离层以及超表面结构层。本发明基于相变材料开展偏振转换和几何相位调制器件设计，通过电激发、光激发或热激发等方式改变相变材料的晶态和介电常数等光学材料参数，在宽波段范围内实现偏振转换的动态调制，继而通过几何相位调制实现可调控波束偏折、平板透镜、计算全息和轨道角动量等新型功能器件的设计。该方法可进一步提高超表面的电磁调制能力，为功能可调的新型电磁波调制元件的设计提供了新的思路和技术方案。
一种基于相变材料可调宽带偏振转换动态几何相位调制器件

[发明专利]一种基于旋转晶向的非线性位相梯度超表面-CN201711346465.2有效
发明人： 罗先刚;马晓亮;蒲明博;李雄;谢鑫 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于旋转晶向的非线性位相梯度超表面，包括具有三重(C
线性光学系统非线性相位亚波长金属传统的晶向狭缝非线性几何旋转对称性原理和应用表面单元多重旋转高阶谐波几何相位相位梯度五边形等高基波中位调制认知携带

[发明专利]深埋富水破碎带长距离隧道的泄水结构-CN201910843057.0在审
发明人：房玉中;杨海航;李兴瑷;罗先刚;王金琳;邰鹤;刘龙卫;张文明;辛国平 -专利权人：中铁隧道集团一处有限公司
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： E21F16/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种深埋富水破碎带长距离隧道的泄水结构，在靠近平导出口段掌子面的位置处设置有第一挡水墙，第一挡水墙的下部未封底形成出水口，对平导出口段掌子面及第一挡水墙之间的围岩通过锚杆加固，在平导内的横洞靠近出口的一侧设置有第二挡水墙，在正洞内的横洞靠近出口的一侧设置有第三挡水墙；在第一挡水墙与第二挡水墙之间的隧道段的左右两侧、横洞的左右两侧设置有排水沟，在横洞的出口修建有与自然河沟连接的排水渠，平导的待开挖段上钻有贯通出口段与已开挖段的泄水孔。专用于隧道尚未贯通，待开挖段长度达到800米以上，日涌水量大，出口下方为居民区或厂区等不适合排水的特殊隧道快速泄水。
挡水墙隧道开挖左右两侧导出口出口贯通锚杆加固泄水结构出口段出水口排水沟排水渠破碎带位置处泄水孔涌水量封底河沟厂区深埋围岩泄水正洞居民区排水修建

[发明专利]一种基于金属悬链线光栅的高效率可调谐圆偏振分束器-CN201910648160.X在审
发明人： 罗先刚;李雄;马晓亮;蒲明博;谢鑫 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2019-07-18 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： H01Q15/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于金属悬链线光栅的高效率可调谐圆偏振分束器，通过在一层金属板上铣出周期性排列的悬链线光栅而成。利用这种结构可以实现超过90％的分束效率。此外，通过向悬链线沟槽里注入液体(例如酒精)，并控制液体的高度，可以调节该器件的工作频率。
金属悬链分束器高效率可调谐线光栅悬链线圆偏振周期性排列光栅工作频率注入液体金属板分束酒精

[发明专利]基于柔性材料的超分辨光刻装置-CN201711316114.7有效
发明人： 罗先刚;赵承伟;李猛;王长涛;王彦钦;罗云飞 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于柔性材料的超分辨光刻装置，包括光源系统、掩模吸附板、掩模、柔性基片、承片台、密封球耳、弹性薄膜、弹性薄膜压板、升降台、精密气压控制系统。光源系统位于掩模的上方，掩模吸附板上开有环形槽，通过抽取真空，掩模吸附在掩模吸附板上，柔性基片位于掩模下方，柔性基片置于承片台表面，承片台表面开有环形气槽，柔性基片被真空吸附在承片台上，密封球耳安装在承片台上，承片台开有台阶孔，弹性薄膜通过弹性薄膜压板固定在台阶孔内，弹性薄膜与承片台形成密闭空间，台阶孔侧壁开有气孔与精密气压控制系统相连，承片台下表面与升降台相连，可以调节基片与掩模之间距离。解决了基片与掩模之间憋气问题对超分辨光刻的影响。
基于柔性材料分辨光刻装置

[发明专利]一种大面积超分辨光刻装置-CN201711346477.5有效
发明人： 罗先刚;赵承伟;李猛;王长涛;赵泽宇 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种大面积超分辨光刻装置，属于超分辨光刻设备的技术领域。该装置包括隔振地基、主动隔振平台、主基板、紫外曝光光源、间隙检测系统、对准模块、超分辨光刻镜头模块、工件台模块、激光干涉测量系统、超精密环控系统和控制系统。该设备通过干涉技术，实现了纳米量级精度的在线间隙检测；通过精密调平和间隙控制技术，实现了几十纳米量级间隙光刻功能；通过承片台局部气控技术，实现了大面积超分辨步进光刻功能。
超分辨光刻超分辨光刻装置纳米量级激光干涉测量系统间隙检测系统主动隔振平台光刻设备环控系统间隙检测间隙控制镜头模块控制系统紫外曝光超精密承片台工件台主基板步进隔振气控光源地基精密对准干涉