专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体结构及其制作方法-CN202110833035.3在审
  • 尤康;白杰 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-22 - 2023-02-03 - H01L21/8238
  • 本申请实施例提供一种半导体结构及其制作方法,包括:提供包括核心NMOS区、核心PMOS区及外围NMOS区的基底;对核心PMOS区的基底进行氧化处理,以将核心PMOS区部分厚度的基底转化为氧化层;去除氧化层;在核心PMOS区的剩余基底上形成第一半导体层,第一半导体层中的空穴迁移率大于核心PMOS区的基底中的空穴迁移率;形成栅介质层,栅介质层位于第一半导体层上、核心NMOS区以及外围NMOS区的基底上;在栅介质层上形成栅极。本申请实施例涉及半导体领域,有利于降低核心PMOS区及核心NMOS区的高度差,从而便于后续的生产工艺。
  • 半导体结构及其制作方法
  • [发明专利]反推力装置和航空发动机-CN202010587183.7有效
  • 白杰;张波;何鹏 - 中国航发商用航空发动机有限责任公司
  • 2020-06-24 - 2023-02-03 - F02C7/24
  • 本公开涉及一种反推力装置和航空发动机。其中,反推力装置包括:反推固定框架,设有滑槽;反推移动外罩;可调面积喷管,位于反推移动外罩的后侧;第一滑轨,与滑槽配合安装,用于将反推移动外罩滑设在反推固定框架的外侧;以及第二滑轨,与滑槽配合安装,用于将可调面积喷管滑设在反推固定框架的外侧;其中,第一滑轨和第二滑轨中之一被配置为可部分地滑入第一滑轨和第二滑轨中另一。本公开反推力装置提高了滑槽的利用率,缩短了滑槽的长度,在保证可调面积喷管和反推移动外罩在正常运行的前提下,降低了反推固定框架的长度和重量,提高了反推装置的稳定性。
  • 推力装置航空发动机
  • [发明专利]室内甲醛消除时间的评估方法、装置及服务器-CN201811369012.6有效
  • 白杰 - 成都生活家网络科技有限公司
  • 2018-11-16 - 2023-01-31 - G06Q10/06
  • 本发明公开了一种室内甲醛消除时间的评估方法、装置及服务器,涉及环保领域。该方法包括:获得用户终端发送的待评估房屋内的第一甲醛浓度、当前季节参数、待评估房屋的房间参数、待评估房屋的位置信息以及待评估房屋内的除甲醛物质的种类和数量;将第一甲醛浓度、当前季节参数、房间参数、位置信息以及除甲醛物质的种类和数量进行量化得到多维输入向量;将多维输入向量作为预先训练好的室内甲醛消除时间评估模型的输入进行运算,得到待评估房屋的甲醛消除预估时间。本发明公开的室内甲醛消除时间的评估方法、装置及服务器能估算出待评估房屋的甲醛消除预估时间,无需多次请甲醛检测公司进行检测,同时避免反复检测为用户带来不必要的经济损失。
  • 室内甲醛消除时间评估方法装置服务器
  • [实用新型]一种多仓室样品运输储存箱-CN202221588878.8有效
  • 田凯;姚英杰;刘金宝;湛江;崔想;郭强;袁海鑫;闫柏霖;白杰 - 奥来国信(北京)检测技术有限责任公司
  • 2022-06-23 - 2023-01-31 - B65D81/07
  • 本实用新型公开了一种多仓室样品运输储存箱,包括底板,所述底板上方两侧设有支撑板,所述支撑板一侧设有卡座,所述卡座内部连接有弹簧顶杆,所述弹簧顶杆顶端与箱体连接,所述箱体内部上方设有若干储存罐,所述储存罐上方设有箱盖,所述箱盖上方两侧设有把手,所述箱盖外部一侧设有显示屏,所述显示屏下方设有连接板,所述箱盖内部设有密封板,所述密封板下方嵌入于所述箱体内部,本实用新型通过在箱体下方设置弹簧顶杆与阻尼弹簧,箱体可以在外部震动传来时通过弹簧顶杆与阻尼弹簧将震动缓冲,箱体内部设有保温棉,储存罐表面设有隔热棉,保温棉与隔热棉可以大大减少外部温度向储存罐内部转移,保持样品的品质。
  • 一种多仓室样品运输储存
  • [发明专利]半导体结构及半导体结构的制作方法-CN202110813115.2在审
  • 赵文礼;白杰 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-19 - 2023-01-24 - H01L27/092
  • 本公开涉及半导体技术领域,提出了一种半导体结构及半导体结构的制作方法。半导体结构包括衬底、NMOS晶体管以及PMOS晶体管,NMOS晶体管包括依次叠置的第一电介质层、第一功函数层以及第一导电层,PMOS晶体管包括依次叠置的第二电介质层、第二功函数层以及第二导电层。在半导体结构的制作过程中,会导致第一功函数层和第二功函数层内的金属元素扩散,可能会影响半导体结构阈值电压的调节,通过在第一功函数层朝向第二功函数层的一侧设置有第一侧壁隔离层,和/或,第二功函数层朝向第一功函数层的一侧设置有第二侧壁隔离层,可以阻止金属元素的交叉扩散,以此避免半导体结构阈值电压难以被调节的情况,从而改善半导体结构的性能。
  • 半导体结构制作方法
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202010230470.2有效
  • 尤康;白杰 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-03-27 - 2023-01-24 - H01L29/08
  • 一种半导体结构及其形成方法,所述形成方法包括,在衬底上形成有源区;在所述有源区中形成至少一个沟槽,所述沟槽至少将所述有源区分为位于沟槽一侧的源区和位于沟槽另一侧的漏区;在所述源区和所述漏区上分别形成抬高源区和抬高漏区。因而在有源区的尺寸一定的情况下,在前述形成沟槽时,可以使得沟槽的宽度增大,深度减小,深宽比减小,从而在有源区尺寸一定的情况下,使得在沟槽中形成栅极结构时栅极材料容易填充,并且形成的栅极结构电阻较小,同时使得所述源区和漏区的电学连接性能不会受到影响。
  • 半导体结构及其形成方法
  • [实用新型]一种液压系统用控制阀台总成-CN202222197217.9有效
  • 白杰 - 奇莱捷尔液压新技术发展(大连)有限公司
  • 2022-08-19 - 2023-01-20 - F15B13/02
  • 本实用新型公开了一种液压系统用控制阀台总成,包括控制阀、阀口和垫片,所述控制阀的外壁开设有阀口,所述控制阀的外壁安装有垫片,其特征在于,所述液压系统用控制阀台总成还包括,固定构件,安装在所述控制阀的外壁,其中,所述固定构件用于固定垫片。本实用新型设置液压系统用控制阀台总成通过固定块上的卡槽和膨胀杆的配合工作固定夹块,通过膨胀杆内部的插孔和插杆的配合工作固定夹块,通过膨胀杆和夹块的配合工作夹持固定垫片,通过上诉构件的配合工作使垫片不容易滑走,方便快速的安装其余零件,减少使用者的工作量,增加工作效率。
  • 一种液压系统控制总成
  • [实用新型]一种分体式可叠加液压站-CN202222863908.8有效
  • 白杰 - 奇莱捷尔液压新技术发展(大连)有限公司
  • 2022-10-29 - 2023-01-20 - F15B21/00
  • 本实用新型公开了一种分体式可叠加液压站,包括机壳,所述滑杆的一侧固接有与机壳的正面相固接的挡板,所述滑杆的外壁固接有与连板的一侧相贴合的挡块,所述滑杆的外壁活动相连有弹簧,所述弹簧的一侧与连板的一侧固定连接,所述连板的顶部固接有方板。本实用新型涉及液压站技术领域,通过连板、插杆和弹簧之间的配合,实现了对多个液压站的搭接,相比与传统的放置在地面上,节约了占地面积,解决了现有的装置由于需要多个液压站来对对不同设备进行供油工作,传统的摆放在地面上的方式占据了大面积的使用空间的问题,并且便于对多个设备进行整理。
  • 一种体式叠加液压
  • [实用新型]一种可收纳式5G电子信息通信设备-CN202122066790.1有效
  • 郭旭静;白杰;舒灵振 - 郭旭静
  • 2021-08-30 - 2023-01-20 - H05K5/02
  • 本实用新型公开了一种可收纳式5G电子信息通信设备,涉及电子信息通信技术领域。本实用新型包括一端为开口设置的收纳箱,所述收纳箱的两侧内壁均固定安装有挡板,所述收纳箱的内部活动设置有座板,所述座板位于挡板的下方。本实用新型在使用时,将通信设备主体直接放置在收纳箱内部的座板上端,能够对通信设备主体直接进行收纳,节省了组装的时间,同时在座板上设置有两个U型板对通信设备主体进行限位,避免设备滑动,由于座板能够在收纳箱内部活动,通信设备主体工作时,将座板从收纳箱中拉出,从而避免收纳箱对通信设备主体信号的干扰,在不使用时,将通信设备主体重新收入收纳箱中,避免了直接放置通信设备主体时的碰撞损伤,合理利用收纳箱。
  • 一种收纳电子信息通信设备
  • [发明专利]半导体结构及其制备方法-CN202110791525.1在审
  • 尤康;白杰 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-13 - 2023-01-17 - H10B43/40
  • 本申请实施例涉及一种半导体结构及其制备方法。该制备方法包括:提供基底,基底包括外围电路区域,所述外围电路区域内形成有浅沟槽隔离结构,浅沟槽隔离结构于外围电路区域内隔离出若干个间隔排布有源区;浅沟槽隔离结构内形成有氮化硅填充层;于有源区上形成叠层结构,所述叠层结构包括第一氧化硅掩膜层及氮化硅掩膜层,第一氧化硅掩膜层位于基底上,氮化硅掩膜层位于第一氧化硅掩膜层的上表面,并贯穿第一氧化硅掩膜层,与氮化硅填充层相接触;去除氮化硅掩膜层及部分氮化硅填充层,使得浅沟槽隔离结构中保留的氮化硅填充层的上表面与基底的上表面相平齐。消除了外围电路区域表面不平整对半导体结构电学性能的影响。
  • 半导体结构及其制备方法

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