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[发明专利]涂敷处理方法、计算机存储介质和涂敷处理装置-CN201780078574.2有效
发明人：稻叶翔吾;吉原孝介;畠山真一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-24 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种在基片上涂敷涂敷液的方法，其中，在形成于基片上的涂敷液的液膜干燥之前，一边使该基片以规定的转速旋转，一边对基片上的涂敷液的该液膜上的周边部供给涂敷液的溶剂，以在该周边部形成涂敷液与溶剂的混合层，然后，使基片以比规定的转速快的转速旋转，将混合层赶到外周侧，来控制干燥后的涂敷液的膜厚。
处理方法计算机存储介质装置

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及记录介质-CN201710728899.2有效
发明人： 畠山真一;渡边圣之;西幸三;户塚诚也;吉原健太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-23 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理方法、基板处理装置以及记录介质，有效提高涂布膜的膜厚的均匀性。涂布和显影装置(2)具备：喷嘴(22)，其向晶圆喷出处理液；压送部(40)，其向喷嘴侧加压输送处理液；送液管路(50)，其具有从压送部侧向喷嘴侧排列的阀(53、54)，用于从压送部向喷嘴引导处理液；以及控制器(100)。控制器构成为执行以下动作：在阀(54)关闭且阀(53)与阀(54)之间的压力比压送部与阀(53)之间的压力高的状态下打开阀(53)；控制压送部以使由于阀(53)打开而降低的阀(53)与阀(54)之间的压力上升；以及在由于阀(53)打开而阀(53)与阀(54)之间的压力降低之后打开阀(54)。
处理方法装置以及记录介质

[发明专利]涂敷处理装置和杯体-CN201810207953.3有效
发明人： 畠山真一;川上浩平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-03-14 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明在以旋转式在基板上涂敷涂敷液的涂敷处理装置中，防止涂敷液被设置于杯体内的气流控制板弹返而飞散到晶片的表面上。抗蚀剂涂敷装置包括收纳旋转卡盘(121)并从底部排气的杯体，该杯体包括：与保持于旋转卡盘(121)的晶片(W)相比位于顶部侧，包围该晶片(W)的外周的气流控制部(151)；和支承气流控制部的支承部(153)，该支承部其一个端部与杯体(125)的内周面连接，另一个端部与上述一个端部相比位于顶部侧并且与气流控制部连接，在上述支承部形成有在与晶片的旋转轴垂直的方向上穿透的形状的第1孔(153a)，在比该第1孔靠外侧下方的位置形成有在晶片的旋转轴方向上穿透的形状的第2孔(153b)。
处理装置

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN201810293097.8有效
发明人：川上真一路;水之浦宏;畠山真一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-03-30 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制伴随含金属覆膜的利用而产生的金属污染的基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。涂布/显影装置具备第一保护处理部、成膜部、第一清洗处理部以及控制部。控制部构成为执行以下控制：控制第一保护处理部，使之在晶圆的周缘部形成第一保护膜；控制成膜部，使之在晶圆的表面形成抗蚀膜；控制第一清洗处理部，使之向晶圆的周缘部供给用于去除抗蚀膜的第一清洗液；控制第一清洗处理部，使之向该周缘部供给用于去除金属成分的第二清洗液；以及控制第一清洗处理部，使之向该周缘部供给用于去除第一保护膜的第三清洗液。
处理装置方法以及存储介质

[实用新型]基板处理装置-CN202220205274.4有效
发明人： 畠山真一;川上浩平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，其不提高排气压地防止自基板甩出的成膜处理液向液体接受部的外部泄漏。基板处理装置包括：保持基板并使其旋转的保持旋转部、向基板供给成膜处理液的供给部以及接受因旋转而自基板甩出的成膜处理液的液体接受部，液体接受部在上部具有供基板穿过并向上方的空间开口的孔，液体接受部的内部被排气，基板处理包含供给处理和干燥处理，基板处理装置还包括相对于液体接受部的上表面进退自如的圆环状的圆环构件，在供给处理时，圆环构件以封堵液体接受部的孔的周缘的方式设于液体接受部的上表面，在干燥处理时，圆环构件自液体接受部的上表面退避。
处理装置

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN202210088864.8在审
发明人： 畠山真一;川上浩平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，不提高排气压地防止自基板甩出的成膜处理液向液体接受部的外部泄漏。基板处理装置包括：保持基板并使其旋转的保持旋转部、向基板供给成膜处理液的供给部、接受因旋转而自基板甩出的成膜处理液的液体接受部以及对基板处理进行控制的控制部，液体接受部在上部具有供基板穿过并向上方的空间开口的孔，液体接受部的内部被排气，基板处理包含供给处理和干燥处理，基板处理装置还包括相对于液体接受部的上表面进退自如的圆环状的圆环构件，控制部控制为：在供给处理时，圆环构件以封堵液体接受部的孔的周缘的方式设于液体接受部的上表面，在干燥处理时，圆环构件自液体接受部的上表面退避。
处理装置方法以及存储介质

[发明专利]基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质-CN202111325339.5在审
发明人：桾本裕一朗;上山昇太;寺本聪宽;西山雄太;畠山真一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供能够容易且简单地测量基片的处理中使用的处理液的释放量的基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质。基片处理系统包括：相对于载置台的载置部可拆装的测量单元；用于处理液的测量的测量治具；包含供给部的液处理单元，该供给部构成为能够对测量治具供给处理液；输送机构，其构成为能够在测量单元与液处理单元之间输送测量治具；和控制部。控制部执行以下处理：将测量单元内的测量治具从测量单元输送到液处理单元的处理；从供给部向测量治具释放处理液的处理；将测量治具从液处理单元输送到测量单元的处理；和基于测量单元中的测量值计算处理液的释放量的处理。
处理系统测量方法计算机可读存储介质

[发明专利]液处理方法和液处理装置-CN202110980802.3在审
发明人：黄庸根;畠山真一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够对基片的背面的除了周端以外的环状区域供给处理液以进行局部处理的液处理方法和液处理装置。液处理方法包括：将基片的背面的中心部载置在载置台上，并使该载置台旋转的工序；和从喷嘴对旋转的基片的背面的比周端靠中心的位置供给雾状的处理液，并且使该处理液挥发使得该处理液不会因离心力而被供给到该基片的周端，从而对该基片的背面的环状区域局部地进行处理的工序。
处理方法装置

[发明专利]液体处理方法和液体处理装置-CN201510919402.6有效
发明人：桥本崇史;畠山真一;柴田直树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供液体处理方法、液体处理装置和液体处理用记录介质，能够提高对基板的处理液的涂敷状态的均匀性。涂敷单元(U1)包括：使晶片(W)旋转的旋转保持部(20)；向晶片(W)的表面(Wa)上供给处理液(R)的喷嘴(32)；和控制喷嘴(32)相对于晶片(W)的位置的控制部(60)。液体处理方法使晶片(W)以第一转速(ω1)旋转，同时在从晶片(W)的旋转中心(CL1)偏离的位置开始对晶片(W)的表面(Wa)供给处理液(R)，使处理液(R)的供给位置向旋转中心(CL1)侧移动，在处理液(R)的供给位置到达旋转中心(CL1)之后，以比第一转速(ω1)大的第二转速(ω2)使晶片(W)旋转，由此使处理液(R)在晶片(W)的外周侧涂敷扩展。
液体处理方法装置

[实用新型]图像形成装置和用于图像形成装置的操作面板单元-CN201920406541.2有效
发明人：小山芳弘;鸟井亮宏;和田朋广;冈村东熙;畠山真一 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种图像形成装置和用于该图像形成装置的操作面板单元。在所述操作面板单元(2)的壳体(10)内，配置有沿第一方向排列的主基板(50)和NFC基板(60)，在所述壳体(10)的外表面的与所述NFC基板(60)对应的位置设有NFC读取部(31)，在所述NFC基板(60)的与所述NFC读取部(31)相反的一侧配置有引导部件(50)，在所述引导部件(50)形成有向远离所述NFC基板(60)的方向突出的导向部(51)，连接所述主基板(50)和所述NFC基板(60)的线束(S)从所述导向部(51)的在所述第一方向上与所述主基板(50)相反的一侧通过。
图像形成装置用于操作面板单元

[实用新型]图像形成装置和用于图像形成装置的操作面板单元-CN201920406980.3有效
发明人：和田朋广;森敬贵;鸟井亮宏;小山芳弘;畠山真一 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种图像形成装置和用于该图像形成装置的操作面板单元。该操作面板单元(2)对所述图像形成装置(1)输入各种控制指令，在所述操作面板单元(2)的壳体(10)的表面设有相邻配置的显示部(20)和NFC读取部(31)，所述NFC读取部(31)从所述壳体(10)的表面向外突出，在所述NFC读取部的顶端形成有NFC读取面(33)，在所述NFC读取面印刷有NFC标记(39)，在所述NFC读取面中的印刷有所述NFC标记(39)以外的部位形成有从所述NFC读取面(33)突出的突出部(35、36)。
读取面读取操作面板单元图像形成装置壳体本实用新型印刷控制指令相邻配置突出部

[发明专利]液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质-CN201910422709.3在审
发明人： 畠山真一;一野克宪;冈泽智树;西山雄太;川原幸三;渡边圣之;饭田成昭;下川大辅;飞松武志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明对能够抑制处理液附着在喷嘴的下端面的液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质进行说明。液处理装置包括：处理液供给部，其构成为能够从位于基片的表面侧的喷嘴对表面供给处理液；引导部件，其构成为能够引导从喷嘴释放的处理液的液流；和控制部。喷嘴包括平坦的下端面，在该下端面设有用于释放处理液的释放口。控制部执行以下动作：控制处理液供给部，以使得在下端面靠近表面的状态下从释放口对表面实释放处理液的动作；和控制处理液供给部，以使得在引导部件位于释放口附近的状态下从释放口向引导部件虚释放处理液的动作。
喷嘴释放口释放处理液引导部件处理液液处理装置控制处理供给部下端面处理液供给部存储介质可读取液处理附着下端液流平坦释放计算机

[实用新型]图像形成装置和用于该图像形成装置的操作面板单元-CN201920406674.X有效
发明人：冈村东熙;畠山真一;阿部晃治;鸟井亮宏;和田朋广;小山芳弘 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种图像形成装置和用于该图像形成装置的操作面板单元。在所述操作面板单元(2)的壳体(10)内配置有显示部(20)、支承所述显示部(20)的支承板(50)、NFC基板(60)、以及USB端口(31)的至少一部分，所述显示部(20)与所述NFC基板(60)在第一方向上相邻配置，所述USB端口(31)的至少一部分位于所述支承板(50)的边缘(50a)和与该边缘(50a)相对的所述壳体(10)的边缘(10a)之间的空间(S)。
操作面板单元图像形成装置支承板基板壳体本实用新型相邻配置支承配置

[实用新型]图像形成装置和用于该图像形成装置的操作面板单元-CN201920406979.0有效
发明人：和田朋广;阿部晃治;畠山真一;松野卓士 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种图像形成装置和用于该图像形成装置的操作面板单元。该操作面板单元对所述图像形成装置输入各种控制指令，并包括：显示面；壳体，该壳体的外表面设有NFC操作面，该NFC操作面相对于所述显示面倾斜；以及NFC基板，该NFC基板配置在所述壳体的内部，并配置成与所述NFC操作面平行。
图像形成装置壳体操作面板单元操作面显示面本实用新型基板配置控制指令基板平行配置

[实用新型]用于图像形成装置的操作面板单元和图像形成装置-CN201920411228.8有效
发明人：鸟井亮宏;冈村东熙;森敬贵;小山芳弘;和田朋广;畠山真一 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：一种用于图像形成装置的操作面板单元和图像形成装置，当近场通信部与外部装置进行通信时，使外部装置稳定地呈倾斜的姿势，从而确保稳定的通信。操作面板单元包括：显示部，具有显示面，在第一方向上具有一端侧和另一端侧；近场通信部，位于显示部的一端侧，在第一方向上具有第一端侧和第二端侧，在第一方向上第二端侧比第一端侧距离显示部的一端侧更远，近场通信部相对于显示面在与显示面垂直的垂直方向上突出，具有倾斜面，使得近场通信部的突出量随着从第二端侧向第一端侧而在垂直方向上逐渐增大；以及突出部，位于显示部的另一端侧，相对于显示面在垂直方向上突出，在垂直方向上的突出量大于近场通信部在垂直方向上的最大突出量。
近场通信图像形成装置显示面操作面板单元第一端外部装置突出量侧向最大突出量距离显示逐渐增大垂直的倾斜面突出部侧比通信姿势

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