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[发明专利]滤光结构及其制造方法、成像系统及成像方法-CN202211260982.9在审
发明人：户权;吴晓斌;沙鹏飞;谢婉露;韩晓泉;王魁波;罗艳;李慧;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种滤光结构及其制造方法、成像系统及成像方法。该滤光结构包括由下而上依次层叠的锆膜、中间层膜和铝膜；所述中间层膜包括钼膜、铌膜或氮化锆膜。该滤光结构的制造方法包括：提供第一预设厚度的锆膜；在所述锆膜上镀上第二预设厚度的中间层膜，所述中间层膜包括钼膜、铌膜或氮化锆膜；在所述中间层膜上镀上第三预设厚度的铝膜，得到滤光结构。本申请实施例提供的滤光结构包括由下而上依次层叠的锆膜、中间层膜和铝膜，能够在很大程度上滤除杂散光，大大消除了杂散光的影响，从而提高了极紫外成像的成像质量，解决了相关技术中存在的对于杂散光的滤除效果不佳，受到杂散光的影响较大，导致极紫外成像系统的成像质量不高的技术问题。
滤光结构及其制造方法成像系统

[实用新型]表面颗粒检测系统-CN202221290093.2有效
发明人： 王魁波;吴晓斌;沙鹏飞;李慧;韩晓泉;罗艳;谢婉露;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G01N21/94 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种表面颗粒检测系统，该表面颗粒检测系统包括密闭容腔、参考光发生部、检测部和图形处理部。其中，密闭容腔为待检测部的加工腔室，且待检测部可移动地设置在密闭容腔内。参考光发生部发射的激光参考光束适于照射在待检测部上，且与待检测部的表面呈角度设置。检测部收集激光参考光束在待检测部上散射后的光信号。图形处理部可读取、储存和处理检测部输出的图像信息。本实用新型的表面颗粒检测系统利用现有的加工腔室配合参考光发生部、检测部和图形处理部，能够在设备内部实现对待检测部表面颗粒的原位检测，有助于提高待检测部表面颗粒检测和评估的可靠性。
表面颗粒检测系统

[发明专利]气浴发生器及光刻设备-CN202210952172.3在审
发明人： 王魁波;吴晓斌;罗艳;沙鹏飞;韩晓泉;李慧;谢婉露;高梓翔 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-08-09 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，提供了一种气浴发生器及光刻设备，其中气浴发生器包括环体结构和出风口加强结构，环体结构设有豁口，环体结构在豁口处形成相对设置的两端；出风口加强结构设于两端，出风口加强结构包括第二出气口；环体结构用于围绕工作区域设置，且环体结构内形成有气体流道，环体结构上设置有与气体流道连通的沿周向分布的多个第一出气口，第二出气口与气体流道连通，流经第一出气口的气体能够形成围绕工作区域分布的封闭气流层，流经第二出气口的气体能够形成封闭气流层和封堵豁口的封堵气流层。本发明提供的气浴发生器及光刻设备，很好地解决了如何降低光刻设备内硅片微环境的气体污染和颗粒污染的问题。
发生器光刻设备

[发明专利]一种极紫外光刻胶放气污染测试系统-CN201911171642.7有效
发明人：谢婉露;吴晓斌;王魁波;罗艳;张罗莎;王宇 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：一种极紫外光辐照致光刻胶放气污染测试系统，该系统包括极紫外光源腔室、光收集腔室、污染样品测试腔室，其中：极紫外光源腔室，用于发出辐照光；光收集腔室，用于将极紫外光源腔室发出的辐照光线反射聚焦进入污染样品测试腔室内；污染样品测试腔室，用于在光收集腔室传入的辐照光线的作用下，实现光刻胶受到极紫外光辐照时放气污染特性对系统部件性能影响的测试。本发明提供的极紫外光辐照致光刻胶放气污染测试系统，结构简单，操作方便，不仅可以研究极紫外光刻胶放气特性还可用于光刻胶放气污染对系统部件性能的影响，从而可以更好的评估光刻胶的污染特性。
一种紫外光刻放气污染测试系统

[发明专利]一种归一化能量测试装置及光学测量系统-CN202210552293.9在审
发明人：谢婉露;吴晓斌;沙鹏飞;王魁波;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-05-20 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种归一化能量测试装置及光学测量系统，所述装置包括：可调节光阑，用于调节光源传播光束的尺寸；两块反射镜，用于将被截止传输的部分光束以相同的入射角反射到能量探测器上；所述两块反射镜沿所述可调节光阑的中间开口的轴向对称设置于所述可调节光阑开口的边沿；两个第一能量探测器，用于探测所述两块反射镜的反射光。所述系统搭载了所述归一化能量测试装置，还包括：光源腔室，用于产生辐射光源；光束处理腔室，用于将辐射光源产生的光束处理成测试所需的光束；第一插板阀，用于分隔所述光源腔室和所述光束处理腔室；光学测量腔室，用于测量待测光学元件的性能参数；第二插板阀，用于分隔所述光束处理腔室和所述光学测量腔室。
一种归一化能量测试装置光学测量系统

[发明专利]一种可在线计量的材料放气精确测试装置及其方法-CN202210700122.6在审
发明人：罗艳;吴晓斌;王魁波;谢婉露;李慧;沙鹏飞;韩晓泉;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G01N7/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种可在线计量的材料放气精确测试装置及其方法，属于测量技术领域，以解决放气测试过程中存在的气体成分敏感和测量仪器灵敏度变化的问题。本发明的一种可在线计量的材料放气精确测试装置包括稳压室，设有第一真空抽气组件；测试室，设有第二真空抽气组件，所述第二抽气组件具有第一抽气通道和第二抽气通道；第一管路，所述稳压室和所述测试室通过所述第一管路连通，所述第一管路上设有分子流传感元件和第一阀门；第一真空计，设置在所述稳压室上；第二真空计，设置在所述测试室上；质谱仪，设置在所述测试室上。本发明可实现有效抽速、真空计和质谱仪的在线校准，保证材料放气测试的准确性。
一种在线计量材料放气精确测试装置及其方法

[发明专利]一种光学测量系统-CN202210552294.3在审
发明人：谢婉露;吴晓斌;沙鹏飞;韩晓泉;王魁波;李慧;罗艳;谭芳蕊;马赫 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-05-20 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G01N21/59 文献下载
摘要：本公开涉及一种光学测量系统，包括：光源腔室，用于产生并处理光束，辐射出极紫外单色光；光学测量腔室，用于测量待测光学器件的性能参数；插板阀，用于分隔所述光源腔室和所述光学测量腔室。所述光学测量腔室内具有测量光学器件性能参数的调节及探测部件以及归一化能量测试装置。所述归一化能量测试装置包括：透射光栅，用于对射入的光束发生多级衍射；可调节光阑，用于阻挡零级光及特定级数以外的衍射光；能量探测器，用于探测相应级数衍射光能量。
一种光学测量系统

[发明专利]极紫外光用的闪烁体组件及应用、间接探测器系统-CN202210438753.5在审
发明人：户权;吴晓斌;沙鹏飞;马翔宇;谢婉露;韩晓泉;王魁波;罗艳;李慧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-25 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01T1/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种极紫外光用的闪烁体组件及应用、间接探测器系统，属于光学技术领域，以解决现有技术中闪烁体的覆盖层对极紫外光吸收较高而降低了极紫外光的转换效率的问题。发明的一种极紫外光用闪烁体组件，包括闪烁体和覆盖层；其中，覆盖层，设置在所述闪烁体入光一侧表面，所述覆盖层在可见光下的反射率大于或等于20％，在极紫外光照射下所述覆盖层的衰减深度大于或等于40nm。本发明将覆盖层对可见光的反射率大于20％。而对极紫外光照射下的衰减深度大于40nm，相比Al作为覆盖层可降低对极紫外光的吸收，进一步提高了闪烁体组件的转换效率。
紫外光闪烁组件应用间接探测器系统

[发明专利]极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法-CN202110426520.9有效
发明人： 王魁波;吴晓斌;罗艳;谢婉露;韩晓泉;沙鹏飞;李慧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-04-20 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G05D27/02 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种极紫外光刻机物料传递及污染控制系统，该极紫外光刻机中，大气腔的第一通气管上设置有第一调节阀，载片腔的第二通气管上设置有第二调节阀，传输腔的第三通气管上设置有第三调节阀，工艺腔的第四通气管上设置有第四调节阀，极紫外光刻机的控制器能够控制真空泵组、载片腔与大气腔之间的大气物料阀、传输腔与载片腔之间的第一真空物料阀以及工艺腔与传输腔之间的第二真空物料阀开启或关闭，同时控制第一调节阀、第二调节阀、第三调节阀和第四调节阀的开度，使大气腔、载片腔、传输腔和工艺腔内的污染性气体分压依次减小，在保证物料传输的同时，能够严格控制污染性气体从环境向工艺腔的传输。
紫外光刻物料传递污染控制系统方法

[发明专利]掩模缺陷检测装置、掩模缺陷检测系统以及光刻机系统-CN202210096352.6在审
发明人：沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;马翔宇;尹皓玉;方旭晨;谢婉露;李慧;韩晓泉;罗艳;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模缺陷检测装置、掩模缺陷检测系统以及光刻机系统，其中掩模缺陷检测装置包括：壳体，壳体内部具有真空腔；掩模，设于真空腔内；平面反射镜，设于真空腔内且位于掩模的一侧的，平面反射镜用于反射极紫外光束并使其垂直照射在掩模上；退相干反射组件，设于真空腔内，退相干反射组件用于将射入真空腔的极紫外光束退相干后反射至平面反射镜；成像装置，成像装置具有成像平面；反射光采集装置，用于采集由掩模上的缺陷反射出的极紫外光束并输出至成像平面，在成像平面生成亮点。本发明提出的掩模缺陷检测装置可以采用以新型粒子加速器EUV光源生成的具有较高的输出功率的极紫外光，提高了掩模缺陷检测的产率。
缺陷检测装置系统以及光刻

[发明专利]光刻设备、气浴装置及其气浴发生器-CN202210068296.5在审
发明人： 王魁波;吴晓斌;韩晓泉;罗艳;沙鹏飞;李慧;孙家政;谢婉露;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻设备、气浴装置及其气浴发生器，其中气浴发生器包括封闭环体，所述封闭环体围绕工作区域设置，且所述封闭环体的内部形成环形流道，所述封闭环体上还设置有与所述环形流道连通的周向分布的出气口，所述出气口产生围绕所述工作区域分布的封闭气流层。本发明提供的气浴发生器能够用于光刻设备，并沿周向围绕光刻设备曝光区域设置，在曝光区域的周边形成一圈与外界隔离的封闭气流层，解决了如何降低光刻设备内位于曝光区域的硅片微环境的气体污染和颗粒污染的问题。
光刻设备装置及其发生器

[发明专利]一种掩模缺陷检测系统-CN202210009610.2在审
发明人：沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;马翔宇;尹皓玉;方旭晨;谢婉露;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩模缺陷检测系统，包括：真空腔体和隔振平台，所述真空腔体位于所述隔振平台上方，还包括：激光器，用于作为系统光源产生激光；光束整形系统，用于对所述激光进行光束整形；退相干反射镜，用于实现对所述激光的退相干；光瞳转换轮，用于光瞳选择；波带片，用于对掩模上的缺陷进行成像，法兰，用于实现腔体之间的密封连接；四爪狭缝，用于对照明光斑的尺寸进行微调；所述退相干反射镜、所述光瞳转换轮以及所述波带片位于所述真空腔体内；所述激光器产生的激光依次经过所述光束整形系统、所述法兰及四爪狭缝、所述退相干反射镜和所述光瞳转换轮，照射到掩模上进行掩模缺陷检测。
一种缺陷检测系统

[发明专利]提升激光均匀性的装置以及方法-CN202111675749.2在审
发明人：李慧;吴晓斌;沙鹏飞;马翔宇;谢婉露;罗艳;王魁波;韩晓泉;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： G02B27/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种提升激光均匀性的装置以及方法，该装置包括：斑纹衰减模块，斑纹衰减模块包括多个透射微结构，多个透射微结构按照预设排布规则排在基板上；透射结构包括相对设置的入射面和出射面，入射面面对激光处理模块，其中，任意两相邻透射微结构的折射率均不相同，且满足预设条件，预设条件为：激光从入射面入射从出射面射出一透射子光束，任意两个相邻的透射微结构产生的透射子光束之间的光程差大于入射激光的相干长度。上述装置实对激光相干性所导致的斑纹图案具有很好的抑制效果。
提升激光均匀装置以及方法

[发明专利]提升照明均匀性的装置-CN202111675894.0在审
发明人：李慧;吴晓斌;沙鹏飞;马翔宇;谢婉露;罗艳;王魁波;韩晓泉;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： G02B27/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种提升照明均匀性的装置，该装置包括：提升照明均匀性的装置，其特征在于，装置包括：依此设置在光源输出的光束的传输路径上的光束处理单元和斑纹衰减单元；其中，光束处理单元用于将光束的光学参数调整为预设值并发射至斑纹衰减单元；斑纹衰减单元包括旋转盘，设置在旋转盘表面上的多个反射微结构，多个反射微结构在旋转盘上呈环形排布或螺旋状排布，各反射微结构包括反射面，反射微结构的反射面面对光束处理单元，任意两个反射微结构的反射面距离旋转盘的基准面的距离不相同。上述装置实对激光相干性所导致的斑纹图案具有很好的抑制效果。
提升照明均匀装置

[发明专利]气体分压的在线测量装置及其在线测量方法-CN201910507546.9有效
发明人：罗艳;吴晓斌;朱精果;王魁波;张罗莎;谢婉露 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明涉及气体分压的在线测量装置及其在线测量方法，在线测量装置包括待测气源腔室，校准气源腔室，减压腔室，恒压腔室，真空计和质谱分析模块，其中第一进气阀门和减压腔室之间设有高压待测气体进样通道和中压待测气体进样通道，第一进气阀门和恒压腔室之间设有低压待测气体进样通道，第六进气阀门与减压腔室之间设有校准气体进样通道，减压腔室和恒压腔室之间设有气体流通通道，真空计用于测量上述四个腔室的真空度，质谱分析模块用于在线测量恒压腔室的气体；测量方法包括确定标样气体，洁净度检查，获取质谱计灵敏度，抽真空去除残余气体和气体分压的在线测量步骤。本发明的在线测量装置和方法，主要针对粗、低真空气体分析，根据待测气体压力而选择最优的进样通道，分压测量更加准确。
气体在线测量装置及其测量方法