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[发明专利]添加SRAF的方法、掩模版及制造方法-CN202110881879.5在审
发明人：孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种添加SRAF的方法、掩模版及制造方法，通过将第一目标图形向外侧延伸，获取第一目标放大图形，并选取掩模版图与第一目标放大图形相交叠的部分作为第二目标图形，且基于新的第二目标图形添加SRAF，从而在添加SRAF时，可扩大第一目标图形的有效范围，以将第一目标图形的周边环境考虑进去，从而可有效避免添加的SRAF与掩模版图出现图形重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题，不但简化了掩模版的制备过程，还提高了光刻分辨率，增大了工艺窗口。
添加 sraf 方法模版制造

[发明专利]掩膜版图形修正方法、掩膜版制备方法及掩膜版-CN202110940746.0在审
发明人：陈洁;王谨恒;朱斌;张剑;孙鹏飞;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版图形修正方法、掩膜版的制备方法及掩膜版，该修正方法包括：建立OPC模型；提供设计图形，获取设计图形数据；根据制版厂反馈的设计图形中的转角图形的角圆误差值及晶圆的线上工艺参数对转角图形进行数据预设涨缩，获得预处理的设计图形数据；根据OPC模型，对预处理的设计图形数据进行OPC修正。该修正方法充分考虑制版厂对转角部分需要做到的CD的要求，并结合晶圆的线上工艺参数要求，对转角图形进行数据预设涨缩，后续以此预处理后的设计图形数据为目标进行OPC修正，以达到在不影响线上工艺的情况下，可以对制备掩膜版过程中曝光机在corner rounding部分的差异进行OPC调整，从而使得corner rounding差异减小达到工厂的制版要求，使制版厂可以正常制版。
版图修正方法掩膜版制备

[发明专利]带SRAF的OPC修正方法-CN202110852015.0在审
发明人：张剑;王谨恒;陈洁;朱斌;孙鹏飞;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种带SRAF的OPC修正方法，该方法包括：设计试验，获得添加SRAF图形的最优规则；使用原有的OPC模型；对目标图形添加SRAF图形，形成预设图形；使用原有的OPC模型对预设图形进行运算修正，在运算修正过程中SRAF图形作为目标图形的一部分一起参与OPC运算，并保持SRAF图形不动。通过在对带SRAF的目标图形进行修正过程中，将SRAF图形与目标图形作为一个整体一起参与OPC运算，并将SRAF图形保持不动，即SRAF图形不参与OPC模型对目标图形边缘修正的动作，只考虑SRAF图形对目标图形光学环境的影响，确保了OPC修正的精确性；同时在修正过程中不需要额外制作带SRAF的建模光刻版，节省了光刻版的制版费用；另外利用现有的OPC模型，有效节省了大量OPC建模所需时间，提高修正效率。
sraf opc 修正方法

[发明专利]光学临近修正方法、掩膜版及可读存储介质-CN202110692382.9在审
发明人：孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学临近修正方法、掩膜版及可读存储介质，所述方法包括：获取掩膜版设计图形；将所述掩膜版设计图形的外边缘解析分割成多段，包括：对于不平行于线条端头，且在所述线条端头的延伸方向上与线条端头相邻的线条图形，根据所述线条端头与所述线条图形的间距、和建立OPC模型时采用的光学直径，计算所述线条图形在邻近所述线条端头位置处的切分线段长度；根据所述OPC模型对所述掩膜版设计图形进行模拟，得到模拟曝光图形；根据所述模拟曝光图形对所述掩膜版设计图形进行调整，得到掩膜版制版图形。本发明能够有效改善“波纹”现象，提高OPC修正精度和OPC修正效率，降低工艺风险。
光学临近修正方法掩膜版可读存储介质

[发明专利]光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备-CN202110597797.8在审
发明人：孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备，所述方法包括：获取掩膜版设计图形；根据OPC模型对所述掩膜版设计图形进行模拟，得到模拟曝光图形；从所述掩膜版设计图形中筛选出符合第一预设条件的台阶图形；计算所述模拟曝光图形与所述掩膜版设计图形的边缘放置误差，其中所述台阶图形处的边缘放置误差采用图形差值的平均值作为边缘放置误差的值；根据所述边缘放置误差对所述掩膜版设计图形进行调整，得到掩膜版制版图形。本发明筛选出jog图形，然后采用平均值作为jog处EPE的值，能够有效避免“bridge”或“pinch”的发生，从而提高OPC的修正精度，提高OPC修正效率，提高工艺窗口，降低工艺风险。
光学临近修正方法掩膜版可读存储介质计算机设备

[发明专利]光学临近效应修正方法及系统和掩膜版-CN202011611624.9在审
发明人：孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学临近效应修正方法及系统和掩膜版，该方法包括：获取多个测试图形，并设定各个测试图形的预定迭代次数；将多个测试图形分为训练集和测试集；基于机器学习算法和训练集，建立迭代次数模型；将测试集输入到迭代次数模型，以获得测试集中各个测试图形的测试迭代次数，并将各个测试图形的测试迭代次数和对应的预定迭代次数进行比较；根据比较结果，确定迭代次数模型是否为已训练好的迭代次数模型；将待处理的版图文件输入已训练好的迭代次数模型，以获得版图文件中所包括的不同原始设计图形对应的目标迭代次数；基于不同原始设计图形对应的目标迭代次数，对版图文件中所包括的原始设计图形进行修正，以获得修正后的图形。
光学临近效应修正方法系统掩膜版

[发明专利]光学临近效应修正方法及系统和掩膜版-CN202011409455.0在审
发明人：孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学临近效应修正方法及系统和掩膜版，该方法包括：根据当前层的前一层的图形对光刻的原始设计图形中当前层的区域进行分类以获得区域所属的类别，区域所属的类别包括原始设计图形中当前层中与前一层上下重叠的重叠区域和不重叠的非重叠区域；对各个类别的区域设定优先级，其中，重叠区域的优先级高于非重叠区域的优先级；在原始设计图形的边缘设置多个目标点，所述重叠区域的边缘设置的目标点的密度大于所述非重叠区域设置的目标点的密度；根据OPC模型获得原始设计图形的修正图形，并对其进行模拟以获得图形模拟结果；计算各个目标点处图形模拟结果和原始设计图形之间的差异；根据差异以及目标点的权重，对修正图形进行调整。
光学临近效应修正方法系统掩膜版

[发明专利]光学临近效应修正方法及系统和掩膜版-CN202011431775.6在审
发明人：孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学临近效应修正方法及系统和掩膜版，该方法包括：提供原始设计图形，其中，原始设计图形中包括多个条状图形；获取原始设计图形中的多个条状图形中的至少一个条状图形的孤立部分；在孤立部分的边添加第一偏移量，以使第一端部和非孤立部分之间呈现为第一台阶，并在孤立部分的边添加一个或多个第二偏移量，以使孤立部分的边具有一个或多个第二台阶。本发明实施例的光学临近效应修正方法，有效避免‘倒胶’现象，防止图形线条收缩(pinch)，从而提高OPC精度，提高线宽CDU，降低工艺风险，减小硅片上得到图形与掩模版图形之间的偏差，从而提高电路性能与产品良率。
光学临近效应修正方法系统掩膜版

[发明专利]光学邻近效应校正方法、掩膜版及可读存储介质-CN202011379831.6在审
发明人：朱斌;王谨恒;陈洁;张剑;曹楠;孙鹏飞 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2020-11-30 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学邻近效应校正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备，该校正方法包括：获取光刻掩膜设计图形；从光刻掩膜设计图形中选中符合第一条件的孤立金属图形；对所述孤立金属图形进行预处理，使所述孤立金属图形两端的宽度大于中间的宽度；根据预处理后的孤立金属图形得到掩膜版制版图形。对孤立金属图形进行额外的OPC处理，使孤立金属图形两端的宽度均大于中间的宽度，能够避免因光学邻近效应导致的孤立金属图形形成金属线条后在端部出现线条短缺，使得金属线条对前一层次填充孔的填充包裹效果较差，导致器件关键参数波动的问题，使得产品性能更稳定。
光学邻近效应校正方法掩膜版可读存储介质

[发明专利]掩模版制作方法和掩模版-CN201910003405.3有效
发明人：陈洁;王谨恒;朱斌;张斌;张剑 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2019-01-03 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模版制作方法和掩模版，其中，掩模版制作方法包括：建立OPC程序；提供设计图形，对设计图形中的转角图形进行预处理；根据OPC程序，对包含预处理后的转角图形的设计图形进行OPC运算；按照OPC运算后的图形制作掩模版，从而不仅可以保证中间CD满足实际需求，而且可以保证转角CD满足实际需求，有效避免了通过牺牲转角CD来满足中间CD导致的转角过于圆弧化而无法满足用户需求的问题。
模版制作方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN201910274318.1在审
发明人：朱斌;王谨恒;陈洁;张剑;张斌 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2019-04-08 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学邻近修正方法，通过建立光学邻近修正的仿真模型，并在不同尺寸的前层图形上进行光刻，收集数据并根据数据制定修正规则，根据修正规则调整光刻版的图形尺寸，直至光刻版上的图形转移到晶片后形成的图形尺寸与前层图形的尺寸无关，以改善不同尺寸的前层图形对当前层关键尺寸的影响，提高关键尺寸的一致性，稳定产品性能。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学临近效应校正方法及系统-CN201611006000.8有效
发明人：万金垠;王谨恒;张雷;陈洁 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学临近效应校正方法及系统。所述方法包括：对光刻的设计图形进行分类；对各类别的图形进行区域划分，按区域对产品造成负面影响的风险相应赋予权重；将一设计图形作为待校正图形并在图形边缘设置多个目标点；根据OPC模型得到待校正图形的OPC修正图形并进行模拟，得到图形模拟结果；计算各目标点的位置处图形模拟结果与待校正图形之间的差异；根据差异和权重对OPC修正图形进行调整，并再次进行模拟得到调整后的图形模拟结果；反复执行以上两步骤，得到最终的OPC修正图形。本发明对图形上的不同目标点引入权重概念，当不同区域的修正需求产生冲突时，优先满足高权重目标点的修正需求，从而能够提高元器件的良率。
光学临近效应校正方法系统

[发明专利]光学邻近效应修正方法和系统-CN201510558089.8有效
发明人：万金垠;王谨恒;张雷;陈洁 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2015-09-02 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近效应修正方法，线段的目标位置点的设置方式不再是固定的，而是随着图形变化的，通常选取该线段对应的模拟图形的曲线端点作为目标位置点的参考位置。该曲线端点可以按以下方法判断：若线段在线段的垂直方向平移，线段与模拟图形的相切点即为曲线端点，此时该曲线端点与目标位置点重合。对于该线段而言，通常在该曲线端点对应位置的EPE最大，根据EPE再进行图像修正，可以有效减少修正次数，降低修正不足或修正过量的程度，使模拟结果与目标值更加匹配，提高修正效率和修正精度。还提供一种光学邻近效应修正系统。
光学邻近效应修正方法系统

[发明专利]光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法和系统-CN201410229679.1有效
发明人：张雷;王谨恒;陈洁;万金垠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法，包括步骤：获取半导体版图和标记层；获取半导体版图中与标记层有重叠区域的多边图形；对所述多边图形进行放大处理得到新的多边图形；将所述新的多边图形与所述标记层合成为一个新的标记层；在光学临近效应修正工艺中对被所述新的标记层覆盖的多边图形进行特殊处理。本发明还公开了一种光学临近效应修正中标记特殊处理图形的系统。上述光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法和系统，通过对获取的半导体版图中与标记层有重叠区域的多边图形进行放大处理后与标记层合成为一个新的标记层，能够避免出现标记层只覆盖多边图形部分区域的现象，不会增加系统的负担。
光学临近效应修正标记特殊处理图形方法系统

[发明专利]一种光学临近矫正方法-CN201210275387.2有效
发明人：陈洁;王谨恒;万金垠;张雷 -专利权人：无锡华润上华半导体有限公司
申请日： 2012-08-03 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学临近矫正方法，该方法通过在光学临近矫正程序中，加入对因覆盖孔而引起的凸起的清理程序，在执行OPC处理程序之前，首先对目标图形进行该清理程序，修复所有由孔引起的凸起，进而避免OPC处理过程中因该些凸起产生的缺陷问题。由于本发明的清理程序全依赖图形软件执行，无需对现有的OPC设备进行硬件层面的调整，并且处理过程自动快速，几乎不对工艺的周期产生影响，在提高产品品质的同时，大大节省了成本。
一种光学临近矫正方法

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