专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]软弱薄矸石层分隔的非急倾斜上下矿层联合开采方法-CN202110512080.9有效
  • 彭云;王彦君;邹保春 - 紫金矿业集团股份有限公司
  • 2021-05-11 - 2023-02-28 - E21C41/22
  • 软弱薄矸石层分隔的非急倾斜上下矿层联合开采方法,在上层矿内掘进分段运输和回风平巷,沿走向划分矿块,在矿块走向两端上层矿内掘进两条切割上山,在走向中央下层矿内掘进一条切割上山并通过运输石门、回风石门连接分段运输平巷和回风平巷,形成上下矿层联合采准系统,下层矿全层开采,上层矿间隔开采、充填开采与空场开采,本矿块与邻近矿块和上下矿层联合开采、矿层间软弱薄矸石层的有效剔除,主要工业矿层分步骤全部条带开采、间隔条带充填,次要工业矿层间隔条带开采、不充填的上下矿层间联合开采,它具有能有效提高矿石采出品位,使下层矿的回采率达90%,上层矿回采率达60%等优点。
  • 软弱矸石分隔倾斜上下矿层联合开采方法
  • [发明专利]一种硅片清洗干燥方法-CN202211368044.0在审
  • 白苏宁;黄盛军;菅明辉;曹锦伟;李仕权;孙晨光;王彦君 - 中环领先半导体材料有限公司
  • 2022-11-03 - 2023-02-03 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种硅片清洗干燥方法,其清洗干燥方法包括以下步骤:S1、首先将需要进行清洗的硅片实时输送到清洗设备处备用,然后通过控制专门的机器进行自动夹取,将备用放置硅片摆放到相应清洗架或者清洗盒上,并将清洗架或者清洗盒上摆放好的硅片自动传送到慢提拉槽内部,并且向慢提拉槽内部导入适量的水进行清洗即可;S2、然后当设定的慢提拉槽清洗时间到后,控制设备开始进行自动排水,等到排水完成后,控制设备进行实时自动呼叫机械手,当机械手到位后快速上升,将硅片进行移动到下一工位。本发明有效的降低了机械手的循环时间,大大的提高了设备产量,同时每组硅片都更换一次水,进一步提高了硅片的整体质量。
  • 一种硅片清洗干燥方法
  • [发明专利]一种改善掺Sb衬底外延Slip的工艺方法-CN202211251998.3在审
  • 韩少锋;贾晟达;黄星博;李仕权;王彦君;孙晨光;黄春峰;曹锦伟 - 中环领先半导体材料有限公司
  • 2022-10-13 - 2023-01-24 - H01L21/20
  • 本发明公开了一种改善掺Sb衬底外延Slip的工艺方法,其改善工艺方法包括以下步骤:S1、首先在进行掺Sb衬底外延加工前,需要利用氯化氢HCl气体在高温下对掺Sb衬底外延进行刻蚀抛光,去除掺Sb衬底外延上的残余沉积物质,并且将抛光温度设定在一定范围值内,设定一定值的通入HCl气体流量,并且进行刻蚀时间的设定;S2、然后当刻蚀抛光处理结束后,采用大流量氢气对掺Sb衬底外延表面进行吹扫,并且将氢气流量设定在一定范围值,并将吹扫时间设定在一定范围值,将HCl刻蚀抛光加工处过程中产生的副产物去除出腔体外。本发明使用低温外延减弱外延长膜过程中的应力效应,有效的降低了加工处理过程中Slip发生概率,使掺Sb衬底外延长膜Slip问题得到有效解决。
  • 一种改善sb衬底外延slip工艺方法

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