专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种获取目标光源光斑分布方法-CN202310948003.7在审
  • 何振飞 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2023-07-28 - 2023-10-24 - G03F7/20
  • 本发明涉及计算光刻技术领域,具体涉及一种获取目标光源光斑分布方法,包括以下步骤:提供一带有光源信息的文件,并从中获取完整的光源数据;根据获取的所述光源数据得到光源实际搜寻步长;对所述光源数据进行预处理以筛选出光斑;从预处理后的光源数据中获取光斑集群信息,并计算得出光斑的初始光强收敛坐标以及平均光强;预设阈值,从初始光强收敛坐标中输出平均光强大于该阈值的光斑的目标光强收敛坐标,解决了现有技术中难以准确的对光斑进行定位的技术问题。
  • 一种获取目标光源光斑分布方法
  • [发明专利]一种自动化提交作业方法、系统以及储存介质-CN202310784682.9在审
  • 周宇 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - G06F9/50
  • 本本发明涉及密集计算与数据处理技术领域,具体涉及一种自动化提交作业方法、系统以及储存介质,一种自动化提交作业方法,包括以下步骤:提供至少一项目,针对每个项目设置对应项目参数获得目标文件,项目参数包括项目的运行参数以及监控周期;提供服务器对目标文件进行解析,获得项目数量以及每个项目的项目参数;根据解析后各个项目的运行参数将对应项目分配到服务器节点运行或等待;根据项目的监控周期获取对应项目运行情况,并根据项目运行情况结束运行或重新分配项目,解决了现有技术中容易因为作业运行异常导致不能对服务器资源利用最大化技术问题。
  • 一种自动化提交作业方法系统以及储存介质
  • [发明专利]版图拆分方法、版图拆分系统及存储介质-CN202310613382.4在审
  • 阮文胜;丁明;王焕明 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2023-05-26 - 2023-09-01 - G03F1/70
  • 本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种版图拆分方法、版图拆分系统及存储介质,本发明的版图拆分方法包括以下步骤:提供包括多组图形的初始版图,及获取初始版图中图形间的位置关系;获取任意一组图形的位置关系,作为优化依据;基于获取的图形间位置关系及优化依据用预设方式拆分初始版图中的图形,获取至少两种拆分结果,分别作为迭代初始值;运用离散粒子群优化算法对迭代初始值进行迭代,获取最符合预设适应度值的迭代结果作为最终拆分版图。采用离散粒子群优化算法对版图进行局部最优解的运算,降低了运算时间,节省了内存占用,同时保证版图的拆分效果。
  • 版图拆分方法系统存储介质
  • [发明专利]一种版图修正方法、系统及计算机介质-CN202310767642.3在审
  • 张雄;鲁李乐 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2023-06-26 - 2023-08-22 - G03F1/36
  • 本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种版图修正方法、系统及计算机介质,本发明的版图修正方法包括以下步骤:获取包括至少一个目标掩膜图案及其他掩膜图案的初始版图,获取初始版图中目标掩膜图案的线段的坐标值;获取其他掩膜图案的形状特征,基于坐标值生成区别于形状特征且相交目标掩膜图案的预设掩膜图案;将目标掩膜图案中与生成的预设掩膜图案相交的线段标记为特征线段;将所有掩膜图形的每条线段与其周围相邻的所有线段进行特征计算,并记录计算的结果作为每条线段的特征值;基于记录的特征值筛选出具有与特征线段相同特征值的线段并标记,并将该线段所在掩膜图案作为结果输出。极大提升光学临近修正的效率。
  • 一种版图修正方法系统计算机介质
  • [发明专利]一种设计版图修改方法及系统-CN202310595743.7在审
  • 丁明;陈板桥;李建华;陈泽阳 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-08-18 - G06F30/392
  • 本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种设计版图修改方法及系统。所述方法包括:获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓,判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例;若是,则获取违例的类型以及违例的位置;基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量;基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动,若是,获得移动后的设计图形;将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。本发明还提供一种设计版图修改系统。解决现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题。
  • 一种设计版图修改方法系统
  • [发明专利]一种Hessian-Free的光刻掩模优化方法、装置及电子设备-CN201910118915.5有效
  • 丁明 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2019-02-15 - 2023-06-06 - G06F30/392
  • 本发明涉及集成电路掩模设计领域,尤其涉及一种Hessian-Free的光刻掩模优化方法、装置及电子设备。包括如下步骤:S1、输入待优化掩模的设计版图;S2、在所述待优化掩模的设计版图上放置误差监测点;S3、获得所述待优化掩模的优化变量x;S4、提供关于优化变量x的目标函数cost;S5、利用基于Hessian-Free的共轭梯度方法对所述目标函数cost进行优化,以得到所述待优化掩模的优化结果,基于Hessian-Free的共轭梯度方法对所述目标函数cost进行优化,以得到所述待优化掩模的优化结果能很好的缩小优化过程中的计算资源,使得优化过程更简单,可行,并且提高优化效率;同时不需要类似采用拟牛顿法获得关于H矩阵的近似替换矩阵,能很好的提高优化结果的准确性。
  • 一种hessianfree光刻优化方法装置电子设备
  • [发明专利]一种掩模辅助图形的优化方法、计算机可读介质及系统-CN201910134377.9有效
  • 张生睿;施伟杰 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2019-02-22 - 2023-06-06 - G06F30/392
  • 本发明涉及一种掩模辅助图形的优化方法,该方法包括以下步骤,步骤S1:提供一张原始设计版图,并在原始设计版图中选取至少一个小区域版图;步骤S2:对选取的小区域版图做基于光刻模型的辅助图形优化,得到对应小区域版图的掩模形貌图;步骤S3:对得到的对应小区域版图的掩模形貌图进行优化;步骤S4:建立BP人工神经网络模型,并根据小区域版图的掩模形貌图和其对应的小区域版图训练BP人工神经网络模型;步骤S5:将训练好的BP人工神经网络模型应用在原始设计版图上,获得原始设计版图的掩模设计形貌图;及步骤S6:从掩模设计形貌图提取出掩模辅助图形。本发明还提供一种计算机可读介质。本发明还提供一种掩模辅助图形的系统。
  • 一种辅助图形优化方法计算机可读介质系统
  • [发明专利]一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置-CN201910134676.2有效
  • 张生睿 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2019-02-23 - 2023-05-16 - G03F1/36
  • 本发明涉及半导体制造的光刻领域,特别涉及一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置。掩模设计图案的优化方法包括:将基础图案进行分片处理,基于每个分片图案进行像素掩模优化得到对应的像素掩模图案;提取多边形掩模,并进行预处理得到处理结果,对处理结果进行仿真验证后输出仿真验证结果;基于仿真验证结果,执行多边形掩模优化的占位操作或执行多边形掩模的实际优化操作,并输出对应的操作结果,汇总各操作结果以作为优化后的掩模设计图案。与现有技术相比,本发明提供的一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置,缩短了掩模设计图案的优化时间,可用于大面积版图的制造。
  • 一种设计图案优化方法系统及其电子装置
  • [发明专利]一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备-CN202211652843.0在审
  • 季鹏飞;丁明 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2022-12-21 - 2023-04-25 - G06F30/392
  • 本发明涉及集成电路设计领域,特别涉及一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备。本发明提供的一种提高掩模版图辅助图形一致性方法,包括以下步骤:获取初始掩模版图上的辅助图形;基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退;若能回退,则基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除;若能删除,则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第一权重;若不能删除,则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第二权重;基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级,并基于优先级依次处理辅助图形以获得一致性较好的辅助图形。本发明还提供一种装置及计算机设备。解决了辅助图形在清理后一致性差的问题。
  • 一种提高辅助图形一致性方法装置计算机设备
  • [发明专利]一种掩膜版图修正方法-CN202211289154.8在审
  • 介浩宇;丁明;闫歌 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2022-10-20 - 2023-04-04 - G06F30/398
  • 本发明涉及光刻友好技术领域,特别涉及一种掩膜版图修正方法,包括以下步骤:提供初始掩膜版图,掩膜版图获取初始掩膜版图中的图形点信息;将初始掩膜版图中图形点信息与预设的掩膜版图匹配库中坏点信息进行匹配,掩膜版图匹配库包括掩膜版图坏点信息及与掩膜版图坏点信息对应的修正点信息;若有坏点信息与初始掩膜版图中某图形点信息匹配,则使用所述掩膜版图坏点对应的所述修正点信息对所述初始掩膜版图进行修正。为了解决现有的掩膜版图修正方法需耗费巨大的计算资源的问题,本发明提供一种掩膜版图修复方法。
  • 一种版图修正方法
  • [发明专利]一种SRAF图像的生成方法、系统及其电子装置-CN201910133912.9有效
  • 黄晔;丁明 - 深圳晶源信息技术有限公司
  • 2019-02-22 - 2023-03-31 - G06T11/00
  • 本发明涉及半导体制造的光刻领域,特别涉及一种SRAF图像的生成方法、系统及其电子装置。所述SRAF图像生成方法包括:分析待处理版图中各边的对称性信息,基于具有对称性的边进行分组;根据预设的SRAF点范围划定规则,确定归属于每组边的SRAF点生成范围;设定SRAF点之间的间隔距离,以间隔距离生成SRAF点,并标记其所属的父边及对应SRAF点的标签;保留仅有父边的SRAF点;针对具有邻近边的SRAF点,则比较对应SRAF点到父边和到邻近边的距离,保留到父边距离小于等于到邻近边距离的SRAF点;及结合SRAF点及SRAF图像生成算法生成SRAF图像。通过SRAF图像的生成方法、系统及其电子装置可有效解决现有方法生成的SRAF图像不能维持版图对称性的问题。
  • 一种sraf图像生成方法系统及其电子装置

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