专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]敲击行为识别方法、装置、芯片和耳机-CN202310961963.7在审
  • 方泽凯;朱嘉俊;毛伟文 - 珠海市杰理科技股份有限公司
  • 2023-08-01 - 2023-10-20 - G10L25/27
  • 本发明提供一种敲击行为识别方法、装置、芯片和耳机,所述方法包括:步骤S100,在预设时长内获取麦克风采集的音频信号,音频信号包含敲击信号;步骤S200,提取音频信号的音频特征,音频特征包括相似度、梯度和峰均比之一或任意组合;步骤S300,依据音频特征在预设时长内区分敲击信号和抖动信号,以提取音频信号中的敲击信号得到敲击信号序列,其中,抖动信号包含在音频信号中;步骤S400,依据敲击信号序列按预设的对应关系确定敲击信号序列对应的用户的控制操作。减少了使用专用振动传感器的使用成本,也就是减少了额外的硬件成本,具有可行性高、经济、有效的特点。
  • 敲击行为识别方法装置芯片耳机
  • [发明专利]数据调用方法及相关设备-CN202310158859.4在审
  • 毛伟文 - 金蝶汽车网络科技有限公司
  • 2023-02-13 - 2023-05-26 - G06F9/54
  • 本申请公开了数据调用方法及相关设备,该方法包括:服务端接收客户端的数据调用请求;根据请求参数信息从服务端的目标接口,获得客户端所需的目标业务数据,目标接口为不单独占用端口资源的业务接口;将参数形式的目标业务数据直接转换成字节数组形式的第二数据流,并将第二数据流返回给客户端。使用不单独占用端口资源的目标接口,有助于减少为服务端单独部署业务接口、独立起服务的工作量,高利用率地利用端口资源;同时,业务接口和业务数据之间的结合,有利于降低业务数据和服务端之间的整合难度,提高数据调用进度。此外,将参数形式的数据直接转换成字节流进行传输,可有效减少对转换资源的损耗,提高数据传输效率。
  • 数据调用方法相关设备
  • [发明专利]智控移动式等温盐浴炉-CN202210178080.4在审
  • 桂光武;毛伟文;刘奎;陈建荣;方立庆;毛则尹;桂全鑫;涂建强 - 广东均鑫金属科技有限公司
  • 2022-02-24 - 2023-04-28 - C21D1/63
  • 本发明公开了智控移动式等温盐浴炉,包括固定架和三个物料架,固定架顶端的两侧均固定安装有工型滑轨,两根工型滑轨的表面滑动连接有三个加工仓,三个加工仓两侧的两边角处均固定设有连接座,四个连接座的底部均转动连接有滑轮,位于同侧的两个滑轮与对应工型滑轨滑动连接,三个物料架的顶端均顶安装有物料框,物料框与对应的加工仓底端位置对正,相邻两个物料架之间安装有炉体。本发明通过固定架顶端安装的工型滑轨,通过工型滑轨顶端滑动的三个加工仓,可同时加工多个物料,同时可进行淬火、淬油、淬盐、此外加工仓与工型滑轨,方便加工仓移出炉体进行卸料,有效的提高了加工效率。
  • 移动式等温盐浴炉
  • [实用新型]一种下研磨盘和研磨机-CN202222449070.8有效
  • 毛伟文;罗贤伟;李奔 - 广东先导微电子科技有限公司
  • 2022-09-15 - 2023-02-21 - B24B37/16
  • 本实用新型实施例公开的一种下研磨盘,下研磨盘的上盘面为研磨面,且该研磨面设有用于排放研磨液的溢流槽,溢流槽至少包括沿第一方向延伸的第一溢流槽和沿第二方向延伸的第二溢流槽,第一溢流槽和第二溢流槽至少有一者是渐深槽,渐深槽沿靠近下研磨盘的中心至边缘的方向上,深度增加。本实用新型提供的下研磨盘可以减少研磨时研磨液的堆积,减少晶片划伤、裂纹、碎片等情况的发生,同时延长下研磨盘的使用寿命。本实用新型还公开了一种研磨机。
  • 一种研磨研磨机
  • [发明专利]一种晶片的研磨方法-CN202211272432.9在审
  • 毛伟文;罗贤伟;杨江 - 广东先导微电子科技有限公司
  • 2022-10-18 - 2023-01-24 - H01L21/306
  • 本发明涉及半导体材料生产应用领域,具体是一种晶片的研磨方法。本发明提供了一种晶片的研磨方法,包括:在具有凹槽的夹具的所述凹槽中加入液态蜡,将晶片置于所述液态蜡中,在液态蜡凝固后,向所述凹槽中加入研磨液,对所述晶片进行研磨。本发明提供的方法将晶片放置于柔软的蜡上,被上盘挤压时可以保持原形状不变,晶片在此形状下均匀掉量,逐渐被研磨平整,研磨过程中晶片内部的部分应力得到释放,取出上盘后保持平整的状态,此时所测得的翘曲度较低。与传统的研磨工艺相比,本工艺得到的晶片更加平整,降低了晶片的翘曲度。实验表明,通过本发明所述方法对砷化镓晶片进行研磨后,砷化镓晶片的翘曲度可降低到5μm~6.5μm范围内。
  • 一种晶片研磨方法
  • [发明专利]一种蒸发雾化腐蚀磷化铟晶片的方法-CN202111462322.4在审
  • 毛伟文;郑金龙;吴晓桂;杨江 - 广东先导微电子科技有限公司
  • 2021-12-02 - 2022-03-08 - H01L21/306
  • 本发明提供了一种蒸发雾化腐蚀磷化铟晶片的方法,包括以下步骤:A)将待腐蚀的磷化铟晶片放入转盘中,并在腐蚀槽内加入腐蚀液;所述转盘设置在位于腐蚀槽上方的密闭空间内,所述密闭空间与腐蚀槽之间通过阀门通道相连通;所述腐蚀液包括双氧水、硫酸、磷酸和盐酸;B)在腐蚀槽内通入热氮气使腐蚀液蒸发雾化,并打开阀门通道使雾化腐蚀液通入上方的密闭空间;C)启动转盘使晶片旋转,对转盘上的磷化铟晶片进行腐蚀;D)取出腐蚀后的晶片进行清洗,得到腐蚀后的磷化铟晶片。与现有技术中多采用液相腐蚀的方法相比,本工艺与传统的腐蚀工艺相比较,提高了晶片腐蚀掉量,操作上更加简便、自动化程度更高,腐蚀更加均匀。
  • 一种蒸发雾化腐蚀磷化晶片方法
  • [实用新型]一种晶片研磨装置-CN202022247325.3有效
  • 吴春龙;周铁军;毛伟文;王金灵;刘火阳 - 广东先导先进材料股份有限公司
  • 2020-10-10 - 2021-07-13 - B24B37/10
  • 本实用新型公开了一种晶片研磨装置,包括第一磨盘、第二磨盘、夹持在所述第一磨盘和所述第二磨盘之间的夹具、安装在所述夹具上的基座;所述基座具有相互背离设置的第一端面和第二端面,所述第一端面上设有用于晶片卡入的第一装夹凹槽,所述第二端面上设有用于晶片卡入的第二装夹凹槽,所述第一端面上的晶片与所述第一磨盘接触,所述第二端面上的晶片与所述第二磨盘接触。本实用新型可以提高晶片研磨质量和成品率,属于晶片加工的技术领域。
  • 一种晶片研磨装置
  • [发明专利]基于红外对管的信息传输方法和装置-CN201610585387.0有效
  • 毛伟文;陈明秋 - 珠海市杰理科技股份有限公司
  • 2016-07-22 - 2021-03-19 - G08C23/04
  • 本发明公开了一种基于红外对管的信息传输方法和系统,其中方法包括如下步骤:获取待发送信息,并将待发送信息转换为相应的数字信号;以数字信号中每相邻两个上升沿之间的高电平和低电平为一个通电周期,根据每一个通电周期中的占空比进行编码,得到相应的码组信息;传输码组信息至红外发射管,由红外发射管进行码组信息的发送。其通过采用上述编码规则对待发送信息进行编码,增加了编码的复杂性,从而能够实现各种复杂信息的传输,有效提高了红外对管进行信息传输时的信息载量,并且还提高了信息传输的安全性。最终解决了传统的基于红外对管进行信息传递时只能进行简单信息的传输,具有一定的局限性的问题。
  • 基于红外信息传输方法装置
  • [发明专利]玩具、玩具控制的方法及装置-CN201610601291.9有效
  • 毛伟文;陈明秋 - 珠海市杰理科技股份有限公司
  • 2016-07-27 - 2020-05-08 - A63H30/04
  • 本发明涉及一种玩具、玩具控制的方法及装置。其中,该玩具包括主体、设置在所述主体中的控制装置及设置在所述主体上的积水管;所述控制装置用于对所述玩具进行控制;所述积水管的两侧连接有第一连接线和第二连接线,且所述第一连接线或者所述第二连接线电连接所述控制装置;所述积水管的一端设置有第一开口,用以接收从所述主体外部喷射到主体上的液体;且当有液体落入到所述积水管中时,所述第一连接线与所述第二连接线连通产生被击中信号。从而玩具自身即能够准确的产生被击中信号,且只有液体炮弹攻击到玩具时,才会产生被击中信号。避免了人为判断玩具被击中信息的不准确性。
  • 玩具控制方法装置

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