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- [发明专利]轴密封结构体和真空泵-CN202210236666.1在审
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岳良太
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株式会社爱发科
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2022-03-11
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2022-10-18
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F04C18/12
- 本发明提供一种可靠性高的轴密封结构体、真空泵。在轴密封结构体中，转子轴具有第一端部、与上述第一端部处于相反侧的第二端部、与上述第一端部和上述第二端部相连的外周面、以及设置在内部的通道，上述转子轴能够以中心轴为中心旋转。旋转轴密封件在上述第一端部与上述第二端部之间，绕上述转子轴的上述外周面与上述转子轴同心地设置。过滤部在上述第一端部侧附加设置在上述转子轴，抑制浸入物向上述通道浸入，能够与上述转子轴一同以上述中心轴为中心旋转。通过由上述过滤部旋转而产生的上述过滤部的离心力，从上述过滤部的抑制侧浸入的上述浸入物向与上述浸入物浸入的方向相反的方向移动。
- 密封结构真空泵
- [发明专利]溅射装置-CN202010542198.1有效
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大久保裕夫;小林大士;小野贵裕
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株式会社爱发科
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2020-06-15
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2022-09-09
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C23C14/35
- 本发明目的是使薄膜的面内的特性分布变得均匀的溅射装置的开闭作业变得容易。在由靶极侧真空槽（11a）与基板侧真空槽（11b）构成的真空槽（11）中，令电极板（28a、28b）的重量支承于靶极侧真空槽（11a），将电极板（28a、28b）配置于靶极13的短边上而缩短靶极（13）与接地电位之间的距离，令基板（16）上的等离子均匀化。基板侧真空槽（11b）的内部被轻量化，所以在令基板侧真空槽（11b）移动而开闭真空槽（11）时，开闭作业变得容易。
- 溅射装置
- [发明专利]成膜方法-CN202180009850.6在审
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织井雄一;箱守宗人;须田具和;高木大
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株式会社爱发科
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2021-03-22
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2022-08-30
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C23C14/35
- 本发明的课题在于实现膜厚分布的均匀化。在成膜方法中，使用至少3个以上的多个旋转靶对基板进行溅射成膜，旋转靶具有中心轴和靶面，并在内部具备能够绕中心轴旋转的磁铁。多个旋转靶配置为中心轴相互平行并且中心轴与基板平行。一边对多个旋转靶通电一边使多个旋转靶各自的磁铁绕中心轴在具有到基板最近的A点的圆弧上移动，一边对基板进行溅射成膜，多个旋转靶内的至少配置在两端的一对旋转靶的磁铁在圆弧上在比A点更远离基板的中心的区域进行成膜的时间比在比A点更靠近基板的中心的区域进行成膜的时间短。
- 方法
- [发明专利]成膜方法-CN201980019108.6有效
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水野太平;矶部辰德
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株式会社爱发科
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2019-01-29
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2022-08-12
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C23C14/34
- 本发明提供一种在基板表面形成氧化铟基氧化物膜时，可抑制基板的X轴方向上的薄膜质量不均一的成膜方法。本发明的成膜方法，以在基板(Sw)面内彼此正交的方向为X轴方向和Y轴方向，在真空处理室(11)内使基板和与该基板相比X轴方向长度更长的靶(Tg1～Tg8)彼此同心相对配置，向真空气氛中的真空处理室内分别导入稀有气体和氧气，通过对各靶施加电力以等离子体气氛中的稀有气体的离子对靶进行溅射，从而在基板表面形成氧化铟基氧化物膜。从第一位置和第二位置中的至少一个向基板导入氧气，其中，以从靶侧朝向基板的方向为上，所述第一位置是X轴方向上基板端区域(Sa)正下方的位置，所述第二位置是在X轴方向上从基板端(Se)向靶端延伸的延展区域(Ea)正下方的位置。
- 方法
- [发明专利]螺杆泵和螺杆转子-CN202210115613.4在审
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铃木敏生;西山正树;桥本建治;田中智成
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株式会社爱发科
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2022-02-07
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2022-08-05
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F04C2/16
- 本发明提供一种能够不受侵入外壳内表面与各螺旋齿的齿尖表面之间的间隙的异物的影响而可始终正常运转的螺杆泵。其具有：一对螺杆转子(11、12)，其分别具有扭转方向相反的螺旋齿；以及外壳(2)，其对一对螺杆转子以非接触地彼此啮合的状态且各螺旋齿(12a、12b)的齿尖表面(13a、13b)之间留有间隙(Gp2)的方式进行收纳。在各螺旋齿的齿尖表面上，沿着收纳在齿尖表面的轴向范围(Wr)内的螺旋(Ls)连续或不连续地形成保存进入外壳内表面与各螺旋齿的齿尖表面之间的间隙的异物的凹陷部(14a‑14d)。
- 螺杆转子
- [发明专利]真空蒸镀装置用蒸镀源-CN202210599823.5在审
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斋藤修司
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株式会社爱发科
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2020-06-04
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2022-08-02
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C23C14/24
- 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其具有主筒体和副筒体，所述主筒体具有填充蒸镀材料的坩埚部；所述副筒体具有释放开口；以及加热装置，其至少可加热坩埚部内填充的蒸镀材料；副筒体改变释放开口的相位并可装卸自如地安装在主筒体上；设置有开合自如地封闭坩埚部的上表面开口的盖体；在真空气氛中在用盖体封闭坩埚部的上表面开口的状态下通过加热装置加热坩埚部内的蒸镀材料使蒸镀材料升华或气化，在打开盖体时，升华或气化了的蒸镀材料一边保持其蒸气压力，一边被运送到副筒体中，从释放开口释放；所述加热装置具有设置在所述副筒体内的发热体，还具有安装在所述真空室内并以点接触来支撑所述副筒体的支撑件。
- 真空装置用蒸镀源
- [发明专利]真空处理装置-CN202210309507.X在审
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松崎淳介;高桥明久;水岛优
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株式会社爱发科
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2018-06-13
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2022-07-05
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H01J37/32
- 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，效率良好地对基板的两个表面进行处理，实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器（11）分别以水平状态向第一运送方向（P1）运送的往路侧运送部（33a）、向与第一运送方向（P1）相反的第二运送方向（P2）运送的返路侧运送部（33c）、从往路侧运送部（33a）朝向返路侧运送部（33c）的运送折返部（30B），借助基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）运送基板保持器（11）。将具有第二驱动部（46）的方向转换机构（40）设置在运送折返部（30B）的附近。使基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）和方向转换机构（40）的第二驱动部（46）同步而动作，将第一以及第二被驱动轴（12、13）沿方向转换机构（40）的第一以及第二方向转换通路（51、52）分别引导运送，将基板保持器（11）在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。
- 真空处理装置
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