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[发明专利]彩色滤光片基板的曝光方法-CN201180006343.3有效
发明人： 松井浩平;安井亮辅;田中惠一;吉泽武德 -专利权人：凸版印刷株式会社;夏普株式会社
申请日： 2011-01-11 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图8(a)所示，一边在Y方向上搬运基板20，一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光，一边对显示区域的层91进行曝光。接着，使基板20旋转90度，如图8(b)所示，一边在X方向上搬运基板20，一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。并且，如图8(c)所示，通过对基板20进行一次近接(proximity)曝光，来对第一非显示区域51内的第一层81上的第三层83进行曝光，并对第二非显示区域52内的第二层82上的第四层84进行曝光，同时对显示区域40的层92进行曝光。
彩色滤光片基板曝光方法

[发明专利]彩色滤光片基板的曝光方法-CN201180005708.0无效
发明人： 松井浩平;安井亮辅 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2011-01-07 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图7(a)所示，一边在Y方向上搬运涂布有光阻剂的基板20，一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光，一边对显示区域的层91进行曝光。其次，使基板20旋转90度，如图7(b)所示，一边在X方向上搬运基板20，一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。由此，能够在第一非显示区域51内形成期望的配置间距及形状的伪PS71，在第二非显示区域52内形成期望的配置间距及形状的伪PS72。
彩色滤光片基板曝光方法

[发明专利]彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法-CN201080057078.7在审
发明人： 松井浩平;安井亮辅 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-12-10 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法，能够实现显示不均匀的情况不显眼、且显示质量良好的液晶显示装置。在彩色滤光片基板(1)上形成有格子状的黑矩阵(30)及行列状的多个着色像素(40)。通过某个光掩膜而曝光的区域(50a)内所包含的着色层(41R)与黑矩阵(30)在行方向上的重叠宽度(Wa)(或(Wb))与、通过其它光掩膜而曝光的区域(50b)内所包含的着色层(41R)与黑矩阵(30)在行方向上的重叠宽度(Wg)(或(Gh))之差的最大值为4μm以下。另外，所有着色像素与黑矩阵在行方向上的重叠宽度(Wa)～(Wl)的最大值为8μm以下。
彩色滤光片基板显示装置曝光方法

[发明专利]曝光方法及曝光装置-CN201080058986.8有效
发明人： 松井浩平;八田薰 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-12-20 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： G03F7/22 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法及曝光装置，即使在基板搬运方向上错位变大的情况下，也能够制作无缺陷的彩色滤光片。本发明的曝光方法中，将光掩膜102及涂布有光阻剂的基板202配置成与重复进行开灯及熄灯的闪亮式光源相对。一边沿与设置于光掩膜102的开口112的排列方向正交的方向连续地搬运基板202，一边使闪亮式光源闪亮，间歇地进行多次曝光。对基板202的搬运速度进行控制，以在每次曝光时，使光掩膜102的各个开口112与上一次的各个曝光图案122的一部分重叠，从而形成在基板202的搬运方向上延伸的条纹状着色层802。
曝光方法装置

[发明专利]彩色滤光片、液晶显示装置、彩色滤光片的制造方法-CN201080018841.5无效
发明人： 松井浩平;安井亮辅 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-04-28 - 公布日： 2012-04-25 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种彩色滤光片、液晶显示装置、彩色滤光片的制造方法。彩色滤光片采用通过遮光板对相邻曝光区域之间进行遮光的小型掩膜连续曝光方式，在显示像素区域外侧的着色层上形成有具有均匀高度的伪感光性间隔物。首先，通过小型掩膜连续曝光方式来形成在X轴方向上延伸、且跨过显示像素区域和边框区域的着色层。此时，将遮光板的平行于Y轴的边缘配置成，与构成最外周的开口部的外周缘、且最靠近Y轴方向上延伸的边框区域的边相距500～1000μm。接着，在着色层上形成感光性间隔物，使感光性间隔物的中心轴位于与最靠近该Y轴方向上延伸的边框区域的边相距300μm以内的范围内。
彩色滤光液晶显示装置制造方法

[发明专利]液晶显示装置-CN201080019031.1无效
发明人： 松井浩平;八田薰 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-04-28 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供一种不产生因曝光头的错位或组装误差而造成的显示不均匀、且显示质量优异的液晶显示装置。液晶显示装置1具备互相相对贴合的彩色滤光片2及TFT基板3、以及被封入形成于它们之间的间隙中的液晶(未图示)。彩色滤光片2包含基板4、设置于基板4上的黑色矩阵5、及在各像素位置上与黑色矩阵5部分重叠的多个着色层6及7。通过着色层6及7与黑色矩阵5重叠而形成隆起物18a及28a，通过分别在Y轴方向上连接隆起物18a及28a的顶点而成的上端边缘19a及29a配置在被TFT基板3的遮光部10a遮光的区域中。
液晶显示装置

[发明专利]彩色滤光片及液晶显示装置、以及曝光掩膜-CN201080019033.0无效
发明人： 松井浩平;安井亮辅 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-04-28 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供一种没有曝光头之间的曝光照度的差异、图案错位所造成的显示不均匀、且显示质量优异的液晶显示装置；可构成该液晶显示装置的彩色滤光片；以及用于制造该彩色滤光片的曝光掩膜。彩色滤光片1具备基板2、设置于基板2上的黑矩阵3、以及至少在第一方向与黑矩阵3部分重叠的多个着色层4。由黑矩阵3与着色层4重叠的部分所构成的重叠部分5在第一方向上的宽度在整个显示区域上变动，而且该变动程度在整个显示区域上相同地分布。其结果，即使重叠部分5的尺寸因曝光头的错位或曝光条件的变化而局部产生偏差，也能够使其混在分布于整个显示区域上的宽度变动，从而能从整体上使不均匀变得不明显。
彩色滤光液晶显示装置以及曝光

[发明专利]彩色滤光片及彩色滤光片的制造方法-CN201080009081.1有效
发明人： 松井浩平;八田薰;安井亮辅 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-02-24 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明是彩色滤光片及彩色滤光片的制造方法，通过使用了小型光掩膜的连续曝光方式提供一种显示质量良好的彩色滤光片。彩色滤光片具备：基板、黑色矩阵、条纹图案、配置在显示区域内的多个柱状间隔物、以及多个伪柱状间隔物。黑色矩阵形成于基板上并划分排列有多个像素的矩形的显示区域和包围该显示区域的非显示区域。条纹图案由在一方向上延伸的多个着色层构成。着色层分别与显示区域的一对边交叉，该一对边的方向与着色层延伸的方向正交。配置在非显示区域上的着色层的两端部分的厚度不一定。此外，多个伪柱状间隔物配置在非显示区域中、未形成着色层的部分。
彩色滤光制造方法

[发明专利]曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置-CN201080006850.2有效
发明人： 松井浩平;柴田靖裕;安井亮辅 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-02-04 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置，该曝光方法中，当使用设有多个掩膜图案的光掩膜进行曝光时，不需要将光掩膜移动到曝光装置的照射区域，便能在基板上的不同区域将与形成各个不同的彩色滤光片相对应的各掩膜图案曝光。将具有用于将构成第1彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将构成第2彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定，一边搬运基板，一边将来自光源的光选择性地照射第1掩膜图案，将第1区域上的光阻剂连续地曝光，并且，一边搬运基板，一边将来自光源的光选择性地照射第2掩膜图案，将第2区域上的光阻剂连续地曝光。
曝光方法彩色滤光制造装置

[发明专利]激光曝光装置-CN201080006400.3无效
发明人：棚田祐二;石井大助;梶山康一;水村通伸;畑中诚;松井浩平;池田武司 -专利权人：株式会社V技术;凸版印刷株式会社
申请日： 2010-02-02 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种激光曝光装置，其具备：第一蝇眼透镜(2)，其扩大激光的截面形状；第一光程差调整构件(3)，其配置于第一蝇眼透镜(2)的激光的入射侧且使向第一蝇眼透镜(2)的各聚光透镜(2a)分别入射的激光产生相位差；会聚透镜(4)，其将从第一蝇眼透镜(3)射出的激光转变为平行光；第二蝇眼透镜(6)，其将激光带来的光掩模的照明区域内的光强度分布均匀化；第二光程差调整构件(7)，其配置于第二蝇眼透镜(6)的激光的入射侧，使向第二蝇眼透镜(6)的各聚光透镜(6a)分别入射的激光产生相位差。由此，将由蝇眼透镜产生的激光的干涉条纹平均化，同时降低激光的照度不均。
激光曝光装置

[发明专利]着色组合物及使用该着色组合物的滤色器-CN200880011567.1有效
发明人：原口一道;狩野贵志;松井浩平 -专利权人：东洋油墨制造株式会社
申请日： 2008-04-11 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的着色组合物含有具有烯键式不饱和双键的化合物(A)、颜料(B)、颜料分散剂(C)、光聚合引发剂(D)、和包含25重量％以上的有机溶剂(S)的有机溶剂(E)，水在有机溶剂(S)中的溶解度超过7.0重量％。以着色组合物的总重量为基准，着色组合物的含水率为0.3～2.0重量％。本发明的滤色器在基板上具备由所述着色组合物形成的着色像素。
着色组合使用滤色器

[发明专利]着色组合物、滤色器及其制造方法-CN200880002129.9有效
发明人：重森勋;宫村护嗣;和久寿男;饭田裕介;砂原建朗;松井浩平;池田武司;田中英世;青木英士;原田元气 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2008-01-11 - 公布日： 2009-12-02 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种滤色器的制造方法，其中将以下的工序重复多次，从而形成至少2色的滤波器节和/或黑色矩阵，所述工序为：在基板上涂布含有颜料、具有烯属不饱和双键的单体以及光聚合引发剂的着色组合物以形成着色涂膜的工序；对上述着色涂膜的成为滤波器节或黑色矩阵的部分以累积曝光量达到1～150mJ/cm²的方式照射波长为308nm(XeCL)的准分子激光以使其固化的工序；以及，除去上述着色涂膜的未固化部分而形成滤波器节或黑色矩阵的工序。本发明还提供一种在该滤色器的制造方法中使用的着色组合物，其含有颜料、具有烯属不饱和双键的单体以及光聚合引发剂。
着色组合滤色器及其制造方法

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