专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种可实现入射角从90度扫描到小角度的多波段反射系统-CN202220219312.1有效
  • 孟永宏;杨良;孙文杰 - 北京量拓科技有限公司
  • 2022-01-25 - 2022-06-17 - G01N21/01
  • 本申请涉及一种可实现入射角从90度扫描到小角度的多波段反射系统,其包括承载平台、深紫外近红外出光臂、深紫外近红外检测臂、中红外出光臂、中红外检测臂、样品台、第一旋转台以及第二旋转台,深紫外近红外出光臂固定在承载平台的一端,中红外出光臂固定在承载平台远离深紫外近红外出光臂的一端,第一旋转台与承载平台转动连接,转动轴沿垂直承载平台方向设置,深紫外近红外检测臂和中红外检测臂均固定在第一旋转台上,且深紫外近红外检测臂和中红外检测臂相邻设置,中红外检测臂靠近中红外出光臂,第二旋转台与第一旋转台转动连接,转动轴沿垂直承载平台方向设置,且第一旋转台以及第二旋转台为同轴旋转,样品台固定在第二旋转台远离承载平台的一侧,用于承载样品,本申请具有可变入射角范围大的效果。
  • 一种实现入射角90扫描角度波段反射系统
  • [实用新型]一种大入射角度范围调整的偏振态测量系统-CN202220219380.8有效
  • 孟永宏;杨良;朱宗洋 - 北京量拓科技有限公司
  • 2022-01-25 - 2022-06-17 - G01N21/21
  • 本申请涉及偏振测量系统,尤其是涉及一种大入射角度范围调整的偏振态测量系统,其技术方案要点是:偏振测量系统包括起偏臂、检偏臂和载物台,还包括支撑架、固定在支撑架上的转轴,以及两个角度调整机构,其中一个角度调整机构用于驱动起偏臂围绕转轴定轴转动,起偏臂与载物台之间的夹角范围大于等于0°且小于等于90°;另一角度调整机构驱动检偏臂围绕转轴定轴转动,检偏臂与载物台之间的夹角范围大于等于0°且小于等于90°;当起偏臂与载物台之间的夹角、检偏臂与载物台之间的夹角均为0°时,起偏臂与检偏臂相互对射;达到了便于对样品的散射光、反射光或透射光进行偏振态测量的目的。
  • 一种入射角度范围调整偏振测量系统
  • [发明专利]一种用于大气层外拦截的最优中制导方法及装置-CN202210234975.5有效
  • 陈万春;赵石磊;杨良;于琦 - 北京航空航天大学
  • 2022-03-11 - 2022-05-27 - G06F30/20
  • 本发明提供了一种用于大气层外拦截的最优中制导方法及装置,其中,该用于大气层外拦截的最优中制导方法包括:基于拦截弹和目标导弹的轨道要素,建立终端时间可变的兰伯特问题的数学模型,基于建立的数学模型推导拦截弹期望关机速度方向矢量方程;基于拦截弹角动量、拦截弹性能参数以及预设的假设条件,预测助推段终端结束时刻的位置矢量和速度矢量;采用牛顿迭代法,基于兰伯特问题数学模型以及拦截弹期望关机速度方向矢量方程,求解拦截弹期望关机速度方向矢量;基于助推段终端位置矢量和速度矢量以及拦截弹期望关机速度方向矢量,求解拦截弹最优制导指令。可以提高拦截精度。
  • 一种用于大气层拦截最优制导方法装置
  • [发明专利]一种小入射角的多波段反射系统及其使用方法-CN202210088784.2在审
  • 孟永宏;杨良;孙文杰 - 北京量拓科技有限公司
  • 2022-01-25 - 2022-05-10 - G01N21/01
  • 本申请涉及一种小入射角的多波段反射系统及其使用方法,其包括承载平台、深紫外近红外出光臂、深紫外近红外检测臂、中红外出光臂、中红外检测臂、样品台、第一旋转台以及第二旋转台,深紫外近红外出光臂固定在承载平台的一端,中红外出光臂固定在承载平台远离深紫外近红外出光臂的一端,第一旋转台与承载平台转动连接,转动轴沿垂直承载平台方向设置,深紫外近红外检测臂和中红外检测臂均固定在第一旋转台上,且深紫外近红外检测臂和中红外检测臂相邻设置,中红外检测臂靠近中红外出光臂,第二旋转台与第一旋转台转动连接,转动轴沿垂直承载平台方向设置,且第一旋转台以及第二旋转台为同轴旋转,样品台固定在第二旋转台远离承载平台的一侧,用于承载样品,本申请具有可变入射角范围大的效果。
  • 一种入射角波段反射系统及其使用方法
  • [实用新型]晶片研磨装置-CN202122784637.2有效
  • 张佳浩;杨良;曾柏翔;李瑞评;陈铭欣 - 福建晶安光电有限公司
  • 2021-11-15 - 2022-04-29 - B24B37/08
  • 本实用新型提供一种晶片研磨装置,该装置包括上研磨盘、下研磨盘、太阳轮、外齿轮、若干第一行星轮及若干第二行星轮,其中,上研磨盘与下研磨盘同轴且上下对应配置;太阳轮同轴设置于上研磨盘与下研磨盘之间;外齿轮设置于下研磨盘外边缘;若干第一行星轮设置于太阳轮与外齿轮之间,与太阳轮啮合且与所述外齿轮不直接接触;第二行星轮分别与第一行星轮及外齿轮啮合。本实用新型的晶片研磨装置不仅填补了研磨盘面的空白区域,提高产能,而且使研磨盘面对衬底的磨耗更均匀,进而优化衬底的平整度。
  • 晶片研磨装置
  • [实用新型]用于隐形切割机的晶片形变优化装置及隐形切割机-CN202122251018.7有效
  • 李瑞评;杨良;张佳浩;曾柏翔 - 福建晶安光电有限公司
  • 2021-09-16 - 2022-04-12 - B28D5/00
  • 本实用新型提供一种用于隐形切割机的晶片形变优化装置及隐形切割机,所述晶片形变优化装置包括辅助测距元件,用于固定在隐形切割机的移动载台的上表面,且所述辅助测距元件位于待加工晶片的一侧;测距部件,位于所述辅助测距元件的上方,用于检测其与所述辅助测距元件之间的第一距离,以及用于检测其与待加工晶片之间的第二距离;镭射深度调整单元,其与所述测距部件电连接,用于基于所述第一距离与第二距离之差调整激光焦深。在隐形切割机对晶片的加工过程中,该晶片形变优化装置解决了不同晶片厚度差异导致的其形变幅度大小不一致的问题。
  • 用于隐形切割机晶片形变优化装置
  • [发明专利]满足大横程机动的横向制导方法和系统-CN202111595114.1在审
  • 杨良;陈万春;王冲冲 - 北京航空航天大学
  • 2021-12-24 - 2022-04-01 - G05D1/10
  • 本发明提供了一种满足大横程机动的横向制导方法和系统,应用于飞行器再入滑翔段的制导;包括:获取飞行器在再入滑翔段的预设倾侧翻转点的能量值;基于飞行器的当前状态信息和终端约束信息,生成满足纵向平面终端约束的预测控制量信息;基于预测控制量信息和预设倾侧翻转点的能量值,通过积分预测飞行器的落点位置,得到预测落点位置;以第一圆弧与第二圆弧组成的角度偏差作为反馈量,对预设倾侧翻转点的能量值进行修正,得到预设倾侧翻转点的修正能量值;基于预设倾侧翻转点的修正能量值对飞行器进行横向制导。本发明缓解了现有技术中存在的无法发挥高升阻比再入飞行器大横向机动能力的技术问题。
  • 满足大横程机动横向制导方法系统

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