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[实用新型]一种可调节式焊装夹具-CN202223393801.8有效
发明人：王成才;李全宝;王家晨 -专利权人：烟台沃力特智能科技有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： B23K37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可调节式焊装夹具，包括底板，底板的内部开设有滑槽，滑槽的内部活动安装有两个工字板，两个工字板的顶部均固定安装有滑座，滑座的顶部固定安装有两个支杆，两个支杆的顶部固定安装有顶板，顶板的内部螺纹连接有螺柱，螺柱的顶端固定安装有摇杆。通过设置的调节孔和定位孔，当工字板在滑动时，可以使得定位孔对应不同的调节孔，并在调节孔和定位孔内部插入螺栓固定，并且滑座在螺杆和滑杆的限位下保持稳定，并使得力矩和位置稳定，可以使得夹持后的工件位置被调节固定，整体调节方便，可以对夹持的工件进行调节参考，便于增加作业的便利性。
一种调节式焊装夹具

[发明专利]图像传感器及其制造方法-CN202210646192.8在审
发明人：慎邦威;肖海波;李全宝;戴辛志 -专利权人：豪威集成电路（成都）有限公司
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供一种图像传感器及其制造方法，包括：提供衬底，衬底具有相对的第一表面和第二表面；衬底包括像素区域和逻辑区域，逻辑区域中包含比较器区域；在比较器区域靠近第一表面的衬底中形成比较器电路；比较器电路包括NMOS管和PMOS管，NMOS管和PMOS管各自都包括依次位于衬底上的栅氧化层和栅极；在比较器电路下方的衬底中形成深沟槽，并在深沟槽中填充高K介质层形成虚拟深沟槽隔离。通过在比较器电路下方的衬底中形成虚拟深沟槽隔离从而引入H离子，H离子和Si/SiO2悬挂键结合形成Si‑H键，降低衬底与栅氧化层的界面缺陷密度和比较器电路的电流噪声，具体降低像素图像上的点线噪声，提高图像传感器的性能。
图像传感器及其制造方法

[实用新型]改善等离子体诱发损伤的图像传感器-CN202123144016.4有效
发明人：饶金华;肖海波;李全宝;施喆天;戴辛志 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本实用新型提供的改善等离子体诱发损伤的图像传感器中，衬底包括像素区和测试器件形成区，像素区的衬底背面一侧形成有背面接地结构，测试器件形成区形成有测试器件；互连层形成于衬底的正面一侧，互连层的互连结构与测试器件的栅极结构电连接；金属焊盘凹槽位于像素区和测试器件形成区之间且贯穿衬底，金属焊盘凹槽底部的互连层中形成有导通孔；金属焊盘的一部分位于金属焊盘凹槽内且填满导通孔以与互连结构电连接，且金属焊盘的另一部分跨越至像素区并与背面接地结构电连接。如此，等离子体刻蚀形成金属焊盘而产生的电荷能够通过背面接地结构释放，可以改善甚至消除等离子体诱发损伤对测试器件的影响。
改善等离子体诱发损伤图像传感器

[实用新型]一种电力系统监控主机的安装结构-CN202122243292.X有效
发明人：张敬淳;李全宝;高玉伟;范迎亮;史小亮;刘冀坤;胡保林;黎冲;王海军 -专利权人：河北北恒电气科技有限公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G06F1/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电力系统监控主机的安装结构，包括固定框和主机盒，主机盒包括显示屏和处理器，处理器固定在显示屏的背面中央，处理器的周围设置有绝缘板，绝缘板与显示屏的背面胶接，绝缘板上设置有若干螺柱，固定框的中央设置有方形孔，处理器设置于方形孔内，方形孔的周围设置有若干通孔，通孔与螺柱相对应，螺柱上设置有螺帽，固定框的背面一侧设置有散热机构，散热机构包括螺纹杆、升降座和风扇，风扇固定在升降座上并朝向处理器的侧面。本实用新型采用上述结构的一种电力系统监控主机的安装结构，安装简单牢固，具有良好的绝缘性能和散热性能。
一种电力系统监控主机安装结构

[发明专利]半导体器件的制作方法及CMOS图像传感器的制作方法-CN201811288623.8有效
发明人：林率兵;李全宝 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种半导体器件的制作方法及CMOS图像传感器的制作方法，包括：提供一衬底，在衬底上形成图形化的第一光阻；以图形化的第一光阻为掩蔽层在衬底中注入第一类杂质离子；掩膜层填充并覆盖第一光阻；反刻蚀掩膜层以暴露出第一光阻；去除图形化的第一光阻，从而形成图形化的掩膜层，以图形化的掩膜层为掩蔽层在衬底中注入第二类杂质离子。本发明在注入第一类杂质离子后，保留第一光阻，通过掩膜层填充、反刻及去第一光阻实现第一光阻图案的反转，形成的图形化的掩膜层即所需第二类杂质离子注入的掩蔽图形，利用第一光阻反转实现自对准可有效避免现有技术中两次光刻之间的套刻偏移，降低对准工艺难度，提高离子注入的工艺精度。
半导体器件制作方法 cmos 图像传感器

[发明专利]逻辑晶圆、CMOS图像传感器及其制造方法-CN201711450776.3有效
发明人：王海莲;林率兵;李全宝;叶剑蝉;郭盈志 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供了一种逻辑晶圆、CMOS图像传感器及其制造方法，将与穿硅通孔接触结构直接连接的金属层的厚度设置为大于或者等于2000埃，由此，在形成穿硅通孔接触结构时，能够提供较大余量的金属层的损耗，使得金属层能够很好的与穿硅通孔接触结构连接，从而提高了所形成的逻辑晶圆或者相应的CMOS图像传感器的质量与可靠性。
逻辑 cmos 图像传感器及其制造方法

[实用新型]汽车侧围的电泳杂质液导流结构、汽车侧围总成及汽车-CN201921925769.9有效
发明人：马建龙;王建彬;高猛;李全宝;赵燕涛 -专利权人：长城汽车股份有限公司
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： B62D25/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种汽车侧围的电泳杂质液导流结构，包括外板和加强板，外板设有外板过孔；加强板位于外板内侧；加强板上设有与外板过孔连通的加强板过孔，加强板上还设有位于加强板过孔下方且与加强板过孔连通的导流通道，导流通道与外板之间存在间距；本实用新型还提供了一种带有上述汽车侧围的电泳杂质液导流结构的汽车侧围总成及汽车。本实用新型可避免在外板上形成杂质液流痕，不会对外板的可视区域造成影响，另外还可降低外板及车门铰链、连接件及车门铰链安装孔的加工及装配精度，提升了生产及装配效率。
汽车电泳杂质导流结构总成

[发明专利]一种背照式CMOS图像传感器及其形成方法-CN201510548993.0有效
发明人：高喜峰;李全宝 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2015-08-31 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供了一种背照式CMOS图像传感器及其形成方法。所述背照式CMOS图像传感器包括：形成有光电二极管的前端结构；位于所述前端结构的正面的辅助结构及介电层，所述辅助结构被所述前端结构及介电层包围；其中，所述辅助结构的折射率低于所述前端结构及介电层的折射率。本发明获得的背照式CMOS图像传感器，入射光在穿过光电二极管后，被全反射的部分增加，其可以再次入射光电二极管，有效提高光电二极管吸收的光子，提高量子转换效率。
一种背照式 cmos 图像传感器及其形成方法

[发明专利]一种堆栈式图像传感器芯片及其制造方法-CN201610518986.0有效
发明人：林峰;李全宝 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2016-07-04 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供了一种堆栈式图像传感器芯片及其制造方法，所述堆栈式图像传感器芯片的像素区包括第一区域以及位于所述第一区域内的第二区域，所述第一区域和/或所述第二区域内形成有晶柱，通过改变所述晶柱两端的电压，能够使得所述晶柱伸长或者收缩，由此，所述堆栈式图像传感器芯片在接收光线的过程中，可以使得第一区域(即边缘区域)伸长而更接近光源和/或使得第二区域(即中心区域)收缩更远离光源，从而可以使得第一区域(即边缘区域)接收到的光线较第二区域(即中心区域)接收到的光线多，提高了第一区域(即边缘区域)的感光能力，从而弥补了透镜带来的摄像头中心区域和边缘区域之间成像不均匀的缺陷，即使得摄像头的成像更加均匀。
一种堆栈图像传感器芯片及其制造方法

[发明专利]背照式图像传感器的制备方法-CN201610825527.7有效
发明人：刘远良;李全宝 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2016-09-14 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明揭示了一种背照式图像传感器的制备方法，包括：提供一半导体衬底，所述半导体衬底具有第一面以及与所述第一面相背的第二面；在所述半导体衬底的第一面上制备第一外延半导体层、第二外延半导体层；在所述光电二极管区域上的第二外延半导体层中形成第一离子注入区，在所述隔离区域上的第二外延半导体层中形成第一隔离结构，所述第一离子注入区位于背离所述第一外延半导体层的一侧的表面；对所述半导体衬底的第二面进行减薄，直至暴露出所述第一外延半导体层；在暴露出的所述第一外延半导体层中制备第二隔离结构。本发明的背照式图像传感器的制备方法可以提高红外光的量子效率，同时改善蓝光的量子效率。
背照式图像传感器制备方法

[实用新型]风力发电机机舱吊具-CN201820899879.1有效
发明人：张建军;张建伟;张瑞佳;张瑞恩;付建良;王海涛;马达;王帅;鲁志;卜文龙;高志;张艳龙;李全宝;王晓强 -专利权人：河北长江中远吊索具有限公司;保定海风风电科技有限公司
申请日： 2018-06-11 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： B66C1/12 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种风力发电机机舱吊具。包括上吊系、吊装在上吊系下方的工型吊梁、安装在工型吊梁下部的前端下吊系以及后端下吊系，所述上吊系为双肢吊索具，工型吊梁由横梁、固定在横梁两端的第一纵梁及第二纵梁构成，第一纵梁与第二纵梁不等长，在工型吊梁的上吊耳与下吊耳上均设有不少于一个的吊孔。本实用新型的优点是吊装时可根据工况适时调整机舱重心且避免连接索具与机舱内部设备干涉，通用性、稳定性及安全性好。
吊梁工型纵梁机舱本实用新型风力发电机吊具吊系吊装吊索横梁两端机舱内部不等长连接索上吊耳下吊耳横梁吊孔双肢重心干涉

[发明专利]风力发电机机舱吊具-CN201810597475.1在审
发明人：张建军;张建伟;张瑞佳;张瑞恩;付建良;王海涛;马达;王帅;鲁志;卜文龙;高志;张艳龙;李全宝;王晓强 -专利权人：河北长江中远吊索具有限公司;保定海风风电科技有限公司
申请日： 2018-06-11 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： B66C1/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种风力发电机机舱吊具。包括上吊系、吊装在上吊系下方的工型吊梁、安装在工型吊梁下部的前端下吊系以及后端下吊系，所述上吊系为双肢吊索具，工型吊梁由横梁、固定在横梁两端的第一纵梁及第二纵梁构成，第一纵梁与第二纵梁不等长，在工型吊梁的上吊耳与下吊耳上均设有不少于一个的吊孔。本发明的优点是吊装时可根据工况适时调整机舱重心且避免连接索具与机舱内部设备干涉，通用性、稳定性及安全性好。
吊梁工型纵梁机舱风力发电机吊具吊系吊装吊索横梁两端机舱内部不等长连接索上吊耳下吊耳横梁吊孔双肢重心干涉

[发明专利]一种干法刻蚀凸块形貌可控的制备方法-CN201510975404.7有效
发明人： 李全宝;韩冬;姚海平 -专利权人：苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司
申请日： 2015-12-23 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： H01L21/60 文献下载
摘要：本发明公开了一种干法刻蚀凸块形貌可控的制备方法，包括以下步骤：在衬底上附着氧化层(oxide)介质膜；在氧化层介质膜上旋涂上光刻胶PR，然后进行曝光，显影；对光刻胶PR进行烘烤，使光刻胶PR形成固定的形貌和厚度；采用RIE干法刻蚀，使用CF4和CHF3气体组合来对介质膜进行刻蚀；保持CF4和CHF3的气体总流量不变，调整CF4和CHF3气体的比例，从而获得一定的oxide和PR的选择比；通过特定oxide和PR的选择比，在介质膜刻蚀过程中，在PR形貌和厚度固定的情况下，逐渐消耗两个肩膀的PR，从而达到介质膜刻蚀呈现正梯形，最终得到底部坡度形貌可控的凸块形状。该方法制备技术简单，制备的凸块形貌可控、重复性良好。
形貌可控介质膜制备干法刻蚀凸块形貌固定的选择比刻蚀气体总流量氧化层介质刻蚀过程凸块形状光刻胶氧化层正梯形烘烤上光衬底附着上旋显影坡度肩膀消耗曝光

[发明专利]一种背照式传感器芯片及其制造方法-CN201510197708.5有效
发明人：林峰;李全宝;叶果 -专利权人：豪威科技（上海）有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2018-05-04 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供了一种背照式传感器芯片及其制造方法，所述背照式传感器芯片包括逻辑区和像素区，所述像素区包括像素区边缘区域和位于所述像素区边缘区域内的像素区中心区域；其中，所述像素区边缘区域与所述像素区中心区域之间呈阶梯状布置，且所述像素区边缘区域高于所述像素区中心区域，从而使得摄像时，像素区边缘区域更接近光源。由此，所述背照式传感器芯片在接收光线的过程中，可以使得像素区边缘区域接收到的光线较像素区中心区域接收到的光线多，提高了像素区边缘区域的感光能力，从而弥补了透镜带来的摄像头中心区域和边缘区域之间成像不均匀的缺陷，即使得摄像头的成像更加均匀。
一种背照式传感器芯片及其制造方法

[发明专利]晶圆净化装置、刻蚀机台及大马士革刻蚀方法-CN201410654598.6有效
发明人： 李全宝;刘斌;江旻;曾林华;任昱;吕煜坤;朱骏;张旭升 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-11-17 - 公布日： 2017-12-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了晶圆净化装置、刻蚀机台及大马士革刻蚀方法，晶圆净化装置内设置用于装载晶圆的内腔和用于气体流通的外腔，通过机械泵的吸引力使内腔中的刻蚀后的晶圆上的刻蚀残留气体向排气通道平行流动，并经过排气通道沿外腔排出，从而可以避免刻蚀残留气体在内腔中向上流动，减小未刻蚀晶圆表面的刻蚀残留气体浓度，避免与未刻蚀晶圆表面反应形成污染物；并且通过在内腔侧壁设置具有一定间隔距离的晶圆卡块，使得存放于其上的晶圆也能够以一定间距隔开，进一步减小了刻蚀残留气体在晶圆表面的浓度，避免刻蚀后的晶圆对未刻蚀的晶圆表面造成交叉污染和缺陷，提高了铜互连的可靠性。
净化装置刻蚀机台大马士革方法

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