专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]压电驱动的可变形反射镜及其制造方法-CN200710171222.X无效
  • 李以贵;张俊峰 - 上海交通大学
  • 2007-11-29 - 2008-07-23 - G02B26/08
  • 一种光学器件技术领域的压电驱动的可变形反射镜及其制造方法。本发明反射镜中,底座的上面是四个PZT压电驱动器,在四个PZT压电驱动器上面键合了带有四个支撑柱的硅反射镜面,硅反射镜面的边框与底座相连,当施加可调节的电压时,PZT压电驱动器产生的法向压电力使硅反射镜面的中心部分发生板形变最大,形成一个凹凸面。制造方法包括:①带四个支撑柱的硅反射镜面部分的制作工艺;②底座部分的制作工艺;③PZT压电驱动器的制作工艺及Si-Au共晶合金键合。本发明可变形反射镜是由法向压电力来驱动的,只需通过改变施加的外加电压的大小就可快速准确的调节微反射镜焦点,比以往的微反射镜结构更简单,更容易阵列化和变焦控制。
  • 压电驱动变形反射及其制造方法
  • [发明专利]微驱动结构的变位增幅装置及其制造方法-CN200710046920.7无效
  • 李以贵;张俊峰 - 上海交通大学
  • 2007-10-11 - 2008-03-05 - B81B3/00
  • 一种微型机电系统技术领域的微驱动结构的变位增幅装置及其制造方法。本发明装置中,静电式梳状微驱动器是组成变位增幅装置的基本部件,它是由相对成叉指状的固定梳齿部分与可动梳齿部分组成,弹簧梁与增幅部分相连组成结构的增幅杠杆,可动梳齿通过细梁与弹簧梁的上下两端分别相连,支点位于弹簧梁的中间。制造方法为:首先预制掩模板,将设计好目的结构图案迁移在SOI晶片表面;其次用感应耦合反应离子刻蚀工艺刻蚀至SiO2层;然后去除设备层表面的光刻胶;接着利用HF蒸汽刻蚀工艺来刻蚀设备层下边的SiO2层,并且释放出变位增幅结构的可移动部分;干燥以进一步消除粘连问题。本发明能够根据应用需要精确的放大微位移,而且结构简单。
  • 驱动结构变位增幅装置及其制造方法
  • [发明专利]静电驱动的焦点可变微平面镜及其制造方法-CN200710046921.1无效
  • 李以贵;张俊峰 - 上海交通大学
  • 2007-10-11 - 2008-03-05 - G02B26/10
  • 一种光学器件技术领域的静电驱动的焦点可变微平面镜及其制造方法。本发明平面镜包括:底座、底座上固定的环形电极、Si基板、可动电极和微平面镜镜面,环形电极与可动电极通过Si-Au共晶合金键合并形成一个为可动电极提供形变空间的气隙,可动电极与Si基板相连,当固定的环形电极和可动电极之间施加电压时,产生的法向静电力驱动可动电极向下面的环形电极方向运动形成一个凹面,微平面镜镜面设置在可动电极上。制造方法为:①平面镜部分的制作工艺;②底座部分的制作工艺;③环形电极与可动电极的Si-Au共晶合金键合。本发明只需通过改变施加的外加电压的大小就可快速准确的调节微平面镜焦点,比以往的微平面镜结构更简单,更容易阵列化和变焦控制。
  • 静电驱动焦点可变平面镜及其制造方法
  • [发明专利]用x射线曝光制造不同深宽比的微机械构件的方法-CN200410084556.X无效
  • 李以贵;宋康;陈水良 - 上海交通大学
  • 2004-11-25 - 2005-06-29 - G03F7/20
  • 一种用x射线曝光制造不同深宽比的微机械构件的方法,用于微细加工技术领域,本发明由于x射线的光强分布是呈高斯分布的,即x射线束浓度是位置的函数,并且x射线的剂量通过开普敦窗口的大小来精确控制,用PMMA作为光刻胶,用x射线曝光,在相同的曝光时间中,曝光深度随着位置的改变也呈高斯分布,从而在光刻胶上得到不同深宽比的微机械构件。本发明曝光时不同的位置会得到不同的曝光量,因此只需一步曝光就可到到深宽比不同的微结构。本发明可应用于复杂微机械或微光学结构的制作,可以减少工艺步骤,节省掩膜制作成本。
  • 射线曝光制造不同微机构件方法
  • [发明专利]塑料微流控分析芯片的封装方法-CN200410016231.8无效
  • 李建华;陈迪;刘景全;朱军;李以贵 - 上海交通大学
  • 2004-02-12 - 2004-12-29 - C12Q1/68
  • 一种塑料微流控分析芯片的封装方法,首先利用微复制技术将模板上的微通道图案复制到塑料片上,然后将聚二甲基硅氧烷预聚体与固化剂按比例混合,经真空脱气、浇铸固化后制成的聚二甲基硅氧烷薄片放置到塑料基片上,在塑料基片外围涂上紫外固化粘合剂后,再贴一片塑料片组成三层结构来增强封装强度,经紫外光照后,完成塑料芯片的封装。本发明工艺简单,微通道保真度高,没有微通道的变形和堵塞现象,得到的塑料微流控芯片具有很高的封装强度。
  • 塑料微流控分析芯片封装方法
  • [发明专利]光纤端面微细加工方法-CN02111917.1无效
  • 李以贵;贾书海;王宏坤 - 上海交通大学
  • 2002-06-03 - 2004-02-25 - G02B6/136
  • 光纤端面微细加工方法属于微细加工技术领域。本发明具体方法如下:(1)在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀光刻胶层;(2)将光纤端面前烘;(3)将光纤端面导入带自对准的掩膜板微孔,对光刻胶进行曝光,显影,并进行后烘;(4)以光刻胶为掩膜对光纤端面进行刻蚀,得到所需的光纤端面形状和结构。本发明采用带自对准的掩膜板解决了光纤端面加工技术难,对准程度低的问题,实现对光纤端面进行任意形状和结构的加工。
  • 光纤端面微细加工方法
  • [发明专利]光纤纳米尖端的加工方法-CN02137257.8无效
  • 朱军;李以贵 - 上海交通大学
  • 2002-09-29 - 2003-03-12 - G12B21/06
  • 一种光纤纳米尖端的加工方法属于微细加工技术领域。本发明采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后,用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影,然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层,将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液,利用湿法腐蚀的钻蚀效应得到光纤端部纳米尖端结构。本发明具有实质性特点和显著进步,本发明腐蚀出的尖端尺寸与锥度仅仅取决于钻蚀,对湿法腐蚀而言,钻蚀的形貌主要决定于待腐蚀的材料,因此该光纤端部纳米尖端的制备方法不仅受环境因素的影响小,而且不同模式的光纤腐蚀得到的尖端形貌一致性好。
  • 光纤纳米尖端加工方法
  • [发明专利]带自对准的掩膜板-CN02111916.3无效
  • 李以贵;贾书海;王宏坤 - 上海交通大学
  • 2002-06-03 - 2002-11-27 - G02B6/136
  • 带自对准的掩膜板属于微细加工技术领域。本发明主要包括玻璃基板、Au/Cr层、镀镍层和微孔,玻璃基板在最上层,中间为Au/Cr层,下层为镀镍层,玻璃基板、Au/Cr层、镀镍层之间通过胶联或键合连接,微孔在镀镍层上。本发明具有实质性特点和显著进步,本发明可对光纤端面直接进行加工,解决了光纤端面加工技术难,对准程度低的问题,并可对光纤端面进行任意形状和结构的加工,对研制光纤通信用的器件和含有复杂图形的器件具有特别重要的意义。
  • 对准掩膜板

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