专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]薄膜晶体管阵列面板的制造方法-CN200910164010.8无效
  • 朴云用;李元熙;金一坤;林承泽;宋俞莉;田尚益 - 三星电子株式会社
  • 2004-02-03 - 2010-02-24 - G02F1/1362
  • 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法。该方法包括:在绝缘基板上形成栅极线;形成栅极绝缘层;形成半导体;形成包括数据线及漏极的数据导电层;形成钝化层,该钝化层具有露出漏极的一部分及邻接在漏极边界线的栅极绝缘层的上表面的一部分的接触孔;以及形成通过接触孔与漏极连接的像素电极,其中,像素电极通过钝化层中的接触孔与漏极的上表面以及邻接在漏极边界线的栅极绝缘层的上表面的一部分相接触。根据本发明,防止在接触部露出布线边界时,布线下部发生下切,可以缓慢确保接触部的侧面。通过它可以防止在接触部发生断线,可以稳定安装驱动集成电路,因此,可以确保接触部的可靠性。
  • 薄膜晶体管阵列面板制造方法
  • [发明专利]感光液狭缝喷嘴的感光液硬化防止装置及方法-CN200710102206.5有效
  • 权晟;金株香;朴云用 - K.C.科技股份有限公司
  • 2007-04-27 - 2007-11-07 - G03F7/16
  • 本发明涉及一种感光液狭缝喷嘴的感光液硬化防止装置及方法,本发明所提供的感光液狭缝喷嘴的感光液硬化防止装置,包含:收容部,用于收容硬化防止液和感光膜涂布喷嘴的狭缝,并使感光膜涂布喷嘴的狭缝不与硬化防止液接触;狭缝接触部件,用于使部分硬化防止液与感光膜涂布喷嘴的末端接触。并且,本发明所提供的感光液狭缝喷嘴的感光液硬化防止方法包含:利用狭缝接触部件使部分硬化防止液产生表面张力的表面张力诱导步骤;使处于待机状态的感光膜涂布喷嘴的狭缝末端与依靠表面张力突出的部分硬化防止液接触的狭缝接触步骤。本发明通过设置狭缝接触部件使得少量硬化防止液与狭缝末端相接触,从而使硬化防止液使用量最小,并延长更换周期。
  • 感光狭缝喷嘴硬化防止装置方法
  • [发明专利]制造液晶显示器面板的方法-CN02807592.7有效
  • 卓英美;朴云用;崔权永;朴明在 - 三星电子株式会社
  • 2002-09-18 - 2005-06-01 - G02F1/1337
  • 在一种利用对一个衬底分区曝光制造液晶显示器的方法中,在相邻拍摄区之间的边界处设置一个重叠区,并且分别以拍摄区的面积逐渐减小和增大的方式对边界左侧和右侧拍摄区曝光,从而减小两个拍摄区之间由于压合误差所致的亮度差。例如,当沿压合区的横向向右行进时分配给左侧的单元压合区的数量逐渐减少,而分配给右侧的单元压合区的数量逐渐增多。一个单元压合区包括一个通过将一个像素划分成至少两部分所获得的一个区域。
  • 制造液晶显示器面板方法
  • [发明专利]供液晶显示器用薄膜晶体管阵列面板及其制造方法-CN99124817.1有效
  • 宋俊昊;朴云用 - 三星电子株式会社
  • 1999-11-18 - 2004-09-08 - H01L21/30
  • 利用第一光刻步骤,在基板上形成栅线,并连续淀积栅绝缘层和半导体层。淀积可硅化的金属层,从而在半导体层上形成硅化物层,清除剩下的金属层或淀积细微结晶化的经掺杂的非晶硅层,从而形成欧姆接触层。利用第二光刻步骤,将欧姆接触层、半导体层及栅绝缘层图案图形化。此时在栅连接区上形成暴露栅连接区的接触孔。连续淀积ITO层和金属层后,利用第三光刻步骤将其图案图形化,从而形成数据线路、像素电极及冗余栅连接区。之后,清除没有被ITO层或金属层覆盖的欧姆接触层部分。淀积钝化层,再利用第四光刻步骤将其图案图形化,然后,清除没以被钝化层覆盖的像素电极、冗余栅连接区及数据连接区的金属层和半导体层,从而分离相邻两数据线下部的半导体层。
  • 液晶显示器用薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
  • [发明专利]用于液晶显示器的薄膜晶体管阵列面板-CN00137010.3有效
  • 朴云用 - 三星电子株式会社
  • 2000-11-06 - 2004-08-25 - H01L27/00
  • 一种用于液晶显示器的薄膜晶体管阵列,包括:栅极线路,该栅极线路包括在水平方向形成的栅极线;数据线路,该数据线路包括在垂直方向形成的数据线,其中数据线路与栅极线路相交叉并与所说栅极线路绝缘;象素电极,该象素电极是在通过该栅极线和数据线相交叉限定的象素中形成,用于通过数据线接收图像信号;存储线路,该存储线路,包括存储电极线和连接存储电极线的存储电极,其中,存储线路通过重叠象素电极形成存储电容;和存储线路连接线,至少连接邻近象素的该存储线路。
  • 用于液晶显示器薄膜晶体管阵列面板
  • [发明专利]薄膜的光刻方法-CN200310119645.9有效
  • 朴云用;白范基 - 三星电子株式会社
  • 1999-11-26 - 2004-07-28 - H01L21/30
  • 本发明公开一种薄膜的光刻方法,包括如下步骤:在基板上形成至少一层薄膜;在所述薄膜上涂敷光致抗蚀层;利用至少一个具有至少三个不同透射量部分的光掩模,使所述光致抗蚀层曝光;使所述光致抗蚀层显影,从而根据不同位置而形成不同厚度光致抗蚀层图案;和对所述光致抗蚀层及薄膜同时进行蚀刻。
  • 薄膜光刻方法
  • [发明专利]在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示器的方法-CN02807476.9无效
  • 卓英美;朴云用;李庭镐;洪雯杓;丁奎夏 - 三星电子株式会社
  • 2002-03-05 - 2004-05-26 - G02F1/1333
  • 本发明涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷,各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说,根据本发明形成图案的方法,在首先形成第一材料层之后,通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案,其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后,在第一图案上形成第二材料层之后,通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案,其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光,在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。通过利用此形成方法制作一种液晶显示板。
  • 衬底形成图案方法以及利用制作液晶显示器

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