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- [实用新型]高真空超低温半导体晶圆快速冷却平台-CN202123073811.9有效
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孙嵩泉;杨陆晗;张磊;蒋中山;齐莉;孙巍泉
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普乐(合肥)光技术有限公司
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2021-12-08
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2022-08-23
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H01L21/67
- 本实用新型给出了一种高真空超低温半导体晶圆快速冷却平台;此平台可以把直径300毫米的半导体晶圆在15秒到30秒时间内从室温内冷却到‑120℃。高真空超低温半导体晶圆快速冷却平台由高真空超低温腔和自复叠低温制冷工质循环闭路系统构成;自复叠低温制冷工质循环闭路系统包括制冷工质循环管和超低温冷却平板,超低温冷却平板和半导体晶圆静电吸盘设置在高真空超低温冷却腔室内,半导体晶圆静电吸盘设置在超低温冷却平板上侧,超低温冷却平板上开有盘管通道,制冷工质循环管与盘管通道侧壁之间包裹有金属铟,制冷工质循环管内供制冷工质流动且制冷工质循环管两端分别伸出高真空超低温腔外侧,制冷工质循环管内通有制冷工质。该平台使得混合制冷工质在传输过程中损耗达到最小,大大提高了整个系统的能效比。
- 真空超低温半导体快速冷却平台
- [发明专利]高真空超低温半导体晶圆快速冷却平台-CN202111490849.8在审
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孙嵩泉;杨陆晗;张磊;蒋中山;齐莉;孙巍泉
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普乐(合肥)光技术有限公司
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2021-12-08
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2022-02-18
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H01L21/67
- 本发明给出了一种高真空超低温半导体晶圆快速冷却平台;此平台可以把直径300毫米的半导体晶圆在15秒到30秒时间内从室温内冷却到‑120℃。高真空超低温半导体晶圆快速冷却平台由高真空超低温腔和自复叠低温制冷工质循环闭路系统构成;自复叠低温制冷工质循环闭路系统包括制冷工质循环管和超低温冷却平板,超低温冷却平板和半导体晶圆静电吸盘设置在高真空超低温冷却腔室内,半导体晶圆静电吸盘设置在超低温冷却平板上侧,超低温冷却平板上开有盘管通道,制冷工质循环管与盘管通道侧壁之间包裹有金属铟,制冷工质循环管内供制冷工质流动且制冷工质循环管两端分别伸出高真空超低温腔外侧,制冷工质循环管内通有制冷工质。该平台使得混合制冷工质在传输过程中损耗达到最小,大大提高了整个系统的能效比。
- 真空超低温半导体快速冷却平台
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