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[发明专利]用于提供液化材料的设备、用于配量液化材料的配量系统及方法-CN202180089459.1在审
发明人：安德里亚斯·索尔;沃尔克·哈克;托马斯·德皮希;拉尔夫·施奈德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供了一种蒸气沉积设备。蒸气沉积设备包括用于提供液化材料的罐、具有可变第一容积的第一单元，所述第一单元包括第一致动器并且包括与罐流体连通的第一管线。此外，蒸气沉积设备包括具有可变第二容积的第二单元，所述第二单元包括第二致动器并且包括与罐流体连通的第二管线。蒸气沉积设备包括蒸发布置，所述蒸发布置与第一单元和第二单元流体连通。第一致动器及第二致动器经配置以交替地向可变第一容积和可变第二容积提供力，用于将液化材料提供给蒸发布置。
用于提供液化材料设备系统方法

[发明专利]沉积设备、涂覆柔性基板的方法和具有涂层的柔性基板-CN201880088935.6有效
发明人： 托马斯·德皮希;彼得·库伦齐 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-02-07 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述一种用于涂覆基板(10、10b)的沉积设备(100、101)。所述沉积设备包括：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供所述柔性基板(10)的存储卷筒(112)；沉积腔室(120)，布置在所述第一卷筒腔室(110)的下游；和第二卷筒腔室(150)，布置在所述沉积腔室(120)的下游并容纳用于在沉积后使所述柔性基板(10)卷绕在上面的卷绕卷筒(152)。所述沉积腔室(120)包括涂布滚筒(122)，所述涂布滚筒用于引导所述柔性基板通过多个沉积单元(121)，所述多个沉积单元包括具有石墨靶(125)的至少一个沉积单元(124)。此外，所述沉积设备(100)包括处理装置(160)，所述处理装置被配置为在所述至少一个沉积单元的上游或下游处理所述柔性基板。所述处理装置(160a、160b、160c)包括线性离子源(161)，所述线性离子源包括电连接至提取电极(168)和接地电位的电源(176)，其中所述电源(176)适于在约1kHz至约500kHz范围内的频率下操作。
沉积设备柔性方法具有涂层

[发明专利]处理腔室以及用于形成电化学能储存装置的元件的陶瓷层的方法、蒸发源-CN201780094919.3有效
发明人：罗兰·特拉斯尔;托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔;托马斯·德皮希;苏布拉曼亚·赫尔勒;肯特·赵 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： H01M50/434 文献下载
摘要：提供一种用于形成电化学能储存装置的元件的陶瓷层的蒸发源(102)。蒸发源(102)包括：材料源，被配置为蒸发材料；气体源，被配置为提供处理气体；以及等离子体源(108)，被配置为至少部分地离子化处理气体，陶瓷层(52)至少由蒸发的材料及至少部分地离子化的处理气体形成。
处理以及用于形成化学能储存装置元件陶瓷方法蒸发

[发明专利]用于涂覆基板的系统和工艺-CN201880096190.8在审
发明人：托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔;托马斯·德皮希;克里斯蒂安·尼克 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述了一种用于涂覆基板的系统。所述系统包括：运输布置，所述运输布置用于移动所述基板；和第一涂覆单元，所述第一涂覆单元被配置为用第一材料涂覆所述基板。所述系统进一步包括控制器，所述控制器被配置为在所述第一涂覆单元的活动状态期间使所述基板的移动方向反向至少一次。
用于涂覆基板系统工艺

[发明专利]用于沉积蒸发材料的沉积设备及其方法-CN201880088646.6在审
发明人： 托马斯·德皮希;克莱尔·阿姆斯特朗;弗兰克·施纳彭伯格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-02-05 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述了一种用于将蒸发材料沉积到基板(101)上的沉积设备(100)。沉积设备包括：沉积源(110)，所述沉积源(110)用于提供蒸发材料；材料沉积区(111)，所述材料沉积区(111)提供在所述沉积源(110)和所述基板(101)之间；可动挡板(120)，所述可动挡板(120)提供在所述材料沉积区(111)中；和沉积速率测量装置(130)，所述沉积速率测量装置(130)提供在所述沉积源(110)和所述可动挡板(120)之间的所述材料沉积区(111)中。
用于沉积蒸发材料设备及其方法

[发明专利]用于蒸发源材料的蒸发器、材料沉积源、沉积装置及其方法-CN201880087606.X在审
发明人：克莱尔·阿姆斯特朗;弗兰克·施纳彭伯格;托马斯·德皮希;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;安雅·毛里查特;苏珊娜·舒尔弗 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-01-23 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明描述了一种用于蒸发源材料(105)的蒸发器(100)。蒸发器包括坩埚(110)和第一加热器(121)，所述坩埚具有用于接收源材料(105)的内部容积(101)，所述第一加热器用于加热源材料(105)。在坩埚(110)的顶壁(111)处提供第一加热器(121)。此外，描述了一种蒸发源材料的方法。所述方法包括提供坩埚(110)，所述坩埚具有用于接收源材料的内部容积(101)；和通过使用在坩埚(110)的顶壁(111)处提供的第一加热器(121)加热源材料来蒸发源材料。
用于蒸发材料蒸发器沉积装置及其方法

[发明专利]冷却沉积源的方法、用于冷却沉积源的腔室和沉积系统-CN201780096814.1在审
发明人：克莱尔·阿姆斯特朗;弗兰克·施纳彭伯格;托马斯·德皮希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明描述了一种冷却沉积源(200)的方法(100)。所述方法包括：停止(110)从沉积源沉积材料，所述沉积源布置在沉积腔室(250)中；并且将冷却气体引入(120)沉积腔室(250)中，所述冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率λ。进一步，本发明描述一种用于冷却沉积源的腔室。所述腔室包括布置在腔室中的沉积源。此外，腔室包括冷却气体供应系统，所述冷却气体供应系统被配置用于提供冷却气体至腔室中，所述冷却气体包含λ≥0.05[W/(m*K)]的导热率λ。
冷却沉积方法用于系统

[发明专利]用以控制基板上的陶瓷层的厚度的方法及处理系统-CN201780095089.6在审
发明人：罗兰特·拉斯尔;托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔;托马斯·德皮希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：一种用以控制基板上的陶瓷层的厚度的方法，包括提供具有前侧及背侧的基板，基板涂布有陶瓷层于前侧及背侧的至少一个上；使陶瓷层的至少第一位置L1经历离子化辐射；检测回应于离子化辐射在陶瓷层的此至少第一位置L1释放的射出物；及基于检测的射出物，评估于此至少第一位置L1的陶瓷层的厚度。一种用以控制基板上的陶瓷层的厚度的处理系统，包括至少一个辐射单元，装配以朝向陶瓷层的至少第一位置L1射出离子化辐射；至少第一传感器，布置在此至少一个辐射单元中的第一位置S1，此至少第一传感器装配以检测回应于离子化辐射在陶瓷层的此至少第一位置L1释放的射出物；及至少一个控制器，装配以基于检测的射出物，评估至少在第一位置L1的陶瓷层的厚度。
用以控制基板上陶瓷厚度方法处理系统

[发明专利]材料沉积布置、用于沉积材料的方法和材料沉积腔室-CN201780088859.4在审
发明人：弗兰克·施纳彭伯格;托马斯·德皮希;斯特凡·海因;安娜贝尔·霍夫曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-04-21 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述了一种用于将材料沉积在基板上的材料沉积布置腔室(1000)。材料沉积布置腔室包括真空产生装置(1060)和材料沉积布置(100)。材料沉积布置具有阀元件(200)，阀元件被配置为调节将沉积的材料的材料流通。
材料沉积布置腔阀元件真空产生装置材料流通基板沉积配置

[发明专利]沉积设备、涂布柔性基板的方法、及具有涂层的柔性基板-CN201780062678.4在审
发明人：埃德加·海波科恩;斯特凡·劳伦兹;斯蒂芬·海因;尼尔·莫里森;赖纳·库克拉;克里斯多夫·卡森;托马斯·德皮希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-11-28 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：描述一种用于涂布柔性基板(10)的沉积设备(100)。此沉积设备包括第一线轴腔室(110)，其容纳用于提供柔性基板(10)的存储线轴(112)；沉积腔室(120)，其布置于第一线轴腔室(110)下游；及第二线轴腔室(150)，其布置于沉积腔室(120)下游，且容纳用于在沉积后缠绕柔性基板(10)于其上的绕紧线轴(152)。沉积腔室(120)包括用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)，此多个沉积单元包括具有石墨靶(125)的至少一个沉积单元(124)。进一步来说，沉积腔室(120)包括涂布处理装置(160)，配置成用以致密化沉积于柔性基板上的一层。
柔性基板沉积腔室沉积单元沉积设备腔室线轴涂布柔性基板沉积容纳涂布处理装置存储线轴涂布滚筒紧线轴石墨靶致密化缠绕配置

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