专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]液晶组合物及液晶显示器件-CN201510197773.8有效
  • 李鹏飞;丁文全;张鹤鸣 - 江苏和成显示科技有限公司
  • 2015-04-23 - 2018-10-30 - C09K19/44
  • 本发明提供一种液晶组合物,包含:占所述液晶组合物总重量1‑20%选自由通式Ⅰ的化合物组成的组的第一组分;占所述液晶组合物总重量1‑20%选自由通式Ⅱ的化合物组成的组的第二组分;占所述液晶组合物总重量1‑50%选自由通式Ⅲ的化合物组成的组的第三组份;占所述液晶组合物总重量1‑45%选自由通式Ⅳ的化合物组成的组的第四组分;以及占所述液晶组合物总重量15‑70%选自由通式Ⅴ的化合物组成的组的第五组分。本发明的液晶组合物具有适当的光学各向异性、适当的介电各向异性、适当的清亮点、良好的紫外及高温稳定性、合适的阈值电压以及较高的电压保持率。本发明还提供包含该液晶组合物的液晶显示器件。
  • 液晶组合液晶显示器件
  • [发明专利]异质沟道槽型栅CMOS集成器件及其制备方法-CN201510540631.7有效
  • 刘翔宇;胡辉勇;张鹤鸣;宋建军;舒斌;宣荣喜 - 西安电子科技大学
  • 2015-08-28 - 2018-09-14 - H01L21/84
  • 本发明涉及一种异质沟道槽型栅CMOS集成器件及其制备方法,该制备方法包括:选取SOI衬底;形成SiGe层;连续生长N型应变Ge层和N型应变Si层;采用刻蚀工艺形成隔离沟槽,形成NMOS有源区和PMOS有源区;刻蚀NMOS有源区表面的N型应变Si层,并注入N型离子以形成增强型NMOS有源区;在指定的栅极区表面采用刻蚀工艺形成双倒梯形凹槽;在表面生长氧化层,刻蚀部分区域的氧化层形成PMOS栅介质层;向PMOS有源区表面注入P型离子形成PMOS源漏区;在PMOS的栅介质层表面生长栅极材料形成PMOS栅极;在所述NMOS栅极区生长栅极材料形成NMOS栅极;金属化处理,并光刻漏极引线、源极引线和栅极引线,最终形成异质沟道槽型栅CMOS集成器件。
  • 沟道槽型栅cmos集成器件及其制备方法

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