专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测量场效应晶体管(FET)特性的方法-CN200510132826.4无效
  • 齐藤升 - 安捷伦科技公司
  • 2005-12-22 - 2006-07-05 - G01R31/26
  • 在一种FET特性测量的方法中,将从一偏压三通管的一输出端子输出的一预定偏压电压施加到一FET的漏极,且将从一脉冲发生器输出的一脉冲施加到其栅极,以借此导致产生漏极电流。通过连接到所述偏压三通管的一AC输出端子的一负载阻抗将所述漏极电流转换成一电压脉冲,并基于所述电压脉冲测量所述漏极电流。所述方法包括:将所述偏压电压增加一对应于由所述负载阻抗引起的一电压降的量且重复测量一所述电压脉冲值一预定次数,和对通过所述预定次数的重复测量所得到的所述电压脉冲值的最后两个值应用外推法以确定待施加到所述FET的一漏极电压。
  • 测量场效应晶体管fet特性方法
  • [发明专利]检验阵列衬底的方法和装置-CN200510127974.7无效
  • 板垣信孝;乘松秀行 - 安捷伦科技公司
  • 2005-12-07 - 2006-06-21 - G02F1/133
  • 一种用于检验有源矩阵显示面板阵列衬底的方法,所述方法包括:一第一步骤,其在一晶体管导电的同时将一电压V1施加到所述晶体管的数据端子,使所述晶体管进入一不导电状态,将一电压V1+ΔV施加到所述数据端子,使所述晶体管进入一导电状态,并测量电荷ΔQ;一第二步骤,其当所述晶体管不导电且所述数据端子电压是V3时将一电压V0施加到所述数据端子,并测量当所述晶体管导电时流经所述晶体管的一电荷Q1;一第三步骤,其当所述晶体管不导电且所述数据端子电压是V4时将一电压V0′施加到所述数据端子,并测量当所述晶体管导电时流动的电荷Q2;和一第四步骤,其基于ΔV、ΔQ、V0、V0′、V3、V4、Q1和Q2来确定电容器的电容。
  • 检验阵列衬底方法装置
  • [发明专利]有源矩阵TFT阵列的测定方法-CN200510123676.0无效
  • 宫本隆;田岛佳代子 - 安捷伦科技公司
  • 2005-11-18 - 2006-05-31 - G01R31/00
  • 本发明提供一种TFT阵列保持电容的保持特性测试中的高精度测试方法。本发明系关于一种测定方法,其特征在于:其是包含具备保持电容的复数个像素电路的有源矩阵TFT阵列的保持特性测定方法,且上述复数个像素电路中至少具备第1与第2像素电路,并且包含如下步骤,向第1像素电路的保持电容充电,其次向第2像素电路的保持电容充电,进而进行消除由浮动电容产生的影响的操作,并对充电后经过特定保持时间的上述第1与第2像素电路的保持电容的电荷进行测定。
  • 有源矩阵tft阵列测定方法

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