“凡宝安”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果6个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种单晶硅抛光碱刻蚀添加剂及其应用-CN202211497699.8在审
发明人：吴伟峰;凡宝安;毛科人 -专利权人：常州君合科技股份有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C09K13/02 文献下载
摘要：本发明涉及光伏材料制备技术领域，尤其涉及一种单晶硅抛光碱刻蚀添加剂，其各组分的质量百分含量为：维生素E为0.8％～1.5％，碘酸钠为0.4％～2％，葡萄糖酸钠为1％～3％，苹果酸为0.1％～0.2％，聚乙烯吡咯烷酮为0.01％～0.04％，羧甲基纤维素钠0.2％～0.5％，余量为水，本发明中提供了一种碱抛光刻蚀液添加剂，由于在碱抛腐蚀体系中存在同向腐蚀，腐蚀过程会产生张力的影响，张力的影响是固定常数，因此，在反应体系中加入表面活性剂，可以降低界面的表面张力，使润浸角减小，从而提高硅片的润湿性，随着表面活性剂的加入，腐蚀反应所产生的气泡就会更加快速的离开硅片表面，从而使单晶硅表面产生结构更加均匀的腐蚀台阶结构。
一种单晶硅抛光刻蚀添加剂及其应用

[发明专利]一种用于晶硅片快速碱抛光的抛光剂及其应用方法-CN202110289018.8在审
发明人：张红利;王池;罗江;李雪芬;李扬;李锋清;袁振琴;凡宝安;张帅;周浩;熊健;曹锐;虢世恩;李强;毕超群;喻超;王丰;程力 -专利权人：武汉风帆电化科技股份有限公司
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：本发明提出了一种用于晶硅片快速碱抛光的抛光剂及其应用方法，包括基础液、辅助液和有机硅材料；基础液为碱液，基础液用于碱性刻蚀晶硅片；辅助液按质量百分比包括，1.0‑2.0％硫酸钠、1.0‑2.0％两性表面活性剂和5.0‑10％有机溶剂，余量为水；有机硅材料包括硅烷偶联剂和硅油，有机硅材料作为消泡剂及界面保护剂；将基础液、辅助液和有机硅材料按比例混合均匀后，再将晶硅片置于混合液中进行碱性刻蚀反应，同时搅拌溶液使反应充分；采用碱性抛光技术，低酸的消耗及排放，同时利用有机硅材料和两性表面活性剂协同作用，能够大幅提高刻蚀反应的效率，还可以迅速传递走产生的氢气气泡，从而保证抛光更均匀。
一种用于硅片快速抛光及其应用方法

[发明专利]锌镍合金蓝色钝化剂及其制备工艺-CN201811420987.7有效
发明人：张红利;罗江;李锋清;王池;李雪芬;李杨;凡宝安 -专利权人：武汉风帆电化科技股份有限公司
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： C23C22/47 文献下载
摘要：本发明提出了一种锌镍合金蓝色钝化剂及其制备工艺，所述钝化剂包括A剂和B剂，所述A剂包括三价铬化合物、草酸、柠檬酸、磷酸三钠、氢氧化钠、络合剂和去离子水，所述B剂包括钴盐、镍盐、钠盐、稳定剂和去离子水，混合三价铬化合物、草酸、柠檬酸、磷酸三钠和水，加热保温得到三价铬化合物溶液，向三价铬化合物溶液中滴加氢氧化钠溶液得到A剂，混合钴盐、镍盐、钠盐、稳定剂和水得到B剂，通过混合A剂、B剂和水得到锌镍合金蓝色钝化剂，本发明的蓝色钝化剂能够减少镀层的损失，钝化剂的使用寿命更长，同时钝化外观更好，大大提高镀层的防腐性能。
镍合金蓝色钝化剂及其制备工艺

[发明专利]一种多晶硅蚀刻液添加剂及其应用-CN201811547982.0有效
发明人：张红利;王池;凡宝安;罗江;李锋清;袁震芹 -专利权人：武汉风帆电化科技股份有限公司
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明提出了一种多晶硅蚀刻液添加剂及其应用，添加剂包括乙二醇单丁醚、葡萄糖、乳酸钠、维生素C、聚乙二醇、氟硅酸钠和水，混合添加剂各组分并控制温度在120‑130℃的条件下回流约10小时，得到添加剂，将添加剂与基础酸液混合得到蚀刻液，采用本发明的蚀刻液对多晶硅片进行表面制绒蚀刻时，产生的氢气泡很细小，且能够快速的离开硅片的界面，从而可以使硅片表面的蚀刻更加均匀，同时多晶硅片的减薄量也能控制再较小的范围内。
一种多晶蚀刻添加剂及其应用

[发明专利]一种多晶硅湿法制绒工艺-CN201811547983.5在审
发明人：张红利;罗江;王池;李锋清;凡宝安;袁震芹;李杨 -专利权人：武汉风帆电化科技股份有限公司
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： H01L31/0236 文献下载
摘要：本发明提出了一种多晶硅湿法制绒工艺，包括如下步骤：将多晶硅切片，置于碱液中抛光，抛光完毕，洗净后置于含有银离子的溶液中，反应沉淀，使硅片的表面覆盖一层单质银，将覆盖有单质银的硅片置于氢氟酸‑双氧水混合溶液中，反应，使硅片的表面反应腐蚀得到均匀的纳米级坑洞，再对具有纳米级坑洞的进行扩孔，得到表面覆盖均匀金字塔结构的硅片；本发明的制绒工艺可以让多晶硅的表面形成更加均匀的坑洞，从而降低表面平均反射率。
多晶硅硅片坑洞表面覆盖湿法制绒抛光单质银纳米级双氧水混合溶液金字塔结构平均反射率表面反应表面形成反应沉淀制绒工艺氢氟酸银离子切片碱液扩孔洗净腐蚀覆盖

[发明专利]锌镍合金三价铬黑色钝化剂及其制备工艺-CN201811420988.1在审
发明人：张红利;凡宝安;王池;李雪芬;罗江;张帅;袁震芹 -专利权人：武汉风帆电化科技股份有限公司
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： C23C22/53 文献下载
摘要：本发明提出了一种锌镍合金三价铬黑色钝化剂及其制备工艺，钝化剂包括A剂、B剂和水，所述A剂包括三价铬化合物、聚氧化乙烯、柠檬酸氢二钠和水，B剂包括甘油醚、冰醋酸和水，混合三价铬化合物、聚氧化乙烯和水得到三价铬化合物溶液，向三价铬化合物溶液中滴加柠檬酸氢二钠溶液得到A剂，混合甘油醚、冰醋酸和水得到B剂，通过混合A剂、B剂和水得到锌镍合金三价铬黑色钝化剂，本发明的黑色钝化剂稳定性更佳，同时产生的钝化层外观更好，色泽饱满，且抗腐蚀的能力有一定幅度的提升。
三价铬化合物黑色钝化剂锌镍合金三价铬柠檬酸氢二钠聚氧化乙烯制备工艺冰醋酸甘油醚钝化层钝化剂抗腐蚀滴加