专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果59个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种适用于检测微反射镜阵列的检测装置-CN202310879359.X在审
  • 童长青;陈浩然;王金雅;徐程奕;刘清沁;王栋 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-07-18 - 2023-10-27 - G01M11/00
  • 一种适用于检测微反射镜阵列的检测装置,包括:上位机、检测机构和驱动机构;检测机构包括:光源模块、第一成像系统、第二成像系统、第三成像系统、图像传感器和位置传感器;第一成像系统用于将光源模块的出射光束成像至微反射镜阵列上;第二成像系统用于将微反射镜阵列的反射光束成像至图像传感器;第三成像系统用于将微反射镜阵列中微反射镜的反射角谱成像至位置传感器上;上位机实时显示图像传感器反馈的图像信息,以实时观测微反射镜阵列的检测过程,上位机对位置传感器反馈的光斑位置信息进行处理,以获取微反射镜阵列中各微反射镜的机电性能参数。通过位置传感器和图像传感器实现微反射镜阵列的检测、观测和标定一体化。
  • 一种适用于检测反射阵列装置
  • [发明专利]一种气浮运动平台-CN202310981650.8在审
  • 杨鹏程;程伟林;王振;任冰强;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-08-04 - 2023-10-24 - F16C32/06
  • 一种气浮运动平台,包括:基座、直线运动驱动装置、气浮装置和供气装置;气浮装置活动支撑于基座上,供气装置贯穿气浮装置设置于基座上;直线运动驱动装置驱动气浮装置在基座的支撑面上往复直线运动;供气装置正对气浮装置所在的位置处于打开状态,向气浮装置供气,气浮装置与基座的支撑面之间形成气膜,使气浮装置悬浮于基座的支撑面上,供气装置在偏离直至离开气浮装置的过程中逐渐关闭。通过磁预载增大了气膜刚度,通过气浮装置和供气装置配合形成的机械开关功能,实现了运动中的无气管扰动供气,较于静止导轨气浮,降低了耗气量;本发明提供的气浮运动平台有效的解决了现有气浮运动平台耗气量大、气膜刚度较低及运动平台有气管扰动等问题。
  • 一种运动平台
  • [发明专利]一种光刻机自由光瞳照明控制系统-CN202310975318.0在审
  • 陈浩然;童长青;刘清沁 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-08-03 - 2023-10-20 - G03F7/20
  • 一种光刻机自由光瞳照明控制系统,包括:运算中心、控制中心、微反射镜阵列控制单元、微反射镜阵列角位置监测单元和微反射镜阵列;运算中心通过上位机获取光刻机的目标照明模式,并根据目标照明模式计算各微反射镜的目标角位置和初始驱动电压,及将目标角位置和初始驱动电压发送至控制中心;控制中心将各微反射镜的初始驱动电压发送至微反射镜阵列控制单元,以驱动各微反射镜旋转;微反射镜阵列角位置监测单元用于监测各微反射镜的角位置,并将监测的实测角位置反馈至控制中心;控制中心还用于根据实测角位置对各微反射镜进行闭环控制,直至各微反射镜实现目标照明模式。该控制系统能够对若干微反射镜高速、同步、闭环控制,提供精确的照明模式。
  • 一种光刻自由照明控制系统
  • [发明专利]一种微反射镜阵列监测装置的标定方法-CN202310884036.X在审
  • 王金雅;杨增辉;张泽龙;陈浩然;陶翰中 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-07-18 - 2023-10-20 - G01M11/02
  • 一种微反射镜阵列监测装置的标定方法,通过模拟微反射镜阵列,对微反射镜阵列监测装置中的光斑阵列产生组件进行标定,使光斑阵列中的子光斑照射至对应的微反射镜的中心,标定方法包括步骤:获取模拟器中各模拟子单元的中心位置,模拟器用于模拟微反射镜阵列;获取光斑阵列中各子光斑的中心位置;根据模拟子单元的中心位置和对应子光斑的中心位置对光斑阵列产生组件进行标定,使子光斑照射至对应的模拟子单元的中心位置。本申请结合图像处理技术,实现MEMS振镜的驱动电压的自动标定,并结合微反射镜阵列监测装置本身的PSD光电检测方法,对MEMS振镜的驱动电压进行二次标定,提高微反射镜阵列监测装置对MMA阵列中每个微反射镜的角位置监测的精准度。
  • 一种反射阵列监测装置标定方法
  • [发明专利]一种光刻机微反射镜阵列角位置计算方法-CN202310585227.6在审
  • 黄振鑫 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-10-13 - G03F7/20
  • 本申请提供一种光刻机微反射镜阵列角位置计算方法,包括步骤:设置光瞳面与微反射镜阵列之间的位置约束条件,并基于位置约束条件设置微反射镜提取约束条件;根据提取半径和提取角度提取光瞳面上的光瞳点,并以象限为规则将提取的光瞳点归类至对应象限的光瞳面队列;提取半径和提取角度提取微反射镜阵列上的各微反射镜,并以象限为规则将提取的微反射镜归类至对应象限的微反射镜队列;将光瞳面队列与微反射镜队列进行赋值运算,根据赋值运算确定光瞳点对应角位置分布的微反射镜在微反射镜阵列上的角位置,微反射镜在微反射镜阵列上的角位置使其反射的光束经偏振转换组件入射至光瞳面后出射的光束满足远心度和偏振均匀性的要求。
  • 一种光刻反射阵列位置计算方法
  • [发明专利]准直超透镜及设计方法、基于准直超透镜的准直系统-CN202310881304.2在审
  • 刘爽;胡敬佩;杨增辉;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-07-18 - 2023-10-10 - G02B1/00
  • 准直超透镜及设计方法、基于准直超透镜的准直系统,其中,基于准直超透镜的准直系统,包括:VCSEL阵列和准直超透镜阵列;VCSEL阵列包括若干个VCSEL单元;准直超透镜阵列包括若干个准直超透镜,若干个准直超透镜与若干个VCSEL单元一一对应设置,对VCSEL单元的发射光束进行准直;准直超透镜由不同半径的非晶硅圆柱排布组成,其中,各非晶硅圆柱的半径根据准直超透镜各位置的位置相位来确定,以使不同半径的非晶硅圆柱根据准直超透镜的位置相位分布来排布。通过采用特定相位分布的准直超透镜设计方法来突破传统曲率半径加工的限制,通过特定半径尺寸非晶硅圆柱的排布代替传统光学凸透镜的曲面分布,基于高精度的微纳加工工艺,提高准直性能。
  • 准直超透镜设计方法基于系统
  • [发明专利]一种长焦距大视场紧凑型离轴三反式平行光管光学系统-CN202310584057.X在审
  • 邱嘉桦 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-09-29 - G02B17/08
  • 本申请提供一种长焦距大视场紧凑型离轴三反式平行光管光学系统,包括:靶标板、平面转折镜、三镜、次镜、主镜、出光口;靶标板、平面转折镜、三镜、次镜、主镜、出光口沿光束传播方向依次设置,光束照射靶标板入射至平面转折镜,经平面转折镜反射后入射至三镜、依次经过三镜、次镜、主镜的反射后达到出光口,以平行光出射;主镜、次镜、三镜的反射面分别为二次曲面,且所述主镜、次镜、三镜之间存在偏心而非倾斜设置;本申请通过设计平面转折镜、三镜、次镜、主镜的结构参数,使平行光管光学系统具有长焦距、大视场、大口径、结构紧凑的性能需求,及使平行光管具有加工装配相对简单,造价也相对便宜,结构紧凑,易于工程化的特点。
  • 一种焦距视场紧凑型离轴三反式平行光学系统
  • [发明专利]一种点光斑阵列产生装置-CN202310982042.9在审
  • 杨增辉;张方;张泽龙;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-08-04 - 2023-09-19 - G03F7/20
  • 一种点光斑阵列产生装置,包括:第一阶梯反射镜和第二阶梯反射镜;第一阶梯反射镜通过阶梯将入射光束的反射光束进行分割形成片状光束并向第二阶梯反射镜反射片状光束;第二阶梯反射镜沿第一阶梯反射镜的反射方向设置,第一阶梯反射镜反射的片状光束入射至第二阶梯反射镜上,第二阶梯反射镜通过阶梯对入射的片状光束的反射光进行分割形成点光斑阵列。本申请采用两个阶梯反射镜能够生成不同形状、不同尺寸的点光斑阵列,能够满足不同的光学设计需要;此外,光束在经过两个阶梯反射镜生成点光斑阵列时没有能量损失,且该两个阶梯反射镜通过常规的加工手段就可以实现,使得本申请提供的点光斑阵列产生装置结构简单,而且制作难度也非常低、易于实现。
  • 一种光斑阵列产生装置
  • [发明专利]一种微反射镜阵列镜面面形补偿方法-CN202310376171.3在审
  • 沈宇荣;汪美辰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-09-12 - C23C14/30
  • 一种微反射镜阵列镜面面形补偿方法,微反射镜阵列包括若干个微反射镜,微反射镜面形补偿方法包括步骤:在微反射镜的镜面上制备193nm高反光学薄膜,193nm高反光学薄膜由若干层交替沉积的低折射率膜层和高折射率膜层沉积形成,且193nm高反光学薄膜的最内层膜层为SIO2膜料的低折射率膜层;调节193nm高反光学薄膜最内层膜层的SIO2沉积厚度,以调节193nm高反光学薄膜最内层膜层的压应力,通过193nm高反光学薄膜最内层膜层的压应力对193nm高反光学薄膜因张应力引入的镜面面形变化进行补偿。通过改变和微反射镜硅基底直接接触的SIO2膜层厚度,对镜面面形变化进行补偿,不改变SIO2本身的光学常数,且厚度的改变不会改变微反射镜上整个193nm高反光学薄膜的光谱特性和偏振特性。
  • 一种反射阵列面面补偿方法
  • [发明专利]一种光学系统远心度和像高的测量装置-CN202310587580.8在审
  • 张泽龙 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-09-05 - G01M11/02
  • 一种光学系统远心度和像高的测量装置,包括:第一测量模块、第二测量模块、采集模块和控制模块;第一测量模块用于将光束透过待测光学组件后所产生的变化的光束角度转化为对应的光束位置;第二测量模块配合第一测量模块使用,用于将光束透过待测光学组件后所产生的像高转化为不同角度的像的质心间距;采集模块用于采集光束位置和质心间距,并将采集的光束位置和质心间距发送至控制模块;控制模块用于根据光束位置计算待测光学组件的远心度,及根据质心间距计算待测光学组件的像高。通过设计一套测量装置兼容远心度和像高的测量,在测量像高时,只需要在远心度测量的基础上增加第二测量模块即可,与现有采用两套不同测量系统相比,提高了测量效率。
  • 一种光学系统远心度测量装置
  • [发明专利]微反射镜阵列反射光光斑位置标定方法、装置及标定设备-CN202310587554.5在审
  • 黄振鑫 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-09-05 - G01M11/02
  • 一种微反射镜阵列反射光光斑位置标定方法、装置及标定设备,标定方法包括步骤:采集各微反射镜在若干组初始电压下产生的光斑位置,并计算光斑位置所对应的光斑质心坐标;将微反射镜所在阵列排布中的位置、所对应的初始电压和所述初始电压产生的光斑质心坐标按预设数据格式存储,生成微反射镜标定数据集,并根据微反射镜标定数据集生成插值表;采用插值方法将插值表中的微反射镜标定数据集与目标光斑位置坐标进行插值运算,以获得目标光斑位置坐标所对应的微反射镜的目标标定电压,通过目标标定电压对微反射镜的反射光光斑位置进行标定。由微反射镜的电压直接对微反射镜的反射光光斑位置进行标定,能够更精确地控制微反射镜反射。
  • 反射阵列反射光光斑位置标定方法装置设备
  • [发明专利]一种微反射镜阵列角位置监测系统-CN202310584046.1在审
  • 邱嘉桦 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-09-01 - G01B11/26
  • 一种微反射镜阵列角位置监测系统,包括:光束产生单元、光点阵列产生单元、光束调控单元、微反射镜阵列单元和位置传感器;光束产生单元用于产生平行光束;光点阵列产生单元用于将平行光束形成阵列光斑;光束调控单元设置于光点阵列产生单元和微反射镜阵列单元之间的光路上,用于将阵列光斑反射至所述微反射镜阵列单元;光束调控单元根据所述微反射镜阵列单元中的待测微反射镜选择性地调控阵列光斑的反射指向,以将光点阵列产生单元所产生的阵列光斑中的部分光斑反射至所述待测微反射镜,将另一部分光斑反射偏离于微反射镜阵列单元;待测微反射镜将入射光斑反射至所述位置传感器,通过位置传感器中的光斑位置对待测微反射镜的角位置进行监测。
  • 一种反射阵列位置监测系统
  • [实用新型]一种晶圆级光学元件镀膜治具-CN202320747637.1有效
  • 汪美辰;沈宇荣;高远 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-08-18 - C23C16/458
  • 一种晶圆级光学元件镀膜治具,包括:镀膜盘、第一夹具、第二夹具、第一缓冲层、第二缓冲层和调节键;第一夹具和第二夹具配合夹持待镀膜晶圆级光学元件并置于镀膜盘中;第一缓冲层设置于第一夹具中与待镀膜晶圆级光学元件接触的一侧;第二缓冲层设置于第二夹具中与待镀膜晶圆级光学元件接触的一侧;调节键配合第二夹具设置,用于调节待镀膜晶圆级光学元件在第一夹具和第二夹具之间夹持的松紧程度。通过缓冲层使待镀膜晶圆级光学元件与夹具之间非硬接触,从而减少晶圆级光学元件的损伤;还通过调节键来调节晶圆级光学元件在夹具中的松紧程度,以减少夹紧时晶圆级光学元件的对位偏移。
  • 一种晶圆级光学元件镀膜
  • [发明专利]一种气浮导轨-CN202310350750.0在审
  • 程伟林;任冰强;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-04-04 - 2023-07-18 - F16C32/04
  • 一种气浮导轨,包括:滑块、导轨和供气系统;滑块呈L型结构,滑块通过L型结构吸附于导轨上,导轨内部开设有与供气系统连接的进气通道,供气系统通过导轨向滑块提供气体,以使滑块相对导轨的两内侧面形成预设刚度的气膜;滑块相对导轨的两内侧面分别开设有进气槽、进气孔、第一出气孔、均压槽和磁体槽;进气槽内均匀设置有进气孔;磁体槽内安装的磁体用于提供滑块与导轨之间的磁预载力;均压槽均匀设置于磁体槽远离进气槽的一侧;各均压槽内分别设置有第一出气孔;导轨相对进气槽的一面开设有第二出气孔,第二出气孔与进气通道之间连通。采用导轨进气,滑块面出气,滑块在运动过程中保证气管不动,气浮导轨系统具有可靠性高、空间布置方便。
  • 一种导轨

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top