专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光纤异物检测装置及其制备方法-CN202311089085.0在审
  • 朱雷;张玲玲;赵弇斐;李晓旻 - 胜科纳米(苏州)股份有限公司
  • 2023-08-28 - 2023-09-19 - G01N23/2258
  • 本发明公开了一种光纤异物检测装置及其制备方法。包括位于样品台一侧的光纤束,光纤束包括待测光纤与至少两个辅助光纤,辅助光纤与待测光纤接触;位于样品台一侧的固定夹具,固定夹具与光纤束至少部分接触,固定夹具用于固定光纤束,沿第一方向,光纤束的延伸方向与第一方向平行;位于光纤束远离样品台一侧设置有遮挡金属单元,遮挡金属单元设置有开孔区,开孔区暴露待测光纤;位于遮挡金属单元远离样品台一侧设置有检测单元,沿第一方向,检测单元与待测光纤间隔设置且投影交叠,检测单元用于对待测光纤进行飞行时间二次离子质谱检测,并判断待测光纤出口端的异物类型,提高光纤异物检测的精准度。
  • 一种光纤异物检测装置及其制备方法
  • [发明专利]一种碲镉汞掺杂激活率评估方法-CN202310744040.6有效
  • 彭成盼;张国杰;王旭杰;周进;郑晶晶;杜宇;刘文龙 - 浙江珏芯微电子有限公司
  • 2023-06-25 - 2023-09-12 - G01N23/2258
  • 本发明公开了一种碲镉汞掺杂激活率评估方法,包括:步骤S1,对具有pn结外延层的碲镉汞材料层预处理,形成p型As掺杂的载流子外延层,且不存在n型层;步骤S2,对预处理后的材料层进行SIMS测试;步骤S3,对预处理后的材料层进行腐蚀剥层,去除部分外延层;步骤S4,对剥层后的材料层进行厚度测量;步骤S5,对剥层后的材料层进行霍尔测试;步骤S6,重复上述步骤S3至S5;步骤S7,结合霍尔测试的数据得到p型离子注入层载流子浓度,结合SIMS测试数据得到的As离子浓度,并计算出As离子激活率,优点在于只额外进行了一次较低温的热处理,工艺简单,成本低廉,准确高效。
  • 一种碲镉汞掺杂激活评估方法
  • [发明专利]芯片内部结构分析方法及样品承载装置-CN202010639150.2在审
  • 郭起玲;李亨特;张顺勇;刘秋艳 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2020-07-06 - 2020-10-23 - G01N23/2258
  • 本发明提供一种芯片内部结构分析方法及样品承载装置,分析方法包括如下步骤:采用聚焦离子束工艺对芯片进行处理,形成暴露目标层的测量样品;采用二次离子质谱分析方法对所述测量样品的目标层进行分析,获得分析数据。本发明优点在于,所述芯片内部结构分析方法可根据后续测量及分析步骤的要求而制备出尺寸适合其使用的测量样品,且在进行分析前不会对目标层造成破坏,制样方法简单,降低了制样难度,可以适用于大多数结构的样品。同时,由于制备的测量样品的目标层暴露于测量样品的表面,则在测量及分析步骤中,高能量的一次离子束能够直接作用于目标层,大大提高了测量准确度,且无额外的结构层的噪声影响,大大提高了掺杂浓度较低的元素定量分析的精度。
  • 芯片内部结构分析方法样品承载装置

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