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[发明专利]一种高熵合金阵列的高通量制备方法和应用-CN202310573165.7在审
发明人：周敏;山相义;潘逸煬 -专利权人：中国科学院长春应用化学研究所
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种高熵合金阵列的高通量制备方法，包括以下步骤：A)将金属盐分别与水混合，得到单组份金属盐前驱体打印墨水；B)将所述单组份金属盐前驱体打印墨水进行组合，得到若干组多元组分金属盐前驱体打印墨水；C)将第一组多元组分金属盐前驱体打印墨水进行点阵打印，再依次执行排空和清洗操作，重复上述步骤，最终得到高熵合金点阵前驱体；D)将所述高熵合金前驱体点阵进行热辐射处理，得到高熵合金阵列。本申请还提供了制备的高熵合金阵列的应用。本申请提供的高通量制备方法可制备高熵合金点阵化模型，有利于特定组合的高熵合金催化剂电催化活性的筛选，快速且准确。
一种合金阵列通量制备方法应用

[发明专利]一种涂层、涂层的处理方法和镍基高温材料-CN202310518253.7在审
发明人：李力敏;黄锦阳;张鹏;刘鹏;周永莉;李沛;袁勇;党莹樱;严靖博;鲁金涛 -专利权人：西安热工研究院有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：一种涂层、涂层的处理方法和镍基高温材料，属于镍基合金技术领域，解决了现有技术方法容易对氧化镁造成损伤的问题。本发明涂层处理方法，包括以下步骤：步骤1、制备镁盐溶胶，并将其涂敷在基体上；步骤2、在涂敷有镁盐溶胶的基体表面覆盖掩模版，然后紫外光照射；步骤3、将步骤2获得的试样在溶洗液中浸泡，获得图案化试样；所述溶洗液包括正丁醇和异丙醇，正丁醇和异丙醇体积比为1：(12～15)s；浸泡时间为40～60s；步骤4、对步骤3获得的图案化试样在保护气氛中进行热处理。本发明利用溶胶自身的特性实现精细图案制备，不会对MgO涂层性能造成损伤。
一种涂层处理方法高温材料

[发明专利]一种涂层的处理方法、镍基高温材料及其应用-CN202310518274.9在审
发明人：李力敏;黄锦阳;张鹏;刘鹏;周永莉;李沛;袁勇;党莹樱;严靖博;鲁金涛 -专利权人：西安热工研究院有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：一种涂层的处理方法、镍基高温材料及其应用，属于镍基合金技术领域，克服了现有技术方法易对Gd2O3材料造成损伤的缺陷。本发明涂层的处理方法，包括以下步骤：步骤1、制备钆盐溶胶，并将其涂敷在基体上；步骤2、在涂敷有钆盐溶胶的基体表面覆盖掩模版，然后紫外光照射；步骤3、将步骤2获得的试样在溶洗剂中浸泡，获得图案化试样；所述溶洗剂包括甲醇和异丙醇，甲醇和异丙醇体积比为1：(8～13)；浸泡时间为40～60s；步骤4、对步骤3获得的图案化试样在保护气氛中进行热处理。本发明利用溶胶自身的特性实现精细图案制备，不会对Gd2O3涂层性能造成损伤。
一种涂层处理方法高温材料及其应用

[发明专利]一种手机天线用表面金属化材料及其表面金属化方法-CN202210905207.8有效
发明人：汪佳韦 -专利权人：东莞市正为精密塑胶有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明提出了一种手机天线用表面金属化材料及其表面金属化方法，属于金属化技术领域。将氧化石墨烯和碳纳米管表面亲水改性后，混合均匀，还原氧化石墨烯，制得复合碳纳米材料；将银氨络离子溶液与表面包覆聚多巴胺层的改性氧化银纳米粉混合，除去溶剂，得到含银复合物前驱体，与复合碳纳米材料、树脂、分散剂和溶剂混合均匀，得到手机天线用表面金属化材料。本发明解决了碳纳米材料与纳米银颗粒兼容性差的问题，具备优良的导电导热能力，同时兼具较低的热膨胀系数和较好的机械性能，同时，金属镀层、金属化碳纳米材料、中框之间的结合紧密，其强度可达到实用要求。
一种手机天线表面金属化材料及其方法

[发明专利]具有表面增强拉曼效应的金纳米三角片制备方法-CN201810723772.6有效
发明人：刘晓燕;司东辉;望军 -专利权人：重庆科技学院;深圳先进技术研究院
申请日： 2018-07-04 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开一种具有表面增强拉曼效应的金纳米三角片制备方法，包括以下步骤：取铌酸锂单晶片作为衬底，将该衬底正向极化面朝上，并滴加氯金酸溶液，然后用紫外光照射氯金酸溶液进行光化学沉积反应，采用本发明的有益效果是提供了一种崭新的方法来制备性能良好的SERS基底，即光化学沉积法制备金纳米三角片，该方法简单易操作，实验周期比传统化学合成实验周期要短得多，大大节约了时间，而且能够精确控制金三角片的尺寸，而且使用的铌酸锂单晶片可以反复使用，使用寿命很长，大大节约了实验成本。
具有表面增强效应纳米三角制备方法

[发明专利]一种基于激光诱导掺锆石墨烯的镀膜方法-CN202210848267.0有效
发明人：侯茂祥;温官海;陈云;李彪;宋奥柯;赖声宝;欧正平;陈新 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于激光诱导掺锆石墨烯的镀膜方法，包括以下步骤：(1)将锆粉末与聚酰亚胺溶液均匀混合；(2)将混合物涂于载物片上形成软膜层，对载物片上的软膜层进行固化，或将软膜层转移至待镀膜工件上进行固化，固化得到混合薄膜；(3)以激光器扫描混合薄膜，在载物片或待镀膜工件上形成掺锆石墨烯膜层。本发明的方法能实现石墨烯膜层中掺杂金属锆，该镀膜方法可操作性强，设备成本低。
一种基于激光诱导石墨镀膜方法

[发明专利]一种具有偏光效应薄膜镀制的方法-CN202011587080.7有效
发明人：冯晋阳;雷堃;孙玉娜;赵修建;马晓 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有偏光效应薄膜镀制的方法。该方法首先通过水热合成制备出粒径达纳米级的卤化银AgX颗粒，然后将纳米卤化银AgX颗粒分散于无机或有机的基础成膜溶液中，通过旋涂、提拉或吹制镀膜法在无机或有机基板表面镀制膜层，镀制后的膜层中含有均匀分散的纳米卤化银AgX颗粒。将镀膜后的有机或无机基板放置于光栅掩模板下，在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理，基板表面膜层中的纳米卤化银AgX颗粒被还原成金属纳米银，最终在基板表层形成沿着光栅定向排布的金属纳米银线栅微结构。本发明方法具有可操作性强，制造的偏光片消光比高、好的化学稳定性，偏光响应波长可调以及基板材料选择自由等优点，可以用于光学传感器、光隔离器等光学器件的制备。
一种具有偏光效应薄膜方法

[发明专利]一种包覆银纳米粒子的银纳米锥阵列以及制备方法-CN202211473822.2在审
发明人：李妍;陈洪旭;袁衡;王雨;姜雨辰;温芳祥;金士群;徐琪 -专利权人：嘉兴学院
申请日： 2022-11-22 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及纳米材料制备领域，尤其是一种包覆银纳米粒子的银纳米锥阵列以及制备方法，其中，本发明提供的一种包覆银纳米粒子的银纳米锥阵列包括由多个阵列排布在基底上的银纳米锥，所述银纳米锥包括聚丙烯酸锥心和银膜表层，所述聚丙烯酸锥心包覆银纳米粒子。本发明提供的包覆银纳米粒子的银纳米锥阵列，其银纳米锥阵列的表面传导型等离子体共振和银纳米锥内部银纳米粒子的局部表面等离子体共振可以同时耦合入射光子，不仅实现金属纳米颗粒与金属微纳米阵列结构的结合，还可通过优化银纳米锥的高度与底部直径的长径比以优化耦合效应，同时，本发明的银纳米粒子与银纳米锥阵列之间的结构以及结合为实现等离子体增强传感器提供了有效设计和新思路。
一种包覆银纳米粒子阵列以及制备方法

[发明专利]一种高熵金属氧化物涂层及其制备方法与应用-CN202111573519.5有效
发明人：俞泽新;许振宁;王博通;桂珑恩;刘妹妹;赵栋 -专利权人：苏州大学
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种高熵金属氧化物涂层及其制备方法与应用，涉及涂层技术领域。本发明首先配置金属盐溶液，将基体预热至300‑500℃，采用等离子喷涂技术通过喷枪使所述金属盐溶液氧化并沉积在基体表面，得到所述高熵金属氧化物涂层；所述金属盐溶液中各金属盐的浓度为0.1‑0.4mol/L；所述金属盐溶液的供料流量5‑50mL/min；所述喷枪的功率为28‑40kW，电流为790‑850A，电压为38‑44V，喷涂距离为50‑200mm，焰心温度为10000‑15000K，移动速度为100‑1000mm/s；喷涂循环次数为2‑50次。本发明所述的高熵金属氧化物涂层，不仅可以简化制备流程，而且可以提升电极涂层稳定性，可更好地实现面向实际工程应用的高熵金属氧化物电极涂层制备。
一种金属氧化物涂层及其制备方法应用

[实用新型]用于MEMS气敏材料贵金属浸渍及紫外辐照的装置-CN202222357430.1有效
发明人：蒯贇;沈光宇 -专利权人：安徽维纳物联科技有限公司
申请日： 2022-09-05 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于MEMS气敏材料贵金属浸渍及紫外辐照的装置，包括箱体，在箱体内固定有紫外辐照灯、吸盘、加热盘、贵金属浆料注射器；在所述吸盘上放置加热盘，在加热盘上放置MEMS气体传感器半成品片，所述吸盘与外部负压设备连通；所述贵金属浆料注射器的出料口位于MEMS气体传感器半成品片待注浆位置上方；所述紫外辐照度位于MEMS气体传感器半成品片上方。本实用新型搭建的装置将溶液浸渍和紫外辐照进行工艺整合，结合二者的优势，为金属氧化物半导体传感器贵金属纳米结构负载提供一种新装置，可实现贵金属纳米结构的均匀负载。
用于 mems 材料贵金属浸渍紫外辐照装置

[发明专利]一种耐氧化铜材料及其光或射线诱导制备方法-CN202210716249.7在审
发明人：马骏;姜志文;黄博能;王运龙 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐氧化铜材料及其光或射线诱导制备方法，包括：提供一铜材料，其中所述铜材料采用各尺寸的铜材；在常温常压下，利用太阳光或工业化电子束或γ‑射线辐照制备表面修饰抗氧化铜材料；包括以下步骤：将铜材料置于二氧化碳或甲酸盐水溶液中；加入一定量助剂或光催化剂；光反应或辐照一段时间后将铜材料取出；洗涤、干燥后即完成铜材料的抗氧化处理。本发明的有益效果是：高能射线的水辐解反应或半导体光反应产生自由基中间体，该中间体可有效吸附在铜表面并最终形成表面修饰的抗氧化铜，能够有效提高铜材料在盐碱等腐蚀环境的抗氧化性，且不会降低其本征导热与导电性能，处理过程无需加热加压，光源选择范围广。
一种氧化铜材料及其射线诱导制备方法

[发明专利]一种基于立体成型的叶轮陶瓷涂层的制备方法-CN202110007027.3有效
发明人：张广明;宋道森;蒋进;兰红波;黄辉;李汶海;于尊 -专利权人：青岛理工大学
申请日： 2021-01-05 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于立体成型的叶轮陶瓷涂层的制备方法，其首先获得叶轮的投影图，并在二维图中以明暗程度体现出不同位置的紫外光照射剂量，选择叶轮旋转的转速，在紫外光照射叶轮的同时对叶轮进行旋转，此时叶轮周围的陶瓷前驱体会在叶轮表面进行固化，接着将表面带有固化层的叶轮取出进行烧结，最终得到表面带有陶瓷涂层的叶轮。该方法涂覆均匀，操作简单，剩余陶瓷前驱体可重复使用。
一种基于立体成型叶轮陶瓷涂层制备方法

[发明专利]一种一步化凝胶溶胶提拉烧结镀膜装置及其使用方法-CN202210183393.9在审
发明人：夏志林;李庭宣 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：一种一步化凝胶溶胶提拉烧结镀膜装置，包括固定座、可沿固定座上下移动的待镀膜元件夹持件、置于固定座的底座上的溶胶容器、对称布置在待镀膜元件夹持件两侧的两组镀膜元件烧结组件，镀膜元件烧结组件包括透镜、激光发射器，透镜位于待镀膜元件夹持件与激光发射器之间，使用时，先向溶胶容器中加入溶胶溶液，并采用待镀膜元件夹持件夹紧待镀膜元件，再使待镀膜元件夹持件沿固定座向下移动至待镀膜元件的待镀膜区域完全浸入溶胶溶液中，随后使待镀膜元件夹持件沿固定座向上移动以实现镀膜元件的提拉，在提拉过程中，开启激光发射器，来自激光发射器的激光通过透镜汇聚在镀膜元件表面，对其进行烧结。本设计不仅提高了镀膜效率，而且结构简单。
一种一步凝胶溶胶烧结镀膜装置及其使用方法

[实用新型]流化床光沉积装置-CN202120944086.9有效
发明人：黄垒;施利毅;吴昊成 -专利权人：上海大学
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及的是纳米功能材料制备领域，具体是一种流化床光沉积装置，上述流化床光沉积装置包括：流化装置，流化装置内设置有载体颗粒，载体颗粒上承载有贵金属离子，流化装置用于将载体流化；光源，光源的照射方向朝向于流化装置内流化的载体颗粒，以使贵金属离子还原为贵金属纳米颗粒，通过光化学反应，将贵金属离子还原为贵金属纳米颗粒，并依附在载体颗粒上，以此来形成负载型超细贵金属复合催化剂，通过该方法制备的负载型超细贵金属复合催化剂的纳米颗粒十分均匀，不易发生迁移，减小了颗粒的尺寸，提高了原子的利用效率，且该方法的实用性强，操作简便，便于生产，降低了生产成本。
流化床沉积装置

[发明专利]成膜装置和具有含硅膜的部件的制造方法-CN202110949168.7在审
发明人：石井贵之;永关一也;斋藤道茂 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-08-18 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明提供成膜装置和具有含硅膜的部件的制造方法。抑制氧化地进行成膜。排气部将腔室内减压到预定的真空度。保持部配置于腔室内，保持成膜对象构件。供给部向成膜对象构件的表面供给含有硅的成膜材料。热源能够在预定的真空度中进行加热，将供给来的成膜材料熔融。
装置具有含硅膜部件制造方法

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