[实用新型]改善放电均匀性的电极结构及气体激光器有效

专利信息
申请号: 202223216483.8 申请日: 2022-11-30
公开(公告)号: CN219086440U 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 姜鑫先;吴劲松;王雏艳;张晓录;刘斌;徐向宇 申请(专利权)人: 北京科益虹源光电技术有限公司
主分类号: H01S3/038 分类号: H01S3/038;H01S3/034
代理公司: 北京融智邦达知识产权代理事务所(普通合伙) 11885 代理人: 吴强
地址: 100176 北京市大兴区经济技*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 改善 放电 均匀 电极 结构 气体 激光器
【权利要求书】:

1.一种改善放电均匀性的电极结构,其特征在于,包括:本体(10),本体(10)表面均匀布设有多个凸起结构(11)或凹陷结构(12);

所述凸起结构(11)为柱状凸起或者球面凸点;或者,所述凸起结构(11)为线状分布,包括若干条均匀间隔布设的长条状凸起;

所述凹陷结构(12)为点状分布,包括多个均匀布设的弧形凹坑;或者,所述凹陷结构(12)为线状分布,包括若干条均匀间隔布设的长条状凹槽;凹槽的横截面形状为弧形。

2.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述柱状凸起的直径为10um-1mm,凸起高度为1um-3mm,相邻两个柱状凸起的间距为20um-10mm。

3.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述球面凸点根部直径为10um-1mm,球面凸点为1um-3mm,相邻两个柱状凸起的间距为20um-10mm。

4.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述长条状凸起横截面为矩形或圆弧形;所述长条状凸起根部的宽度为10um-1mm,所述长条状凸起的高度为1um-3mm,相邻两个所述长条状凸起间距为20um-10mm。

5.根据权利要求4所述的电极结构,其特征在于,所述凸起结构(11)为网格状分布,包括两组相互垂直交叉布设的长条状凸起组,每个长条状凸起组包括若干条均匀间隔布设的所述长条状凸起。

6.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述凹坑的深度为1um-3mm,所述凹坑口沿处的直径为10um-1mm,所述凹坑的间距为20um-10mm。

7.根据权利要求1所述的电极结构,其特征在于,所述凹槽的深度为1um-3mm,所述凹槽口沿处的宽度为10um-1mm,所述凹槽的间距为20um-10mm。

8.根据权利要求7所述的电极结构,其特征在于,所述凹陷结构(12)为网格状分布,包括两组相互垂直交叉布设的长条状凹槽组,每个长条状凹槽组包括若干条均匀间隔布设的所述长条状凹槽。

9.一种气体激光器,包括设置于放电腔中的电极,其特征在于,所述电极包括如权利要求1-8中任意一项的所述电极结构。

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