[发明专利]显示屏、显示屏制作方法及电子设备有效
申请号: | 202210683317.4 | 申请日: | 2022-06-17 |
公开(公告)号: | CN115061322B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 刘达 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/155 | 分类号: | G02F1/155;G02F1/157;G02F1/1524;G02F1/15 |
代理公司: | 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 | 代理人: | 唐维虎 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示屏 制作方法 电子设备 | ||
1.一种显示屏,其特征在于,所述显示屏包括主屏区及副屏区,所述主屏区至少部分围绕所述副屏区;
在所述副屏区,所述显示屏包括发光器件层及光学膜层;
所述发光器件层包括层叠设置的第一电极层、发光材料层及第二电极层,其中,所述第二电极层位于所述发光材料层的出光侧;
所述光学膜层位于所述发光材料层的出光侧;
所述光学膜层在所述发光材料层发光时由所述发光材料层中产生的光在所述光学膜层内部漫反射形成雾状膜层,以增大所述光学膜层在非垂直于所述光学膜层方向的出光率。
2.如权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内。
3.如权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述光学膜层位于所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧,且为与所述发光材料层一一对应的多个间隔膜层;
优选的,所述发光器件层还包括像素限定层,所述像素限定层限定出多个像素开口;所述光学膜层与所述发光材料层均位于所述像素开口中。
4.如权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述光学膜层位于所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧;
所述光学膜层通过蒸镀的方式制作在所述发光材料层的出光侧;
优选的,所述光学膜层采用通用金属掩膜版蒸镀制作在所述发光材料层的出光侧。
5.如权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括第三电极层,所述第三电极层位于所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧;
所述光学膜层位于所述第二电极层与所述第三电极层之间。
6.如权利要求4或5所述的显示屏,其特征在于,
所述光学膜层包括电致变色材料;
优选的,所述电致变色材料包括三氧化钨、聚噻吩类及其衍生物、紫罗精类、四硫富瓦烯及金属酞菁类化合物中的任意一种。
7.一种显示屏制作方法,其特征在于,所述显示屏包括主屏区及副屏区,所述主屏区至少部分围绕所述副屏区,所述方法包括:
制作第一电极层;
在所述第一电极层上制作发光材料层;
在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作第二电极层;
在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层,其中,所述光学膜层在所述发光材料层发光时由所述发光材料层中产生的光在所述光学膜层内部漫反射形成雾状膜层,以增大所述光学膜层在非垂直于所述光学膜层方向的出光率。
8.如权利要求7所述的显示屏制作方法,其特征在于,所述在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层的步骤,包括:
采用通用金属掩膜版在所述副屏区的发光材料层远离所述第一电极层的一侧蒸镀所述光学膜层,其中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内。
9.如权利要求7所述的显示屏制作方法,其特征在于,所述在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层的步骤,包括:
在所述副屏区,在所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧制作光学膜层,其中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于图案化处理后的所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内;
所述显示屏制作方法还包括:
在所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧制作一位于所述主屏区和所述副屏区的光学膜层;
对所述光学膜层进行图案化处理,将位于所述主屏区的光学膜层去除。
10.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的显示屏或如权利要求7-9任一项所述的显示屏制作方法制备得到的显示屏。
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