[发明专利]制作成像板的方法及成像板

权利要求书

1.一种制作成像板的方法，其特征在于，包括：

在基板上进行旋涂光刻胶，形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行曝光显影，形成光刻板的反向图案；

在所述反向图案上镀膜，形成遮挡膜层；

将镀有所述遮挡膜层的所述基板放入预设溶液中，对所述光刻胶进行溶解，得到与所述光刻板具备相同图案的成像板。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述反向图案上镀膜，形成遮挡膜层之前，还包括：

在所述反向图案的表面上进行镀膜，形成过渡膜层。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在将镀有所述遮挡膜层膜后的所述基板放入预设溶液中，对所述光刻胶进行溶解，得到红外成像板之前，还包括：

在所述遮挡膜层上镀膜，形成保护膜层。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设溶液为去胶溶液或丙酮溶液。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述过渡膜层的材料为Cr，所述过渡膜层的厚度范围为10nm－20nm。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述遮挡膜层的材料为Ag或Al，所述遮挡膜层的厚度大于500nm。

7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述保护膜层的材料为TiO₂、SiO₂、Al₂O₃中的一种或多种，所述保护膜层的厚度范围为10nm－50nm。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述镀膜的方法为蒸发镀膜或者溅射镀膜。

9.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述光刻胶层的厚度大于所述过渡膜层的厚度、所述遮挡膜层的厚度和所述保护膜层的厚度之和。

10.一种成像板，其特征在于，包括：

基板；

过渡膜层，形成于所述基板上；

遮挡膜层，形成于所述过渡膜层上；以及

保护膜层，形成于所述遮挡膜层上；

其中，所述过渡膜层和所述遮挡膜层上形成有预定图案。