[发明专利]一种石墨烯铜靶材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110362809.9 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113106401A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 李刚;张承平 申请(专利权)人: 苏州高松野冈石墨烯新材料有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14
代理公司: 北京棘龙知识产权代理有限公司 11740 代理人: 李改平
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 烯铜靶材 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯铜靶材,包括靶材组件(1),其特征在于:所述靶材组件(1)包括外包铜背板(2)和石墨烯铜靶材主体(3),所述外包铜背板(2)内部开设有凹槽(4),所述石墨烯铜靶材主体(3)外壁设置有石墨烯镀层(5)。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯铜靶材,其特征在于:所述外包铜背板(2)和石墨烯铜靶材主体(3)之间焊接连接。

3.根据权利要求1所述的一种石墨烯铜靶材,其特征在于:所述凹槽(4)的内廓面积与石墨烯铜靶材主体(3)的外廓面积相同。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种石墨烯铜靶材及其制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、制备石墨烯铜靶材主体,将高纯石墨烯和铜粉粉末为原料,石墨烯的质量含量为0.05~2.5%,并将石墨烯和铜粉粉末放置于V型混拌机混合均匀,然后将混合均匀后的石墨烯和铜粉混合物置于真空热压机的模具中,通过热压机将模具中抽至真空,然后通入氩气,随后通过压杆热压成石墨烯铜靶材胚体;

S2、将所述步骤S1中得到的石墨烯铜靶材胚体进行机加工,并在石墨烯铜靶材胚体外壁溅射镀上石墨烯镀层,得到石墨烯铜靶材;

S3、准备外包铜背板,并对外包铜背板内部的凹槽的尺寸进行检测,保证石墨烯铜靶材能够刚好放置在外包铜背板的凹槽内部;

S4、将所述步骤S2中得到得到石墨烯铜靶材放置在外包铜背板的凹槽内部;

S5、将外包铜背板和石墨烯铜靶材主体之间进行扩散焊接。

5.根据权利要求4所述的一种石墨烯铜靶材及其制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,V型混拌机的转速为100~250r/min。

6.根据权利要求4所述的一种石墨烯铜靶材及其制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,热压机抽真空至5x10-2torr以下。

7.根据权利要求4所述的一种石墨烯铜靶材及其制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,通入氩气至0.5atm。

8.根据权利要求4所述的一种石墨烯铜靶材及其制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,压杆的压力为100~200MPa。

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