[发明专利]验证逻辑电路中的路径的方法、系统和介质有效

专利信息
申请号: 202110343219.1 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN112906345B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 栾晓琨;边少鲜;黄薇;孙永丰;蒋剑锋;邓宇;陈占之;金文江;王翠娜;唐涛 申请(专利权)人: 天津飞腾信息技术有限公司
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 万里晴
地址: 300450 天津市滨海新*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 验证 逻辑电路 中的 路径 方法 系统 介质
【说明书】:

提供验证逻辑电路中的路径的方法、系统和介质。该验证逻辑电路中的路径的方法包括:确定在可测性设计DFT模式下要测试的多个第一路径;确定在功能模式下要测试的多个第二路径;确定在所述多个第一路径和所述多个第二路径中的不需要在功能模式下达到最优性能的第三路径;在功能模式下对所述第三路径设置时序约束,使得所述第三路径在a个时钟周期内达到目标性能,其中a小于或等于功能模式下的时钟频率与DFT模式下的时钟频率的比值、且a是正整数。如此,第三路径不需要在功能模式的较短时钟周期期间为了时序收敛而被过度优化,节约了对第三路径进行功能模式下的过度优化而产生的时间成本、资源成本等,提高了芯片设计效率。

技术领域

本申请涉及集成电路后端设计领域,且更具体地,涉及验证逻辑电路中的路径的方法、系统、介质和程序产品。

背景技术

集成电路从设计到产品一般要经历以下几个步骤才能成为产品:

1.设计过程:集成电路设计一般从编写HDL代码开始,首先进行逻辑综合、验证将设计转变成门级网表,然后进行布局布线变成最终的版图。

2.制造过程:代工厂接受来自设计者的版图数据(GDSII)将其制成掩膜版(mask),然后通过复杂的制造过程将期望的电路做在晶圆片上,这时晶圆片上已经包含了若干个芯片的原型--裸片(die)。

3.晶圆片测试:制造好的晶圆片需要进行严格的测试然后划片、封装,实际上只有那些通过测试的裸片才会进行封装,而未通过测试的裸片被淘汰。经过封装的裸片就变成芯片。

4.芯片测试:通过晶圆片测试和封装的芯片还不能算真正的产品,它仍然要进一步进行测试确认没有故障才能成为真正的半导体产品。从这个过程可以看出,测试是半导体产品实现过程中一个必不可少的环节。

测试问题在测试之前就是测试模式生成和测试模式验证(时序验证)问题;而在测试的时候就是测试向量施加和测试响应检测及结果判断问题。测试为最终的半导体产品的质量和可靠性提供一种度量。测试是设计过程中验证(Verification)工作的继续,它实际上是对实际芯片的验证过程。

测试分功能测试(function test)和制造测试(结构测试)。功能测试主要寻找设计上可能存在的错误,它是用来验证电路中的逻辑行为,是验证过程的延续,如果存在错误,需要进行故障诊断。制造测试用于寻找在制造过程中可能存在的制造缺陷。

可测性设计DFT(design for test)就是指为了使测试(制造测试)尽可能简单而有意识地在设计中加入一定附加逻辑的设计方法。可测性设计缩短产品进入市场时间,即TTM(time to market),降低测试费用即COT(cost of test),提高产品质量。

由于测试的重要性,因此需要提高测试的效率的改进方案。

发明内容

为了解决现有技术的至少一些问题,提出本发明的技术方案。

根据本发明的一个方面,提供一种验证逻辑电路中的路径的方法,包括:确定在可测性设计DFT模式下要测试的多个第一路径;确定在功能模式下要测试的多个第二路径;确定在多个第一路径和多个第二路径中的不需要在功能模式下达到最优性能的第三路径;在功能模式下对第三路径设置时序约束,使得第三路径在a个时钟周期内达到目标性能,其中a小于或等于功能模式下的时钟频率与DFT模式下的时钟频率的比值、且a是正整数。

在一个实施例中,该方法还包括:在DFT模式下去除对第三路径设置的时序约束。

在一个实施例中,在功能模式下对第三路径设置时序约束,使得第三路径在a个时钟周期内达到目标性能包括:对第三路径设置set_multicycle_path a的时序约束命令。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津飞腾信息技术有限公司,未经天津飞腾信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110343219.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top