[发明专利]光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法

说明书

本发明涉及光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法。根据示例性实施例的光掩模包括：掩模基板；以及沿掩模基板的第一边缘设置的第一测试图案和第二测试图案，其中第一测试图案具有第一外部形状和第一内部形状，第二测试图案具有第二外部形状，并且第二测试图案的第二外部形状大于第一测试图案的第一内部形状，并且小于第一测试图案的第一外部形状。

相关申请的交叉引用

本申请要求2020年3月25日提交至韩国知识产权局的第10-2020-0036267号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的公开通过引用整体合并于此。

技术领域

本公开涉及光掩模、使用该光掩模的显示装置的制造方法以及根据该制造方法制造的显示装置。

背景技术

显示装置包括液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)显示器等。显示装置用于在各种电子装置(诸如移动电话、导航装置、数码相机、电子书、便携式游戏机和各种显示终端)中显示图像。

显示装置可以包括在制造工艺期间设置在不同的层中的各种布线。例如，可以通过诸如沉积工艺、光工艺和蚀刻工艺的工艺来形成布线。光工艺包括曝光工艺和显影工艺，并且光掩模可以在曝光工艺期间使用。预定图案形成在光掩模中。光可以不穿过光掩模的在其中形成有预定图案的一部分，而光可以穿过在其中不形成预定图案的一部分。

在制造大型显示装置时，布线可以通过使用与显示装置的尺寸相对应的光掩模或者通过移动小于显示装置的光掩模并多次执行曝光工艺来形成。光掩模的未对齐可以与布线的最初的设计形状不同地形成被放置在曝光区之间的边界处的布线。

本背景技术部分中公开的以上信息仅仅用于加深对本公开的背景的理解，并且因此以上信息可以包含不形成本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的示例性实施例是提供能够在移动光掩模和执行曝光工艺的工艺中检查光掩模是否未对齐的光掩模、使用该光掩模的显示装置的制造方法以及根据该制造方法制造的显示装置。

根据本公开的示例性实施例的光掩模包括：掩模基板；以及沿掩模基板的第一边缘设置的第一测试图案和第二测试图案，其中第一测试图案具有第一外部形状和第一内部形状，第二测试图案具有第二外部形状，并且第二测试图案的第二外部形状大于第一测试图案的第一内部形状，并且小于第一测试图案的第一外部形状。

第一测试图案的第一外部形状、第一测试图案的第一内部形状和第二测试图案的第二外部形状中的每个可以具有正方形形状，并且第二测试图案的第二外部形状的一侧的第一长度可以比第一测试图案的第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比第一测试图案的第一外部形状的一侧的第三长度短。

第二测试图案可以进一步具有第二内部形状，并且第二测试图案的第二内部形状可以小于第一测试图案的第一内部形状。

第一测试图案的第一外部形状、第一测试图案的第一内部形状、第二测试图案的第二外部形状和第二测试图案的第二内部形状中的每个可以具有正方形形状，第二测试图案的第二外部形状的一侧的第一长度可以比第一测试图案的第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比第一测试图案的第一外部形状的一侧的第三长度短，并且第二测试图案的第二内部形状的一侧的第四长度可以比第一测试图案的第一内部形状的一侧的第二长度短。

根据示例性实施例的光掩模进一步包括：沿面对掩模基板的第一边缘的第二边缘设置的第三测试图案和第四测试图案，第一测试图案和第三测试图案可以被设置在与连接掩模基板的第一边缘和第二边缘的第三边缘平行地延伸的第一假想线上，并且第二测试图案和第四测试图案可以被设置在与第三边缘平行地延伸的第二假想线上。

第三测试图案可以具有与第一测试图案基本相同的形状，并且第四测试图案可以具有与第二测试图案基本相同的形状。