[发明专利]一种OLED的IMITO结构及OLED消影镀膜方法

说明书

本发明公开了一种OLED的IMITO结构，包括玻璃基板、消影层和导电层，所述消影层设置在导电层与玻璃基板之间，消影层设置在玻璃基板上，导电层设置在消影层上。消影层包括TiO₂膜层和SiO₂膜层，TiO₂膜层设置在玻璃基板上，SiO₂膜层设置在TiO₂膜层上，导电层设置在SiO₂膜层上。本发明通过在ITO膜层下镀TiO₂、SiO₂材料达到消影的目的，即通过消影(IMITO)技术提升OELD的显影和视觉效果。本发明还公开了一种OLED消影镀膜方法，包括原材料清洗、TiO₂镀膜、SiO₂镀膜、ITO镀膜、膜层抛光、清洗检验和包装出货，玻璃基板在运输辊道上依次经过原材料清洗、TiO₂镀膜、SiO₂镀膜、ITO镀膜、膜层抛光、清洗检验和包装出货工序。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种OLED的IMITO结构及OLED消影镀膜方法。

背景技术

随着显示技术的多元化发展，OLED作为目前显示技术的前沿，已开始以超轻薄、低能耗、可视角度广、优质画质等特点对传统的LCD产品形成巨大冲击，尤其是中高端显示市场，将逐步取代LCD。OLED是指采用极薄的有机材料涂层和玻璃基板所构成且当电流通过时会发光的有机半导体，具有自发光特性。而我司拥有20年的镀膜技术经验，并且在2016年已开始研发和量产OELD产品所需要的重要部件——带导电的玻璃基材。现有带ITO的玻璃基材在蚀刻线路后，蚀刻痕明显，影响显影和视觉效果，不能满足OLED产品的需要。

发明内容

针对现有技术中存在的不足，本发明的目的在于提供一种OLED的IMITO结构，该种结构使OLED具有消影层，用来改善显影和视觉效果；本发明还提供了一种OLED消影镀膜方法。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：一种OLED的IMITO结构，其特征在于：包括玻璃基板、消影层和导电层，所述消影层设置在导电层与玻璃基板之间，消影层设置在玻璃基板上，导电层设置在消影层上。

进一步的，所述消影层包括TiO₂膜层和SiO₂膜层，TiO₂膜层设置在玻璃基板上，SiO₂膜层设置在TiO₂膜层上，导电层设置在SiO₂膜层上。

进一步的，所述导电层为透明导电层，导电层包括ITO膜层，ITO膜层设置在SiO₂膜层上。

进一步的，所述TiO₂膜层采用的TiO₂材料的折射率为2.0-2.6，SiO₂膜层采用的SiO₂材料的折射率为1.4-1.6。

进一步的，所述ITO膜层采用的ITO材料的折射率为1.8-2.2。

本发明还提供了一种OLED消影镀膜方法，包括原材料清洗、TiO₂镀膜、SiO₂镀膜、ITO镀膜、膜层抛光、清洗检验和包装出货，玻璃基板在运输辊道上依次经过原材料清洗、TiO₂镀膜、SiO₂镀膜、ITO镀膜、膜层抛光、清洗检验和包装出货工序。

进一步的，所述原材料清洗的具体操作为：通过镀膜清洗机清洗玻璃基板，玻璃基板在运输辊道上运行，在清洗段设有毛刷、高压喷淋和风刀，高压喷淋位于玻璃基板的上方和/或下方，毛刷和风刀与玻璃基板的表面接触，且毛刷和风刀能自行旋转，使用碱水和纯水对玻璃基板进行清洗；所述镀膜清洗机速度为4±2m/min，碱水的PH值为11±1，毛刷转速为300±50r/min，喷淋压力为35±5psi，风刀压力为5±2kpa。