[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板清洗装置，其特征在于，具有：

基板保持机构，该基板保持机构保持基板并使基板旋转；

清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向保持于所述基板保持机构的所述基板供给清洗液；

辊清洗器具，该辊清洗器具在所述清洗液的存在下与所述基板滑动接触而清洗所述基板；以及

吸引系统，该吸引系统与所述辊清洗器具连接，通过所述辊清洗器具从所述基板吸引所述清洗液。

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述吸引系统具有：

清洗液吸引配管，该清洗液吸引配管与所述辊清洗器具连结；

真空线，该真空线与所述清洗液吸引配管连结；以及

吸引阀，该吸引阀设置于所述清洗液吸引配管。

3.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述基板清洗装置还具有控制所述吸引阀的动作的控制部，

所述控制部在所述辊清洗器具清洗所述基板期间，将所述吸引阀维持在打开的状态。

4.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述辊清洗器具具有轴部和覆盖所述轴部的外表面的海绵部件，

所述轴部具有：主流路，该主流路在该轴部的内部延伸；多个开口，该多个开口设置于该轴部的外表面；以及多个支流路，该多个支流路使所述主流路与所述多个开口连通，

所述清洗液吸引配管与所述主流路连接。

5.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述基板清洗装置还具有与所述清洗液吸引配管连接的内部冲洗液供给线，

所述清洗液吸引配管与所述内部冲洗液供给线的连接点位于所述吸引阀与所述辊清洗器具之间。

6.一种基板清洗方法，其特征在于，

一边向基板供给清洗液且在所述清洗液的存在下使辊清洗器具与所述基板滑动接触，一边通过与所述辊清洗器具连接的吸引系统从所述基板吸引所述清洗液。

7.根据权利要求6所述的基板清洗方法，其特征在于，

所述辊清洗器具具有轴部和覆盖所述轴部的外表面的海绵部件，

所述轴部具有：主流路，该主流路在该轴部的内部延伸；多个开口，该多个开口设置于该轴部的外表面；以及多个支流路，该多个支流路使所述主流路与所述多个开口连通，

吸引所述清洗液的工序是经由所述海绵部件、所述支流路以及所述主流路来进行的。

8.一种基板处理装置，其特征在于，具有：

研磨单元，该研磨单元研磨基板；以及

基板清洗装置，该基板清洗装置对由所述研磨单元研磨后的基板进行清洗，

所述基板清洗装置具有：

基板保持机构，该基板保持机构保持基板并使基板旋转；

清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向保持于所述基板保持机构的所述基板供给清洗液；

辊清洗器具，该辊清洗器具在所述清洗液的存在下与所述基板滑动接触而清洗所述基板；以及

吸引系统，该吸引系统与所述辊清洗器具连接，通过所述辊清洗器具从所述基板吸引所述清洗液。

9.根据权利要求8所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述吸引系统具有：

清洗液吸引配管，该清洗液吸引配管与所述辊清洗器具连结；

真空线，该真空线与所述清洗液吸引配管连结；以及

吸引阀，该吸引阀设置于所述清洗液吸引配管，

所述辊清洗器具具有轴部和覆盖所述轴部的外表面的海绵部件，

所述轴部具有：主流路，该主流路在该轴部的内部延伸；多个开口，该多个开口设置于该轴部的外表面；以及多个支流路，该多个支流路使所述主流路与所述多个开口连通，

所述清洗液吸引配管与所述主流路连接。