[实用新型]一种溅镀式真空镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种溅镀式真空镀膜装置，包括工艺腔室，工艺腔室内部设置有基座，基座顶部设置有支撑架，支撑架上端一侧设置有电动机，支撑架的另一侧设置有第一夹持块，第一夹持块远离支撑架的一侧设置有第二夹持块，第二夹持块远离第一夹持块的一侧设置有气缸，工艺腔室的顶部固定连接有靶材，靶材的顶部上表面固定连接有靶件背板，靶件背板顶部上表面固定连接有冷却腔体，冷却腔体下侧设置有冷却腔室，冷却腔体内部设置有进水口与出水口，冷却腔室内部设置有磁控管。本实用新型的一种溅镀式真空镀膜装置，通过设置的气缸带动伸缩杆使得支撑架移动，用来夹持工件，再电动机旋转带动夹持块，可以将工件翻面。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，特别涉及一种溅镀式真空镀膜装置。

背景技术

现有的技术设备。在真空镀膜的过程中，需要对产品进行翻面，实现对其上下表面均完成镀膜，因此需要在镀膜的过程中完成对用于固定产品的基片的翻转。而现有的真空镀膜机在完成了正面的镀膜后有的是采用人工手动翻转的方式，这种方式不仅效率低下，而且会影响到镀膜质量；另一种是通过采用在基片上下两端中间位置安装支杆，上支杆放在工件盘上凹槽内，下支杆插在基片旋转轴承内，工作盘在转动的过程中两根拔叉杆先后接触到拔叉并推动拔叉，在轴承的作用下使基片旋转至另一面，而这种翻转方式在翻转过程中由于速度较快，对基片上产品的震动较大，会造成产品偏移位置，导致镀膜不良。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种溅镀式真空镀膜装置，可以有效改善背景技术中阐述的真空镀膜不易翻面问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种溅镀式真空镀膜装置，包括工艺腔室，工艺腔室内部设置有基座，基座顶部设置有支撑架，支撑架上端一侧设置有电动机，支撑架的另一侧设置有第一夹持块，第一夹持块远离支撑架的一侧设置有第二夹持块，第二夹持块远离第一夹持块的一侧设置有气缸，工艺腔室的顶部固定连接有靶材，靶材的顶部上表面固定连接有靶件背板，靶件背板顶部上表面固定连接有冷却腔体，冷却腔体下侧设置有冷却腔室，冷却腔体内部设置有进水口与出水口，冷却腔室内部设置有磁控管。

优选的，基座形状呈T型，基座贯穿设置与工艺腔室内部，基座顶部设置有凹槽。

优选的，支撑架的数量有两组且形状呈倒T型线性分布，支撑架下端的尺寸与基座凹槽的尺寸相匹配，支撑架与基座滑动连接。

优选的，电动机数量有两组且分别固定连接于支撑架的上端外侧，支撑架上端设置有贯穿孔，贯穿孔的内径尺寸大于电动机输出端尺寸，电动机输出端贯穿支撑架，电动机的输出端分别固定连接第一夹持块与第二夹持块。

优选的，第一夹持块与第二夹持块形状相同且位置相对应。

优选的，气缸固定连接于基座，气缸的输出端固定连接有伸缩杆，伸缩杆固定连接有支撑架下端外表面。

优选的，磁控管的数量有三组且呈线性分布，磁控管的磁极依次交错排列。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：该溅镀式真空镀膜装置，通过气缸作为动力装置来带动支撑架在基座的凹槽中进行滑动，来控制第一夹持块与第二夹持块之间的距离，可以来夹持固定需要镀膜的工件，再工件将正面镀膜完成后，电动机开始工作，其输出轴将带动第一夹持块与第二夹持块进行旋转翻面，等到工件翻转到反面时，电动机停止运转，工件开始进行反面的镀膜。

附图说明

图1为本实用新型一种溅镀式真空镀膜装置的结构示意图；

图2为本实用新型一种溅镀式真空镀膜装置的基座顶部示意图；

图3为本实用新型一种溅镀式真空镀膜装置的夹持示意图；

图4为本实用新型一种溅镀式真空镀膜装置的气缸示意图。