[实用新型]一种溅镀式真空镀膜装置

权利要求书

1.一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：包括工艺腔室(1)，所述工艺腔室(1)内部设置有基座(2)，所述基座(2)顶部设置有支撑架(3)，所述支撑架(3)上端一侧设置有电动机(4)，所述支撑架(3)的另一侧设置有第一夹持块(5)，所述第一夹持块(5)远离支撑架(3)的一侧设置有第二夹持块(6)，所述第二夹持块(6)远离第一夹持块(5)的一侧设置有气缸(7)，所述工艺腔室(1)的顶部固定连接有靶材(8)，所述靶材(8)的顶部上表面固定连接有靶件背板(9)，所述靶件背板(9)顶部上表面固定连接有冷却腔体(10)，所述冷却腔体(10)下侧设置有冷却腔室(11)，所述冷却腔体(10)内部设置有进水口(12)与出水口(13)，所述冷却腔室(11)内部设置有磁控管(14)。

2.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：所述基座(2)形状呈T型，所述基座(2)贯穿设置与工艺腔室(1)内部，所述基座(2)顶部设置有凹槽。

3.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：所述支撑架(3)的数量有两组且形状呈倒T型线性分布，所述支撑架(3)下端的尺寸与基座(2)凹槽的尺寸相匹配，所述支撑架(3)与基座(2)滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：所述电动机(4)数量有两组且分别固定连接于支撑架(3)的上端外侧，所述支撑架(3)上端设置有贯穿孔，所述贯穿孔的内径尺寸大于电动机(4)输出端尺寸，所述电动机(4)输出端贯穿支撑架(3)，所述电动机(4)的输出端分别固定连接第一夹持块(5)与第二夹持块(6)。

5.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：所述第一夹持块(5)与第二夹持块(6)形状相同且位置相对应。

6.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：所述气缸(7)固定连接于基座(2)，所述气缸(7)的输出端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆固定连接有支撑架(3)下端外表面。

7.根据权利要求1所述的一种溅镀式真空镀膜装置，其特征在于：所述磁控管(14)的数量有三组且呈线性分布，所述磁控管(14)的磁极依次交错排列。