[发明专利]UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法在审
| 申请号： | 202011203670.5 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN112346299A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 廖立瑜;游伴奏;董超;宋玉;俞朝晖 | 申请（专利权）人： | 深圳市裕同包装科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G02B3/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | uv 光刻 制备 方法 透镜 阵列 | ||
1.一种UV光刻胶，其特征在于，包括以下组分：
丙烯酸树脂单体：40-50重量份；
烯酸树脂低聚物：40-43重量份；
第一光引发剂：3-5重量份；
第二光引发剂：1-2重量份；
添加剂：0.01-1％重量份。
2.根据权利要求1所述的UV光刻胶，其特征在于，所述丙烯酸树脂单体为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
3.根据权利要求1所述的UV光刻胶，其特征在于，所述丙烯酸树脂低聚物为1，6-己二醇二丙烯酸酯。
4.根据权利要求1所述的UV光刻胶，其特征在于，所述第一光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮。
5.根据权利要求1所述的UV光刻胶，其特征在于，所述第二光引发剂为1-羟基环己基苯基甲酮。
6.根据权利要求1所述的UV光刻胶，其特征在于，所述添加剂为有机硅消泡剂以及有机硅流平剂的混合物。
7.根据权利要求1所述的UV光刻胶，其特征在于，所述UV光刻胶的密度为1.12-1.14g/cm3，黏度为220-280cps。
8.根据权利要求7所述的UV光刻胶，其特征在于，所述UV光刻胶的敏感度为350-500mj/cm2，折射率为1.5-1.6。
9.一种UV光刻胶制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将40-50重量份的丙烯酸树脂单体和40-43重量份的丙烯酸树脂低聚物混合在一起，以1000-1800转/分钟的搅拌速度搅拌15-30分钟，得到均匀的第一混合溶液；
将3-5重量份的第一光引发剂和1-2重量份的第二光引发剂加入到第一混合溶液中，以800-1500转/分钟的搅拌速度搅拌15-30分钟，得到均匀的第二混合溶液；
将0.01-1重量份的添加剂加入到第二混合溶液中，以500-1000的搅拌速度搅拌60-120分钟，以获得UV光刻胶。
10.一种微透镜阵列制备方法，基于权利要求1至8任意一项所述的UV光刻胶，其特征在于，包括以下步骤：
选用表面经化学处理的PET膜作为承印基材；
通过微纳压印将所述UV光刻胶压印至所述PET膜正面形成微透镜阵列。
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