[发明专利]一种结构光参考图采集装置和方法有效

专利信息
申请号: 202010147190.5 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN111272070B 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 周飞亚;李骊 申请(专利权)人: 南京华捷艾米软件科技有限公司;北京华捷艾米科技有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/24
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王学强
地址: 210012 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构 参考 采集 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种使用结构光参考图采集装置的结构光参考图采集方法,其特征在于,所述结构光参考图采集装置包括投影模组、接收模组和支架,所述支架上设有滑槽,投影模组、接收模组均装配在滑槽上,投影模组和接收模组通过沿滑槽滑动调节二者之间的距离,所述方法包括如下步骤:

(1)根据已知的产品工作距离确定整个工作距离范围内无深度暗角时的参考图尺寸、参考图拍摄距离、深度测量时的基准基线距离;

(2)根据参考图尺寸确定拍摄参考图时的各拍摄基线距离;

(3)依次调节投影、接收模组基线距离为步骤(2)中确定的各拍摄基线距离,拍摄各相应参考图;设置投影、接收模组基线距离为基准基线距离,并拍摄对应的基准参考图;

(4)以基准参考图为基准,对拍摄的各参考图进行处理,构造最终参考图;

步骤(2)中所述根据参考图尺寸确定拍摄参考图时的各拍摄基线距离具体包括如下方法:

若发射模组在接收模组左侧,则选取的各拍摄基线距离中,

最短的基线距离需满足:参考图左边界在接收模组视场内;

最长的基线距离需满足:参考图右边界在接收模组视场内;

若发射模组在接收模组右侧,则选取的各拍摄基线距离中,

最短的基线距离需满足:参考图右边界在接收模组视场内;

最长的基线距离需满足:参考图左边界在接收模组视场内;

所述参考图的参考图左边界、右边界具体是在参考图最远距离、最近距离处确定,方法为:

若发射模组在接收模组左侧:

过发射模组光心、最远距离处接收模组的左侧视场边缘构造射线,该射线与参考图拍摄距离的交点即为参考图左边界;

过发射模组光心、最近距离处接收模组的右侧视场边缘构造射线,该射线与参考图拍摄距离的交点即为参考图右边界;

若发射模组在接收模组右侧:

过发射模组光心、最远距离处接收模组的右侧视场边缘构造射线,该射线与参考图拍摄距离的交点即为参考图右边界;

过发射模组光心、最近距离处接收模组的左侧视场边缘构造射线,该射线与参考图拍摄距离的交点即为参考图左边界。

2.根据权利要求1所述的结构光参考图采集方法,其特征在于,所述滑槽上标有刻度。

3.根据权利要求1所述的结构光参考图采集方法,其特征在于,步骤(2)中所述各拍摄基线距离不少于三个。

4.根据权利要求1所述的结构光参考图采集方法,其特征在于,步骤(4)中所述对拍摄的各参考图进行处理,具体包括去噪、旋转、缩放、分割、提取、融合处理。

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