[发明专利]同位素分段压裂示踪技术在审

专利信息
申请号: 202010055998.0 申请日: 2020-01-18
公开(公告)号: CN113137220A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 邬传威;梁金慧;孟韬 申请(专利权)人: 天津大港油田圣达科技有限公司
主分类号: E21B43/26 分类号: E21B43/26;E21B47/11
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300270 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 同位素 分段 压裂示踪 技术
【权利要求书】:

1.一种同位素分段压裂示踪技术,其特征在于:包括以下施工步骤:

S1:施工设计,制定测试实施方案,选择所需的同位素示踪剂种类,根据井组的井距、储层厚度、孔隙度、含水率、连通系数及仪器、最低检测限等资料,按下列步骤及公式计算出使用的同位素示踪剂用量:

首先,计算注入地层的最大稀释体积:

Vp = A·H·Sw·η,

其次,计算示踪剂的投加量:

Q=μ·MDL·Vp;

S2:现场施工,压裂施工时,可以从混砂车加入示踪剂,不同的层段加入不同的示踪剂,现场根据不同的施工排量均匀调整注入速度,也可以在配好的压裂液中加入示踪剂,不同的储层要使用含有不同示踪剂的压裂液;

S3:样品采集,在压裂液返排期间,在排液管线出口(井口)连续跟踪取样、监测,直到返排结束,取样要求见下表:

S4:样品处理,采集到的油水样品进行过滤,收集到的滤液需达到清澈、透明的程度,取定5ml滤液加入10ml闪烁液摇匀、静置,在暗室环境避光24小时待测;

S5:样品检测,采用液体闪烁分析仪对同位素元素样品进行示踪剂浓度检测,得到示踪剂浓度曲线;

S6:分析解释,数据、曲线综合分析处理,综合解释与评价,示踪剂产出曲线解释原则:有几个峰值就有几个大孔道,但有几个大孔道不一定有几个峰值,因为几个大孔道可同时出现示踪剂,在同一注水孔注1次示踪剂的情况下,同1个大孔道不会出现2个或更多的峰值。

2.根据权利要求1所述的同位素分段压裂示踪技术,其特征在于:所述最大稀释体积公式中:Vp-最大稀释体积,m3;A-波及面积,m2;H-注入井有效厚度,m;Sw-砂层含水饱和度,%;η—波及效率,%。

3.根据权利要求1所述的同位素分段压裂示踪技术,其特征在于:所述投加量公式中:Q-μ示踪剂用量,居里;μ-保障系数;MDL-仪器最低检测限。

4.根据权利要求1所述的同位素分段压裂示踪技术,其特征在于:所述同位素示踪剂有C14、P32、H3、I125、S35等,所述示踪剂具备以下条件:

1)与压裂液具有较高的相容性,对压裂液的性能无影响;

2)极高的检测极限,可达0.01Bq/L;

3)具有长期的化学稳定性和热稳定性;

4)在岩石表面无吸附或在井筒周围无吸附;

5)同油藏流体无化学反应且无元素交换。

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