[发明专利]具有可变强度二极管的空间光调制器

说明书

本公开内容的实施方式一般涉及一种图像投影系统。该图像投影系统包括有源矩阵固态发射器(SSE)装置。该有源矩阵固态发射器包括基板、硅层和发射器基板。该硅层经沉积在具有多个晶体管形成于其中的该基板之上。该发射器基板经定位在该硅层与该基板之间。该发射器基板包含多个发射器阵列。每个发射器阵列限定像素，其中一个像素包含来自该多个晶体管的一个或多个晶体管。每个晶体管经配置以接收可变量的电流。

技术领域

本公开内容的实施方式一般涉及一种在基板上制造图像的设备，更特定地涉及改良的空间光调制器。

背景技术

光刻广泛地使用在半导体装置及显示装置(像是液晶显示器(LCD))的制造中。大面积基板经常被运用在LCD的制造中。LCD(或平面平板)常见用于有源矩阵显示器，像是计算机、触摸平板装置、个人数字助理(PDA)、手机、电视监视器及类似者。一般，平面平板可包括形成像素的一层液晶材料，其夹在两平板之间。当跨于该液晶材料施加来自电源的电力时，可于像素位置处控制通过该液晶材料的光的量，使能产生图像。

微光刻技术一般被用以制造电特征，所述电特征被并入成为形成像素的液晶材料的部分。按照此技术，典型将光敏光刻胶施加至基板的至少一个表面。接着，图案产生器借着光将所选范围的光敏光刻胶曝光成为一图案的部分，致使对所选范围中的光刻胶的化学变化，以制备这些所选范围供后续材料移除和/或材料添加工艺，来产生所述电特征。

常规的微光刻系统运用数字微反射镜装置(DMD)，通过朝向光刻胶反射光来形成多个光束。DMD包括多个反射镜，该DMD的每个反射镜处在“开”位置抑或“关”位置中，使该系统局限于二进制发射器的图像质量。为了持续提供给显示装置及其他装置更精确的图像质量，需要新的设备、作法及系统以精确地且节省成本地在基板(像是大面积基板)上产生图案。

由于以上的说明，持续需要改良的技术以用于精确地且节省成本地在基板上产生图案。

发明内容

在一个或多个实施方式中，本文中公开一种图像投影系统。图像投影系统包括有源矩阵固态发射器(SSE)。有源矩阵SSE包括基板、硅层和发射器基板。该硅层经沉积在该基板之上，该基板具有多个晶体管形成于其中。该发射器基板经定位在硅层与基板之间。该发射器基板包含多个发射器阵列。每个发射器阵列限定像素，其中一个像素包含来自该多个晶体管的一个或多个晶体管。每个晶体管经配置以接收可变量的电流。

在其他实施方式中，本文公开一种用于在基板上产生图像的方法。指令被传送至图像投影系统。该图像投影系统包含多个发射器阵列。所述指令包含针对该多个发射器阵列中的每个发射器的状态信息。在开启状态中的所述发射器经脉冲激发以曝光该基板的第一部分。该基板经平移一个步长。在开启状态中的所述发射器经脉冲激发以曝光该基板的第二部分。在每个步长的平移后重复对开启状态中的所述发射器的脉冲激发以曝光该基板的后续部分，直到该基板被处理为止。

附图说明

为使以上所述本公开内容的特征能详细地被了解，可通过参照实施方式得到本公开内容更特定的说明(如以上简短摘要者)，所述实施方式的部分经图示在随附附图中。然而，应注意随附附图仅描绘本公开内容的典型实施方式，因此不应被认为设定本公开内容的范围，因为本公开内容可承认其他同等有效的实施方式。

图1描绘按照一个或多个实施方式的处理系统的透视图。

图2描绘按照一个或多个实施方式，图1的处理系统的截面侧视图。

图3描绘按照一个或多个实施方式的多个图像投影系统的透视图。

图4A描绘图3的多个图像投影系统的一个图像投影系统的透视示意图。

图4B描绘按照一个或多个实施方式的多重DMD组合件的透视图。

图5描绘按照一个或多个实施方式的多个改良图像投影系统的透视图。