[发明专利]具有可变强度二极管的空间光调制器在审

申请号：	201980018636.X	申请日：	2019-02-05
公开（公告）号：	CN111886543A	公开（公告）日：	2020-11-03
发明（设计）人：	约瑟夫·R·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻	申请（专利权）人：	应用材料公司
主分类号：	G03F1/76	分类号：	G03F1/76;G03F7/20;H01L21/027
代理公司：	北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006	代理人：	徐金国;赵静
地址：	美国加利***	国省代码：	暂无信息
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摘要：	本公开内容的实施方式一般涉及一种图像投影系统。该图像投影系统包括有源矩阵固态发射器(SSE)装置。该有源矩阵固态发射器包括基板、硅层和发射器基板。该硅层经沉积在具有多个晶体管形成于其中的该基板之上。该发射器基板经定位在该硅层与该基板之间。该发射器基板包含多个发射器阵列。每个发射器阵列限定像素，其中一个像素包含来自该多个晶体管的一个或多个晶体管。每个晶体管经配置以接收可变量的电流。
搜索关键词：	具有可变强度二极管空间调制器
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用于设置相对激光强度的设备和方法-202180070282.0
发明人： F·伊伦 -专利权人：迈康尼股份公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F1/76
摘要：为表示光刻曝光的多个像素设置相应相对激光强度的一种设备、计算机程序、计算机可读介质和方法。该多个像素包括：至少一个边缘像素，位于待曝光的像素区域的边缘处；以及至少一个相邻像素，排列为在朝向该待曝光的像素区域的与边缘垂直的方向上与该至少一个边缘像素相距一个像素。该方法包括将多个像素的每个像素的相对激光强度从先前设置的相应第一相对激光强度成比例地降低到相应第二相对激光强度。将像素的相对激光强度的激光剂量转换从先前设置的第一激光剂量转换成比例地调整到第二激光剂量转换，使得每个像素的相应有效曝光激光剂量通过该相应第二相对激光强度的第二激光剂量转换来实现，该每个像素的相应有效曝光激光剂量等于由该相应第一相对激光强度的第一激光剂量转换产生的每个像素的相应有效曝光激光剂量。将该至少一个边缘像素的边缘像素或该至少一个相邻像素的相邻像素的相应相对激光强度从相应第二相对激光强度增加到相应第三相对激光强度。

具有可变强度二极管的空间光调制器-201980018636.X
发明人：约瑟夫·R·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-02-05 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F1/76
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及一种图像投影系统。该图像投影系统包括有源矩阵固态发射器(SSE)装置。该有源矩阵固态发射器包括基板、硅层和发射器基板。该硅层经沉积在具有多个晶体管形成于其中的该基板之上。该发射器基板经定位在该硅层与该基板之间。该发射器基板包含多个发射器阵列。每个发射器阵列限定像素，其中一个像素包含来自该多个晶体管的一个或多个晶体管。每个晶体管经配置以接收可变量的电流。

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