[发明专利]用于真空镀膜设备的水循环装置

说明书

本发明公开了一种用于真空镀膜设备的水循环装置，包括恒温水箱、第一水循环管路、第二水循环管路、第三水循环管路和控制阀装置，第一水循环管路用于连通恒温水箱和扩散泵上铺设的第一水冷管路，第二水循环管路用于连通第一水冷管路和一冷水源，控制阀装置用于选择性的将第一水循环管路和第二水循环管路中的其中一者与第一水冷管路连通；第三水循环管路用于将恒温水箱与铺设在真空室外壁上的第二水冷管路连通，恒温水箱为第二水冷管路提供恒定温度的温水；上述水循环装置，由于扩散泵的外壁高度远远高于常温，因此，可使得常温水箱中的水一直保持在高于常温的温度(如50℃)，而且不需要对恒温水箱设置额外的加热装置，提高了能源利用率。

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜设备的水循环装置。

背景技术

真空镀膜，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜工艺，真空度越高，生产出来的镀膜镜片的质量越好。真空镀膜设备一般包括有真空室、扩散泵和水冷管路，待镀膜镜片放置在真空室进行镀膜，为了提高真空室中的真空度，真空室内还会设置加热装置，从而提高真空室内的真空度来提高真空室内气体分子的活跃度，然后通过扩散泵不断地将真空室内的气体分子抽出，以保证真空室内的真空度。水冷管路铺设在真空室的外壁上，根据镀膜工艺的不同，在镀膜过程中用于给真空室的外壁加热或降温，另外，在真空室打开时，水冷管路还用于保持真空室的温度，以避免真空室内产生水珠。目前，对水冷管路中的水温控制有以下几种方式：1、永远保持在21℃恒温；2、真空室开门时，关闭水冷管路中的水循环，真空室工作时，保持在21℃恒温；3、真空室开门时保持在50℃，真空室工作时，保持在21℃；4、永远保持在50℃恒温；通过不断的实践，用户普遍认为将散热水管中的水温保持在50℃对镀膜效果是最好的，但是由于50℃远远高于常温，因此，现有技术中一般都是在为供给水冷管路水源的水箱中设置加热装置，这就使得这种水温控制模式的能源成本相对其他几种模式来说提高许多，不利于产品的市场竞争。

发明内容

本发明的目的是为解决上述技术问题的不足而提供一种用于真空镀膜设备的水循环装置，通过该水循环装置即可将真空镀膜设备中真空室外壁上的水冷管路中的水温控制在理想的温度，又不会增加额外的能源成本。

为了实现上述目的，本发明公开了一种用于真空镀膜设备的水循环装置，真空镀膜设备包括真空室和用于为所述真空室抽真空的扩散泵，所述水循环装置包括恒温水箱、第一水循环管路、第二水循环管路、第三水循环管路和控制阀装置，所述第一水循环管路用于连通所述恒温水箱和所述扩散泵上铺设的第一水冷管路，所述第二水循环管路用于连通所述第一水冷管路和一冷水源，所述控制阀装置用于选择性的将所述第一水循环管路和所述第二水循环管路中的其中一者与所述第一水冷管路连通，以使得所述恒温水箱中的水保持在所设置的恒定水温；所述第三水循环管路用于将所述恒温水箱与铺设在所述真空室外壁上的第二水冷管路连通，所述恒温水箱为所述第二水冷管路提供恒定温度的温水。

与现有技术相比，本发明用于真空镀膜设备的水循环装置，通过第一水循环管路将铺设在扩散泵上的第一水冷管路与恒温水箱连通，从而通过扩散泵外壁的温度对恒温水箱中的水进行循环加热，充分利用了扩散泵散发出的热量；当恒温水箱中的水温超出所需要的温度时，还可通过控制阀装置关闭第一水循环管路的流通，打开第二水循环管路，此时，冷水源提供的冷水继续为扩散泵散热，当恒温水箱中的水温将至所需温度以下时，重新通过控制阀装置调整第一水循环管路和第二水循环管路的开合，从而使得恒温水箱中的水一直保持在所需温度，恒温水箱中的水通过第三循环管路在真空室外壁上的第二水冷管路中循环流动，从而为真空室提供所需的恒定温度；由此可知，由于扩散泵的外壁高度远远高于常温，因此，可使得常温水箱中的水一直保持在高于常温的温度，而且不需要对恒温水箱设置额外的加热装置，提高了能源利用率，节约了生产成本。

较佳地，所述冷水源还通过第四水循环管路与所述恒温水箱连通，所述控制阀装置还可控制所述第四水循环管路的工作状态。

较佳地，所述第一水冷管路位于所述扩散泵下部的高温段。