[发明专利]测量装置、曝光装置和制造物品的方法

说明书

公开了测量装置、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种测量装置，包括：第一滤光器单元，包括多个第一滤光器，并且每个第一滤光器被配置成允许具有不同波长带的光通过；第二滤光器单元，包括多个第二滤光器，并且每个第二滤光器被配置成降低光强度并允许光通过；取得单元，被配置成取得表示针对已经通过所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器的光的波长带的、所述多个第二滤光器中的每个第二滤光器的透射率的数据；以及选择单元，被配置成基于由取得单元取得的数据，从所述多个第二滤光器中选择与所述多个第一滤光器中的一个第一滤光器一起布置在光路上的一个第二滤光器。

技术领域

本发明涉及测量装置、曝光装置和制造物品的方法。

背景技术

近年来，已经要求用于制造半导体器件的曝光装置实现基板的高覆盖精度以及微构图。由于覆盖精度一般需要大约1/5的分辨率，因此随着半导体器件的微构图的发展，覆盖精度的提高变得越来越重要。

加宽用于检测对准标记的光(检测光)的波长带被认为是用于提高覆盖精度的手段。尤其是，近年来，诸如用可见光取得低对比度和低精度的滤色处理之类的处理增加，从而需要能够使用包括近红外光和具有除可见光之外的蓝色波长的光(蓝色波长光)的宽波长带的光的位置测量装置。

在位置测量装置中，减光滤光器(neutral density filter)一般用作减光手段，如日本专利特许公开No.2003-092248和8-292580中所公开的。日本专利特许公开No.2003-092248公开了一种在可旋转回转台上布置具有离散透射率的多个减光滤光器并且选择性地使用每个减光滤光器作为具有相同透射率的减光滤光器而不管检测光的波长带如何的技术。此外，日本专利特许公开No.8-292580公开了一种为检测光的每个波长带提供照明光学系统并在每个照明光学系统的光路上布置减光滤光器的技术。

但是，当加宽检测光的波长带时，常规的位置测量装置不能准确地降低光强度，从而降低了生产量。这是由于减光滤光器对可见光具有平坦的调光率(dimming rate)但不能相对于蓝色波长光或红外光实现与对可见光的调光率相同的调光率的事实而造成的。因此，即使通过假设实现与对可见光的调光率相同的调光率而将相同的减光滤光器用于红外光，对红外光的调光率实际上也会高于或低于对可见光的调光率。在这种情况下，使用减光滤光器调节(执行光控制)检测光的光量需要花费时间，从而导致生产量降低。另一方面，将减光滤光器布置在为检测光的每个波长带提供的每个照明光学系统的光路上的技术导致光学系统的复杂化、尺寸的增大和成本的增大。

发明内容

本发明提供了虽然布置简单但有利于抑制生产量降低的测量装置。

根据本发明的第一方面，提供了一种用于通过检测基板上的标记来测量基板的位置的测量装置，包括：第一滤光器单元，包括布置在被配置成输出用于照射标记的光的光源和被配置成捕获标记的图像传感器之间的光路上的多个第一滤光器，多个第一滤光器中的每个第一滤光器被配置成允许具有不同波长带的光通过；第二滤光器单元，包括布置在光源和图像传感器之间的光路上的多个第二滤光器，并且每个第二滤光器被配置成降低光的光强度并允许光通过；取得单元，被配置成取得表示针对已经通过多个第一滤光器中的每个第一滤光器的光的波长带的、多个第二滤光器中的每个第二滤光器的透射率的数据；以及选择单元，被配置成基于由取得单元取得的数据，从多个第二滤光器中选择与多个第一滤光器中的一个第一滤光器一起布置在光路上的一个第二滤光器。

根据本发明的第二方面，提供了一种用于通过检测基板上的标记来测量基板的位置的测量装置，包括：滤光器单元，包括布置在被配置成输出用于照射标记的光的光源和被配置成捕获标记的图像传感器之间的光路上的多个第二滤光器，多个第二滤光器中的每个第二滤光器被配置成降低光的光强度并允许光通过；以及选择单元，被配置成取得表示针对要用于照射标记的光的波长带的、多个第二滤光器中的每个第二滤光器的透射率的数据，并且基于该数据从多个第二滤光器中选择用于对用以照射标记的光的光控制的一个第二滤光器。