[发明专利]测量装置、曝光装置和制造物品的方法

权利要求书

1.一种用于通过检测基板上的标记来测量基板的位置的测量装置，包括：

第一滤光器单元，包括布置在被配置成输出用于照射标记的光的光源和被配置成捕获标记的图像传感器之间的光路上的多个第一滤光器，所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器被配置成允许具有不同波长带的光通过；

第二滤光器单元，包括布置在光源和图像传感器之间的光路上的多个第二滤光器，并且每个第二滤光器被配置成降低光的光强度并允许光通过；

取得单元，被配置成取得表示针对已经通过所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器的光的波长带的、所述多个第二滤光器中的每个第二滤光器的透射率的数据；以及

选择单元，被配置成基于由取得单元取得的数据，从所述多个第二滤光器中选择与所述多个第一滤光器中的一个第一滤光器一起布置在光路上的一个第二滤光器。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，选择单元从所述多个第一滤光器中选择与要用于照射标记的光的波长带对应的所述一个第一滤光器。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，选择单元选择所述一个第二滤光器以使得通过所述一个第二滤光器从而照射标记的光的光量落入图像传感器可检测的光量范围内。

4.根据权利要求1所述的装置，还包括：

基准标记，布置在布置有基板的表面上；以及

传感器，被配置成检测光量，

其中，取得单元通过在改变所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器与所述多个第二滤光器中的每个第二滤光器的组合的同时、用已经通过所述组合的第一滤光器和第二滤光器的光来照射基准标记并且由传感器检测来自基准标记的光的光量，取得所述数据。

5.根据权利要求1所述的装置，其中，在测量基板的位置之前，取得单元取得所述数据。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，第一滤光器单元包括所述多个第一滤光器以便选择在400nm(含)至1200nm(含)的范围内的用于照射标记的光的波长带。

7.根据权利要求1所述的装置，其中，通过所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器的光的波长带的宽度落入100nm(含)至150nm(含)的范围内。

8.根据权利要求1所述的装置，还包括：光控制单元，该光控制单元被配置成通过控制光源的输出和图像传感器的累积时间中的至少一个来执行对已经通过所述一个第一滤光器的光的光控制。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述多个第二滤光器中的每个第二滤光器由包括金属层的滤光器形成。

10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述多个第二滤光器由具有不同开口率的网格形成。

11.根据权利要求1所述的装置，其中，通过连续地彼此连接来提供所述多个第二滤光器。

12.根据权利要求1所述的装置，还包括：

第一驱动单元，被配置成驱动第一滤光器单元以在光路上选择性地布置所述多个第一滤光器中的一个第一滤光器；

第二驱动单元，被配置成驱动第二滤光器单元以在光路上选择性地布置所述多个第二滤光器中的一个第二滤光器；以及

控制单元，被配置成基于输入信号，控制第一驱动单元以便将所述一个第一滤光器布置在光路上，并控制第二驱动单元以便在光路上布置由选择单元选择的所述一个第二滤光器。

13.根据权利要求1所述的装置，还包括：计算单元，该计算单元被配置成基于来自图像传感器的输出信号来取得基板的位置。