[发明专利]籽晶保护装置及单晶生长方法有效

专利信息
申请号: 201810358210.6 申请日: 2018-04-19
公开(公告)号: CN108546986B 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 白永彪;赵有文;沈桂英;董志远;刘京明;谢晖;余丁 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所;中国科学院大学
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B11/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 籽晶 保护装置 生长 方法
【说明书】:

发明公开了一种籽晶保护装置及单晶生长方法。该籽晶保护装置,包括:石英舟,包含:石英舟本体,用于存放晶体原料;以及籽晶引入通道,包含:通道弧形部分,用于存放籽晶和/或作为籽晶的滑入通道,该通道弧形部分高于熔融后的晶体原料所在的水平线;以及凹槽,与通道弧形部分相连、位于籽晶引入通道的出口处;其中,在通道弧形部分放置籽晶的位置前方设置有一阻挡物,防止籽晶自行滑落;或者该籽晶引入通道还包括一水平段,该水平段与通道弧形部分的顶部相连,在该水平段中放置籽晶,使籽晶无法自发滑落;当触发籽晶的滑落条件时,籽晶能够沿着通道弧形部分滑动至凹槽中。该装置保证了籽晶使用前的有效隔离,提高了单晶形成率。

技术领域

本公开属于晶体生长技术领域,涉及一种籽晶保护装置及单晶生长方法。

背景技术

所谓单晶(single crystal),即结晶体内部的微粒在三维空间呈有规律地、周期性地排列,或者说晶体的整体在三维方向上由同一空间格子构成,整个晶体中质点在空间的排列为长程有序。单晶整个晶格是连续的,具有重要的工业应用。单晶生长制备方法大致可以分为气相生长、溶液生长、水热生长、熔盐法、熔体法。最常见的技术有提拉法、坩埚下降法、区熔法、定向凝固法等。

目前传统单晶生长方法多采用垂直方向的相对运动实现,但由于晶体质量大,尤其是在制作化合物单晶过程中,其化学配比无法保持稳定,容易引起杂质分凝,界面凹陷影响容易出现结晶质量不好、结晶不均匀等缺陷,而单晶水平生长方法出现于上个世纪,其晶体生长批量小,无法大规模商业化生产而弃用,近年来,由于科研实验等方面的需求,该方法又再一次被重视,该方法在生长单晶过程中化学配比稳定,杂质分凝现象减少,结晶速率较慢,所生产的单晶内部应力小,晶格排列结构完整,且由于不存在内部搅拌,使得产出的晶体界面更加平直,晶片的水平均匀性良好。

单晶水平生长方法常采用传统的水平加热炉生长,加热炉及内部陶瓷管保持水平,加热器由环绕陶瓷管的加热电阻组成,通常分为2-4个温控器,以形成温度梯度分布的控温区。加热炉中放置石英管,石英管放置石英舟后密封,位于石英舟的熔融体降温结晶时,温度控制通常分为两种方法:第一种方法,保持内部空间温度呈梯度分布且温度不随时间改变,通过水平移动位于加热炉石英管中的石英舟,石英舟依次进入温度不同的梯度温场,以使得石英舟中的熔融体由低温端开始降温并结晶,至石英舟内部的熔融体全部结晶完毕;第二种方法,保持内部空间温度呈梯度分布且保持石英舟位置不变,通过温控器同步降温,使得内部温度整体同步降低,石英舟中的熔融体的低温端在达到结晶温度时开始结晶,至石英舟内部的熔融体全部结晶完毕。

使用上述两种单晶水平生长方法时,加入籽晶可大幅度提高晶体成核率及结晶质量,籽晶通常位于石英舟一端,且在原料升温熔化后的保温阶段与原料的熔融体相接触,由于热传导,籽晶获得了较高的温度导致熔化,使得熔融体与籽晶的接触界面不稳定,增加了多晶出现的概率,降低了单晶晶体的结晶质量。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本公开提供了一种籽晶保护装置及单晶生长方法,以至少部分解决以上所提出的技术问题。

(二)技术方案

根据本公开的一个方面,提供了一种籽晶保护装置,包括:石英舟,包含:石英舟本体,具有凹腔结构,用于存放晶体原料;以及籽晶引入通道,与凹腔结构的一端相连通,包含:通道弧形部分,用于存放籽晶和/ 或作为籽晶的滑入通道,该通道弧形部分高于熔融后的晶体原料所在的水平线;以及凹槽,与通道弧形部分相连、位于籽晶引入通道的出口处,用于容纳从通道弧形部分滑入的籽晶;其中,在通道弧形部分放置籽晶的位置前方设置有一阻挡物,防止籽晶自行滑落;或者该籽晶引入通道还包括一水平段,该水平段与通道弧形部分的顶部相连,在该水平段中放置籽晶,使籽晶无法自发滑落;当触发籽晶的滑落条件时,籽晶能够沿着通道弧形部分滑动至凹槽中。

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