[发明专利]对准器结构及对准方法

权利要求书

1.一种基板对准器结构，作为在基板(S)表面执行薄膜沉积工序之前对准掩模(M)及基板(S)的基板对准器结构，其特征在于，包括：

第1次对准部(100)，其借助于基板(S)及掩模(M)的第1相对移动，依次地第1次对准基板(S)及掩模(M)，其中所述第1次对准部(100)结合于对所述掩模(M)进行支撑的掩模支撑部(310)或者结合于对所述基板(S)进行支撑的基板支撑部(320)；

第2次对准部(200)，其在借助于所述第1次对准部(100)的第1次对准后，借助于基板(S)及掩模(M)的第2相对移动，依次地第2次对准基板(S)及掩模(M)；

所述第2相对移动的移动尺度小于所述第1相对移动的移动尺度，以及

其中所述第1次对准部(100)和所述第2次对准部(200)中的每一个同时执行使所述基板(S)及所述掩模(M)贴紧的贴紧步骤以及对准所述基板(S)及所述掩模(M)的对准步骤。

2.根据权利要求1所述的基板对准器结构，其特征在于，

所述第1次对准部(100)及所述第2次对准部(200)结合于对掩模(M)进行支撑的所述掩模支撑部(310)，使所述掩模支撑部(310)移动，相对于基板(S)，执行支撑于掩模支撑部(310)的掩模(M)的第1相对移动及第2相对移动。

3.根据权利要求1所述的基板对准器结构，其特征在于，

所述第1次对准部(100)及所述第2次对准部(200)结合于对基板(S)进行支撑的所述基板支撑部(320)，使所述基板支撑部(320)移动，相对于掩模(M)，执行支撑于基板支撑部(320)的基板(S)的第1相对移动及第2相对移动。

4.根据权利要求1所述的基板对准器结构，其特征在于，

所述第2次对准部(200)结合于对掩模(M)进行支撑的所述掩模支撑部(310)，使所述掩模支撑部(310)移动，相对于基板(S)，执行支撑于掩模支撑部(310)的掩模(M)的第2相对移动，所述第1次对准部(100)结合于对基板(S)进行支撑的所述基板支撑部(320)，使所述基板支撑部(320)移动，相对于掩模(M)，执行支撑于基板支撑部(320)的基板(S)的第1相对移动。

5.根据权利要求1所述的基板对准器结构，其特征在于，

所述第1次对准部(100)结合于对掩模(M)进行支撑的所述掩模支撑部(310)，使所述掩模支撑部(310)移动，相对于基板(S)，执行支撑于掩模支撑部(310)的掩模(M)的第1相对移动，所述第2次对准部(200)结合于对基板(S)进行支撑的所述基板支撑部(320)，使所述基板支撑部(320)移动，相对于掩模(M)，执行支撑于基板支撑部(320)的基板(S)的第2相对移动。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的基板对准器结构，其特征在于，

所述第1相对移动的移动范围为5μm～10μm，所述第2相对移动的移动范围为10nm～5μm。

7.根据权利要求1至5中任意一项所述的基板对准器结构，其特征在于，

所述第1次对准部(100)借助于滚珠螺杆组合、齿条及齿轮组合、皮带及滑轮组合中的某一种而线性驱动，所述第2次对准部(200)借助于压电元件而线性驱动。

8.一种对准方法，作为在基板(S)表面执行薄膜沉积工序之前对准掩模(M)及基板(S)的对准方法，其特征在于，

同时执行使基板(S)及掩模(M)贴紧的贴紧步骤以及对准基板(S)及掩模(M)的对准步骤。