[实用新型]一种真空刻蚀用抽气装置有效
申请号: | 201720550489.9 | 申请日: | 2017-05-18 |
公开(公告)号: | CN206947300U | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 张惠琳 | 申请(专利权)人: | 信丰福昌发电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司32261 | 代理人: | 赵丽丽 |
地址: | 341600 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 刻蚀 用抽气 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及PCB板生产技术领域,尤其涉及一种真空刻蚀用抽气装置。
背景技术
刻蚀是PCB板制造过程中的重要工艺。刻蚀需要在真空反应腔中进行,在刻蚀完成之后,通过真空抽气装置抽出真空反应腔中的工艺废气。抽出真空反应腔中工艺废气的过程中,稀薄气体的抽送对逆向反弹的颗粒无法产生足够的阻挡和干扰,导致少量的颗粒返回到真空反应腔中,从而影响真空反应腔的洁净度,降低生产良率,并且,真空反应腔中颗粒的累积增加了停机维护的频率。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种真空刻蚀用抽气装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种真空刻蚀用抽气装置,包括真空腔、抽气腔和刻蚀设备,所述真空腔通过输出管与抽气腔相通连接,所述输出管与真空腔连接处设置有防回流弹片,所述防回流弹片的输出端对应抽气腔设置,所述抽气腔内对应输出管的末端设置有挡板,且抽气腔内对应挡板设置有反射板,所述抽气腔通过抽气管安装有分子泵,所述分子泵设置在抽气腔的外部,所述刻蚀设备与真空腔相通连接。
优选地,所述输出管上设置有调节阀,所述调节阀为调节球阀。 在真空腔内PCB板通过刻蚀设备刻蚀工艺后产生的废气通过分子泵抽取时,通过调节阀调节输出管内废气排出的量,保证真空腔内废气被排出的效果。
优选地,所述挡板呈折弯状设置,且挡板折弯处设置有通口。输出管通过分子泵抽取出的废气通过输出管进入抽气腔内,并通过挡板上的通口进入抽气腔内,挡板避免废气中的颗粒物质回流,影响废气抽离的效果。
优选地,所述抽气管与抽气腔连接处设置有防回流弹片二,所述防回流弹片二的输出端对应分子泵设置。通过防回流弹片二和防回流弹片辅助分子泵对真空腔内的废气抽取,双重防护废气中的颗粒物体回流,保证分子泵抽取真空腔内废气的效果。
优选地,所述反射板固定安装在抽气腔对应挡板的上方,且反射板设置有反射凸点,所述反射凸点的端部向抽气管倾斜。反射板将输出管排至抽气腔内的废气遮挡反弹,并通过反射板山的反射凸点导送至抽气管,提高分子泵抽取废气的效率。
本实用新型中,真空腔内PCB板通过刻蚀设备刻蚀工艺后产生的废气需要排放时,通过分子泵运行,通过抽气腔对真空腔内的废气抽取,通过调节阀调节输出管内废气排出的量,防回流弹片二和防回流弹片辅助分子泵对真空腔内的废气抽取,双重防护废气中的颗粒物体回流,输出管通过分子泵抽取出的废气通过输出管进入抽气腔内,并通过挡板上的通口进入抽气腔内,挡板避免废气中的颗粒物质回流,反射板将输出管排至抽气腔内的废气遮挡反弹,并通过反射板山的反 射凸点导送至抽气管,提高分子泵抽取废气的效率。该真空刻蚀用抽气装置,安装方便,使用简单,有效提高真空腔内废气排出的效率及废气排出的纯净度,提高PCB板刻蚀的质量。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种真空刻蚀用抽气装置的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种真空刻蚀用抽气装置的抽气腔内部结构示意图;
图3为本实用新型提出的一种真空刻蚀用抽气装置的A-A结构示意图。
图中:1真空腔;11输出管;12调节阀;13防回流弹片;2抽气腔;21分子泵;211抽气管;212防回流弹片二;22挡板;221通口;23反射板;231反射凸点;3刻蚀设备。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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