[发明专利]涂布装置以及涂布方法有效

专利信息
申请号: 201711399573.6 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108620279B 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 时枝大佐;芳川典生 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;C03B17/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本京都府京都市上京区堀*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置 以及 方法
【说明书】:

本发明涉及一种在涂布机构的移动方向上隔开的涂布膜的形成,其目的在于提供一种可高水平地维持涂布处理的精度,并可缩短涂布处理时间的涂布装置以及涂布方法。与本发明有关的涂布装置通过进行使第2涂布机构(16)到达第2端部(16y)的时机晚于第1涂布机构(14)到达第1端部(14y)的时机的时间差控制,使第1涂布机构(14)与第2涂布机构(16)隔开,并使第1涂布机构(14)及第2涂布机构(16)的移动的至少一部分在时间上并行来进行。

技术领域

本发明涉及一种将涂布材涂布于基板的上表面的涂布装置以及涂布方法。

背景技术

自从前以来,通过将涂布材涂布于玻璃基板等基板的上表面来制造液晶用显示器、或有机电致发光(Electro-Luminescence,EL)面板等。

例如,在专利文献1中揭示一种使用喷嘴并间歇地将涂布材涂布于基板的上表面的方法。根据该方法,可形成在喷嘴的移动方向上隔开的涂布膜。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2015-192987号公报

发明内容

[发明所要解决的课题]

为了高水平地维持涂布膜的膜厚均匀性等涂布处理的精度,理想的是进行刮板处理等维护处理以便在再次开始暂时停止的涂布动作时使喷嘴的前端恢复至初始状态。

另一方面,在间歇地对涂布材进行涂布的情况下,若每当停止涂布动作时进行维护处理,则有因用以使包含喷嘴的涂布机构移动至进行维护处理的维护部的时间而导致涂布处理时间变长的问题。

本发明是为了解决以上所记载的问题而成者,涉及一种在涂布机构的移动方向上隔开的涂布膜的形成,其目的在于提供一种可高水平地维持涂布处理的精度,并可缩短涂布处理时间的技术。

[解决课题的技术手段]

本申请说明书中所揭示的技术的第1实施方式包括:载置台,用于配置基板;第1涂布机构,能够在作为沿配置于所述载置台的所述基板的上表面的方向的第1方向上移动,且将第1涂布材涂布于所述基板的上表面的第1涂布区域;第2涂布机构,能够在作为与所述第1方向对向的方向的第2方向上移动,且将第2涂布材涂布于所述基板的上表面的第2涂布区域;第1维护部,位于所述载置台的其中一侧,且对所述第1涂布机构进行第1维护处理;第2维护部,位于所述载置台的另一侧,且对所述第2涂布机构进行第2维护处理;以及控制部,控制所述第1涂布机构的动作及所述第2涂布机构的动作;所述控制部为了进行所述第1维护处理而使所述第1涂布机构位于所述第1维护部后,在所述第1涂布区域使所述第1涂布机构在所述第1方向移动,进而所述第1涂布机构到达所述第1涂布区域的第1端部后,使所述第1涂布机构自所述第1端部退避,所述控制部为了进行所述第2维护处理而使所述第2涂布机构位于所述第2维护部后,在所述第2涂布区域使所述第2涂布机构在所述第2方向移动,进而使所述第2涂布机构到达所述第2涂布区域的第2端部,所述第1端部与所述第2端部之间的距离为位于所述第1端部的所述第1涂布机构与位于所述第2端部的所述第2涂布机构进行接触的距离以下,所述控制部通过进行使所述第2涂布机构到达所述第2端部的时机晚于所述第1涂布机构到达所述第1端部的时机的时间差控制,使所述第1涂布机构与所述第2涂布机构隔开,并使所述第1涂布机构及所述第2涂布机构的移动的至少一部分在时间上并行来进行。

本申请说明书中所揭示的技术的第2实施方式是根据第1实施方式,其中所述控制部通过使所述第2涂布机构位于所述第2维护部的时机晚于所述第1涂布机构位于所述第1维护部的时机,进行所述时间差控制。

本申请说明书中所揭示的技术的第3实施方式是根据第1实施方式或第2实施方式,其中所述控制部通过使所述第2涂布机构在所述第2方向移动的速度较所述第1涂布机构在所述第1方向移动的速度而言变慢,进行所述时间差控制。

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