[发明专利]光处理装置、涂敷、显影装置、光处理方法和存储介质

权利要求书

1.一种光处理装置，其特征在于，包括：

用于载置要进行光处理的被处理体的载置部；

用于形成在左右方向延伸的带状的照射区域的光照射单元，其中多个发光区块在左右方向上直线状排列，每个所述发光区块包括一个或彼此串联连接的多个发光二极管；

用于使所述载置部和光照射单元在前后方向彼此相对移动的移动机构；

存储部，其对于各个所述发光区块，存储使照射区域的左右方向的位置与各位置的电流的变化量引起的照度的变化量相对应的照度分布模式的变化量；和

运算处理部，其为了使所述照射区域的当前的长度方向的照度分布模式接近目标照度分布模式，基于所述发光区块各自当前的电流指令值和存储于所述存储部中的各发光区块的所述照度分布模式的变化量，求取各发光区块的电流指令值，

其中，在改变各个所述发光区块的电流时，用所述照度分布模式的变化量求取各个所述发光区块的照度分布模式，通过求取各个所述发光区块的照度分布模式之和来推算所述照射区域整体的当前的长度方向的照度分布模式，用所述照度分布模式的变化量使照度分布模式接近目标照度分布模式。

2.如权利要求1所述的光处理装置，其特征在于：

电流的变化量引起的照度的变化量是基于各位置的面照度求得的左右方向的线照度的变化量。

3.如权利要求1或2所述的光处理装置，其特征在于：

包括用于测量所述照射区域的照度的照度测量部。

4.如权利要求3所述的光处理装置，其特征在于：

所述照度测量部能够沿所述发光区块的排列方向移动。

5.如权利要求3所述的光处理装置，其特征在于：

所述照度测量部包括：在前后方向延伸的带状的受光口；配置成从所述受光口受光的带状的光入射到两个端面以外的一个面，且光从所述两个端面的一个出射的方柱部；和接受从所述方柱部的端面出射的光的照度传感器。

6.如权利要求1或2所述的光处理装置，其特征在于，包括：

监视发光区块的动作状态的LED监视部；和

执行处理部，其执行：

在所述LED监视部检测出包括发光量异常降低或不发光的发光二极管的异常发光区块时，利用照度测量部检测由所述光照射单元形成的照射区域的照度来取得长度方向的照度分布模式的步骤；和

为了使通过该步骤得到的照度分布模式接近目标照度分布模式，利用所述运算处理部基于所述发光区块各自当前的电流指令值和存储于所述存储部中的各发光区块的所述照度分布模式的变化量求取各发光区块的电流指令值的步骤。

7.如权利要求1或2所述的光处理装置，其特征在于：

所述光处理装置是在对形成有抗蚀剂膜的基片用图案掩模进行了图案曝光之后将图案曝光区域曝光的装置。

8.一种涂敷、显影装置，其特征在于，包括：

用于在基片上用涂敷液形成抗蚀剂膜的组件；

对图案曝光后的基片进行显影的组件；

进行组件间的基片的搬运的搬运机构；和

权利要求1～7中任一项所述的光处理装置。