[发明专利]一种发光二极管照明器件在审
申请号: | 201711334881.0 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN108010998A | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 罗艳 | 申请(专利权)人: | 四川九鼎智远知识产权运营有限公司 |
主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12;H01L33/32;H01L33/62 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 詹永斌 |
地址: | 610041 四川省成都市高新*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 照明 器件 | ||
1.一种发光二极管照明器件,其特征在于,包括芯片组件和发光二极管组件;所述芯片组件包括碳化硅衬底、生长于碳化硅衬底的外延层以及设于外延层上的P电极和N电极;所述外延层包括依次层叠的InN缓冲层、AlGaN缓冲层、非故意掺杂GaN接触层、N型掺杂GaN接触层、InGaN/GaN多量子阱发光层、电子阻挡层、P型掺杂GaN接触层以及透明导电层,所述N电极设于所述N型掺杂GaN接触层上,所述P电极设于所述透明导电层上,所述发光二极管组件包括用于固定所述芯片组件的支架、焊线和支架电极。
2.根据权利要求1所述的发光二极管照明器件,其特征在于,所述透明导电层为ITO层。
3.根据权利要求1所述的发光二极管照明器件,其特征在于,所述InN缓冲层的厚度为10-200nm,所述AlGaN缓冲层的厚度为10-100nm。
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