[发明专利]一种二噁嗪衍生物及其制备方法、除草组合物和应用

权利要求书

1.一种二噁嗪衍生物，其化学结构式如通式I所示：

其中，

X代表N，与卤素、烷氧基、烷基、卤代烷基、链烯基或炔基连接的C；

Y代表N，与H、卤素、烷氧基、烷基、卤代烷基、链烯基或炔基连接的C；

R₁、R₂、R₁’和R₂’独立地代表H，氰基，硝基，卤素，羧基，羟基，含有或不含有卤素的烷基、环烷基、链烯基、炔基、烷氧基、链烯基氧基、环烷氧基、烷硫基、链烯基硫基、环烷硫基、烷基酰基、烷氧基酰基、烷基酰氧基、烷基磺酰基，可用烷基、卤代烷基、链烯基、炔基、硝基、羟基、氨基、烷氧基、烷氧羰基、烷基磺酰基、烷基酰基、烷基酰氧基、烷基氨基甲酰基、三烷基甲硅烷基、二烷基膦酰基及未取代或取代的芳基或杂芳基取代的氨基，以及未取代或取代的芳基、芳基酰基、芳基氧基、芳基硫基、芳基烷基、芳基烷基酰基、芳基烷基氧基、杂芳基、杂芳基酰基、杂芳基氧基、杂芳基硫基；

R₃代表卤素、烷氧基、烷基、卤代烷基、链烯基、炔基、环烷基或氰基；

R₄代表H，卤素，氰基，硝基，烷基，卤代烷基，链烯基，环烷基，烷氧基，烷基酰氧基，烷硫基，NR’R”，其中R’和R”独立地代表H、烷基、链烯基、炔基、羟基、卤代烷基、烷氧基、氨基、烷基酰基、烷氧羰基、烷基氨基甲酰基、烷基磺酰基、三烷基甲硅烷基或二烷基膦酰基；

R₅选自卤素，含有或不含有卤素的C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基，未取代或取代的芳基、杂芳基；

其中，所述“取代的”是指被选自卤素、氰基、硝基、羧基、羟基、烷基、卤代烷基、环烷基、烷氧基、卤代烷氧基、链烯氧基、烷硫基、芳基、芳基氧基、苄基、苄氧基、烷基酰基、酰氧基、链烯基以及可用烷基、芳基、芳基氧基、烷基酰基、酰氧基和链烯基取代的氨基中的一个或多个基团所取代。

2.根据权利要求1所述的一种二噁嗪衍生物，其特征在于，

X代表N，与卤素、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C2-C8链烯基或C2-C8炔基连接的C；

Y代表N，与H、卤素、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C2-C8链烯基或C2-C8炔基连接的C；

R₁、R₂、R₁’和R₂’独立地代表H，氰基，硝基，卤素，羧基，羟基，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C1-C8烷氧基、C2-C8链烯基氧基、C3-C8环烷氧基、C1-C8烷硫基、C2-C8链烯基硫基、C3-C8环烷硫基、C1-C8烷基酰基、C1-C8烷氧基酰基、C1-C8烷基酰氧基、C1-C8烷基磺酰基，可用C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、硝基、羟基、氨基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷氧羰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷基酰基、C1-C8烷基酰氧基、C1-C8烷基氨基甲酰基、三C1-C8烷基甲硅烷基、二C1-C8烷基膦酰基及未取代或取代的芳基或杂芳基取代的氨基，以及未取代或取代的芳基、芳基酰基、芳基氧基、芳基硫基、芳基C1-C8烷基、芳基C1-C8烷基酰基、芳基C1-C8烷基氧基、杂芳基、杂芳基酰基、杂芳基氧基、杂芳基硫基；

R₃代表卤素、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基或氰基；

R₄代表H，卤素，氰基，硝基，C1-C8烷基，卤代C1-C8烷基，C2-C8链烯基，C3-C8环烷基，C1-C8烷氧基，C1-C8烷基酰氧基，C1-C8烷硫基，NR’R”，其中R’和R”独立地代表H、C1-C8烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、羟基、卤代C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、氨基、C1-C8烷基酰基、C1-C8烷氧羰基、C1-C8烷基氨基甲酰基、C1-C8烷基磺酰基、三C1-C8烷基甲硅烷基或二C1-C8烷基膦酰基；

R₅选自卤素，含有或不含有卤素的C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C1-C8烷氧基，未取代或取代的芳基、杂芳基；

其中，所述“取代的”是指被选自卤素、氰基、硝基、羧基、羟基、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C1-C8烷氧基、卤代C1-C8烷氧基、C2-C8链烯氧基、C1-C8烷硫基、芳基、芳基氧基、苄基、苄氧基、C1-C8烷基酰基、C1-C8烷基酰氧基、C2-C8链烯基以及可用C1-C8烷基、芳基、芳基氧基、C1-C8烷基酰基、C1-C8烷基酰氧基和C2-C8链烯基取代的氨基中的一个或多个基团所取代。