[发明专利]对布局进行分解以进行用以转移光掩模图案至光刻胶的多次图案化光刻

权利要求书

1.一种利用对布局进行分解以进行用以转移光掩模图案至光刻胶的多次图案化光刻来形成半导体装置的方法，其特征在于，所述方法包括：

接收代表半导体装置的布局的输入，所述布局包括单元的多条导电线，所述多条导电线中的第一组导电线被所述多条导电线中的第二组导电线上覆；

将所述第二组导电线划分成多个群组，其中第一群组具有与第二群组不同数目的来自所述第二组导电线的导电线；

将被所述第一群组的导电线沿所述第一组导电线与所述第二组导电线的堆叠方向重叠的所述第一组导电线中的导电线指配给第一光掩模；以及

将被所述第二群组的导电线沿所述堆叠方向重叠的所述第一组导电线中的导电线指配给第二光掩模及第三光掩模。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括执行模运算，所述模运算评估表达式，n mod 3，其中n是所述第二组导电线中的导电线的数目。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括定义包围所述第一组导电线的边界，其中当执行所述模运算获得为0或1的值时，对所述第二组导电线的划分会从所述边界的顶部以所述第一群组开始划分所述第二组导电线。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括定义包围所述第一组导电线的边界，其中当执行所述模运算获得为2的值时，对所述第二组导电线的划分是从所述边界的顶部以所述第二群组开始划分所述第二组导电线。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括验证被所述第一群组的导电线重叠的所述第一组导电线中的导电线的图案是否能够利用单个光掩模转移至所述光刻胶。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括验证被所述第二群组的导电线重叠的所述第一组导电线中的导电线的布局是否能够针对双重图案化微影进行分解。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：

在所述半导体装置的形成中，使用所述第一光掩模、所述第二光掩模及所述第三光掩模。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，进一步包括验证被所述多个群组的第三群组的导电线重叠的所述第二组导电线中的导电线的布局是否能够针对三重图案化微影进行分解。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，进一步包括转移所述第一光掩模至所述光刻胶。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，进一步包括转移所述第二光掩模至所述光刻胶。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，进一步包括转移所述第三光掩模至所述光刻胶。

12.一种利用对布局进行分解以进行用以转移光掩模图案至光刻胶的多次图案化光刻来形成半导体装置的系统，其特征在于，包括：

输入接收模块，被配置成接收代表半导体装置的布局的输入，所述布局包括单元的多条导电线，所述多条导电线中的第一组导电线被所述多条导电线中的第二组导电线上覆；

划分模块，耦合至所述输入接收模块且被配置成将所述第二组导电线划分成多个群组，第一群组具有与第二群组不同数目的来自所述第二组导电线的导电线；以及

图案化模块，耦合至所述划分模块且被配置成以被所述第一群组的导电线沿所述第一组导电线与所述第二组导电线的堆叠方向重叠的所述第一组导电线中的导电线将第一光掩模图案化、以及以被所述第二群组的导电线沿所述堆叠方向重叠的所述第一组导电线中的导电线将第二光掩模及第三光掩模图案化。

13.根据权利要求12所述的系统，其特征在于，进一步包括指配模块，所述指配模块耦合在所述划分模块与所述图案化模块之间且被配置成将被所述第一群组的导电线重叠的所述第一组导电线中的导电线指配给所述第一光掩模。