[发明专利]一种集成电路芯片及其保护方法、装置有效

专利信息
申请号: 201710129244.3 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN108535624B 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 永田诚一 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G01R31/28 分类号: G01R31/28;G01R23/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 潘彦君;吴敏
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 集成电路 芯片 及其 保护 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种集成电路芯片的保护方法,其特征在于,包括:

在所述集成电路芯片首次开始工作时,检测所述集成电路芯片的运行频率,作为所述集成电路芯片的初始运行频率;

实时检测所述集成电路芯片的运行频率,作为所述集成电路芯片的当前运行频率;

根据实时检测得到的所述集成电路芯片的当前运行频率、初始运行频率及预设的劣化系数,判断所述集成电路芯片是否将会因劣化而停止工作;

当确定所述集成电路芯片将会因劣化而停止工作时,输出劣化警告信号,且停止所述集成电路芯片的运行;

所述根据实时检测得到的所述集成电路芯片的当前运行频率、初始运行频率及预设的劣化系数,判断所述集成电路芯片是否将会因劣化而停止工作,包括:

比较所述集成电路芯片的初始运行频率和所述劣化系数的乘积与所述集成电路芯片的当前运行频率;

当所述集成电路芯片的当前运行频率小于所述集成电路芯片的初始运行频率和所述劣化系数的乘积时,确定所述集成电路芯片将会因劣化而停止工作。

2.如权利要求1所述的集成电路芯片的保护方法,其特征在于,所述劣化系数与所述集成电路芯片的制造工艺及所述集成电路芯片的运行频率裕量有关。

3.如权利要求1所述的集成电路芯片的保护方法,其特征在于,所述检测所述集成电路芯片的运行频率,包括:

检测为所述集成电路芯片提供时钟信号的振荡器的频率,并将所述振荡器的频率作为所述集成电路芯片的运行频率。

4.如权利要求3所述的集成电路芯片的保护方法,其特征在于,还包括:控制所述振荡器的劣化速度大于所述集成电路芯片的主电路部分的劣化速度。

5.如权利要求4所述的集成电路芯片的保护方法,其特征在于,所述控制所述振荡器的劣化速度大于所述集成电路芯片的主电路部分的劣化速度,包括:

控制所述振荡器的供电电压高于所述集成电路芯片的主电路部分的电压。

6.一种集成电路芯片的保护装置,其特征在于,包括:

检测单元,适于在所述集成电路芯片首次开始工作时,检测所述集成电路芯片的运行频率,作为所述集成电路芯片的初始运行频率;实时检测所述集成电路芯片的运行频率,作为所述集成电路芯片的当前运行频率;

存储单元,适于存储所述集成电路芯片的初始运行频率;

比较单元,适于根据实时检测得到的所述集成电路芯片的当前运行频率、初始运行频率及预设的劣化系数,判断所述集成电路芯片是否将会因劣化而停止工作;

控制单元,适于当确定所述集成电路芯片将会因劣化而停止工作时,输出劣化警告信号,且停止所述集成电路芯片的运行;所述比较单元,包括:

计算子单元,适于计算所述集成电路芯片的初始运行频率和所述劣化系数的乘积;

比较子单元,适于比较所述集成电路芯片的初始运行频率和所述劣化系数的乘积与所述集成电路芯片的当前运行频率;

确定子单元,适于当所述集成电路芯片的当前运行频率小于所述集成电路芯片的初始运行频率和所述劣化系数的乘积时,确定所述集成电路芯片将会因劣化而停止工作。

7.如权利要求6所述的集成电路芯片的保护装置,其特征在于,所述劣化系数与所述集成电路芯片的制造工艺及所述集成电路芯片的运行频率裕量有关。

8.如权利要求6所述的集成电路芯片的保护装置,其特征在于,所述检测单元,适于检测为所述集成电路芯片提供时钟信号的振荡器的频率,并将所述振荡器的频率作为所述集成电路芯片的运行频率。

9.如权利要求8所述的集成电路芯片的保护装置,其特征在于,所述控制单元还适于控制所述振荡器的劣化速度大于所述集成电路芯片的主电路部分的劣化速度。

10.如权利要求9所述的集成电路芯片的保护装置,其特征在于,所述控制单元适于控制所述振荡器的供电电压高于所述集成电路芯片的主电路部分的电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710129244.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top